本发明提供一种真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法。具体步骤如下：

１）清洗基片；

２）将三氧化钨粉末或粉末压片放入电子束蒸发器真空室的坩埚中，将铂丝放在电阻式加热源上，并将清洁的基片固定在样品架上；

３）用电子束加热使三氧化 钨升华并沉积在基片上。真空镀膜机真空室压力为１０-2~１０-3Ｐａ，真空室温度约２００－３００℃，电子束流０．１－０．２ｍＡ；

４）通过电阻加热蒸镀一层铂催化层。真空室压力５－６．５×１０-3Ｐａ，真空室温度为２００－ ３００℃，阻蒸电流在１２０－２４５Ａ之间。

本发明具有成本低，方法简单，薄膜质量好，均匀，变色响时间短等优点。

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本发明涉介绍一种碳化钨－钢梯度耐磨材料。

其可以通过高能离子向钢中注渗碳化钨（ＷＣ）形成梯度耐磨材料。

目前市场上高铬耐磨钢、铸石、堆焊ＷＣ等耐磨材料均存在使用寿命短，硬度、强度、韧性不兼备的缺点。

本发明通过辉光放电原理，在碳钢或合金钢表层形成ＷＣ，ＷＣ硬化层≥０．８ｍｍ，其中ＷＣ富集层超过０．３ｍｍ。碳化钨－钢梯度耐磨材料抗磨性能通常为淬硬合金工具钢４～１５倍，且具有高硬、高强、高韧等综合性能，满足许多抗磨工况的技术要求。

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本发明介绍一种钨/铜梯度材料。其特征在于：

1）材料设计：Ｗ/Ｃｕ梯度材料的两端分别是Ｗ及Ｃｕ合金，梯度层中Ｗ的体积分布按公式Ｃ＝（ｘ／ｄ）p计算，其中：Ｃ是任意梯度层中Ｗ的体积百分数，ｘ是相应梯度层的位置，ｄ为梯度层厚度，ｐ是成分分布指数，ｐ值范围为０．６－１．８；

2）金属Ｗ层的厚度为１－４ｍｍ，金属Ｃｕ的厚度为１－２ｍｍ；

3）中间过渡层的层数为１－８层；为了提高Ｗ－Ｃｕ间的结合强度，在金属铜中加入５－１０重量百分比的相粘结剂，这些粘接剂是Ｎｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｔｉ和Ｃｒ。

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本发明提供一种钨金属化学气相沉积法中原子层沉积的方法。具体步骤如下：

1）使用一第一反应气体进行化学气相沉积制程，以形成一第一反应气体原子沉积层；

2）将该第一反应气体作用完的剩余气体抽除；3

3）使用一第二含钨反应气体进行化学气相沉积制程，以形成一相对于该第一反应气体原子沉积层的第二含钨反应气体原子沉积层；

4）将该第二含钨反应气体作用完的剩余气体抽除；

5）重复上述1）至4）步骤至少一次，形成循环周期；

6）在上述循环周期中，选择于部分周期重复实施步骤（ｃ）和（ｄ）至少一次。

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