制备纳米三氧化钨-纳米敏感膜
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- Published on Thursday, 05 February 2015 11:35
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以往纳米三氧化钨的制备主要集中在敏感膜上,其制备工艺也较成熟,它最早于1967年由美国人Shaver报道,而现阶段立志于采用不同制备方法和工艺来提高敏感膜气敏性能,如掺杂、降低敏感膜粒径、表面催化等。
国外研究学者采用溅射法制备了纯的和七种贵金属掺杂的敏感膜,气敏性能测试结果显示,敏感膜对H2S、NO2和NH3表现出很好的灵敏性。同时,在中温(110℃)条件下,Ag和Au掺杂的薄膜适合检测H2S和NH3。外国研究学者在氧气气氛下采用热蒸法制备了三氧化钨敏感膜,其厚度约为20μm。气敏测试结果表明,样品适合在250℃对NO2进行检测,而其对NH3和NO灵敏度不高。同时他们也强调减小晶粒是提高金属氧化物薄膜灵敏度和选择性的重要方法。一些外国研究学者还采用阳极电镀法制备了单斜WO3薄膜并用其对CO、H2、NO和O2气体进行了气敏测试,结果显示薄膜在200℃时出现最高的灵敏度。
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黄色氧化钨的制备
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- Published on Thursday, 05 February 2015 11:27
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黄色氧化钨,是钨的一种氧化物。黄色氧化钨外观呈黄色粉末状。氧化钨被用于生产金属钨粉或复合陶瓷颜料。黄色氧化钨一部分用于生产化工产品,如油漆和涂料、石油工业催化剂等。但氧化物是一种中间产品,大量的氧化钨被用于金属钨粉和碳化钨粉,进而用于生产金属钨制品的生产,并大量应用与生产钨的合金制品。
黄色氧化钨可由很多方法制备:
先用钨酸钙与盐酸反应生成钨酸沉淀,然后钨酸高温分解成为黄色三氧化钨和水。
CaWO4 + 2HCl → CaCl2 + H2WO4
H2WO4 → H2O + WO3
氧化剂存在情况下,仲钨酸铵热分解:
(NH4)10[H2W12O42]•4H2O → 12 WO3 + 10NH3 + 11H2O
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三氧化钨复杂多样的晶体结构与相变(三)
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- Published on Tuesday, 03 February 2015 18:29
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此外,由于存在不同程度的氧空位,WO3结构复杂多变,以WO3-x(x=0~1)形式存在。氧空位数量越多,WO3晶格内部分布越规则,这与面缺陷—切变面(Crystallographic Sheer Planes,简称CS面)的形成有关。当x<0.02时,切变面呈无规则状态分布于各个方向上;当x>0.02时,相邻的WO6沿着切变面排列以消除氧空位,切变面排列呈有序化趋势,故而WO3晶格分布更有规则。切变面排列的有规则程度随x值增大而增加。最终,切变面的完全有序化将导致新的稳定相—WO3-x(x=0~1)Magnell相的形成。
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氧化钨
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- Published on Thursday, 05 February 2015 11:20
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氧化钨是一种钨酸酐,是钨酸盐类产品。氧化钨是从钨矿制取单质钨工业的重要中间体,从白钨矿,钨锰铁矿、钨铁矿等矿物中获得。不溶于水和酸,溶于热碱金属。
氧化钨的化学和物理性质通常依赖于他们的合成路线,在很大程度上,确切的时间和温度决定了氧化钨的物理性质。钨氧化物及其水合物可以使用各种化学合成方法,如“湿法”的化学沉淀、钨醇盐的水解或钨盐的热分解。不同底物上的WO3薄膜也可以用各种真空技术制取。采取相同的方法但其化学或物理条件不同也会影响生成的合成材料的属性。
氧化钨可用于生产化工产品,如油漆和涂料、石油工业催化剂等;同时,氧化钨是一种中间产品,大量的氧化钨被用于生产金属钨粉和碳化钨粉,进而用于生产金属钨制品的生产,并大量应用与生产钨的合金制品,如钨铜、钨镍,钨镍铁、钨银,钨铼、钨钍等。而当代工业领域中应用最为广泛的则是以钨为基材生产的各种牌号和用途的硬质合金产品。
氧化钨具有气体敏感性,用于二氧化氮,氨气等有毒气体的检测。目前已经研制出了氧化钨薄膜气敏传感器和氧化钨的纳米颗粒传感器,而纳米传感器的发现大大的提高了对于低浓度有毒气体的检测。
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三氧化钨复杂多样的晶体结构与相变(二)
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- Published on Tuesday, 03 February 2015 18:24
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1931年,Braekken首先用X射线单晶衍射研究WO3的晶体结构。此后,随着新科技的发明不断应用,WO3的复杂结构逐步得到研究,新的晶相不断被发现。大量科学研究表明,在低温、室温时WO3以单斜晶相、三斜晶相形式存在,而在高温时会出现正交晶相和四方晶相。WO3随温度变化的过程中所经历的晶相结构变化次序为:(1)133K,单斜晶相;(2)223K,三斜晶相;(3)290K,单斜晶相;(4)603K,正交晶相;(5)1013K,四方晶相。在温度达到1103K时,将会出现新的四方相。可以看出在室温时WO3以单斜晶体相结构稳定存在,WO3的对称性随温度升高而逐渐提高。六方晶相WO3是亚稳态,较单斜相WO3稳定性差,但其在200-400℃能稳定存在。另外,相变不仅与温度有关,还与晶粒、外界所加的机械应力等因素有关。
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