真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法

本发明提供一种真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法。具体步骤如下:

1)清洗基片;

2)将三氧化钨粉末或粉末压片放入电子束蒸发器真空室的坩埚中,将铂丝放在电阻式加热源上,并将清洁的基片固定在样品架上;

3)用电子束加热使三氧化 钨升华并沉积在基片上。真空镀膜机真空室压力为10-2~10-3Pa,真空室温度约200-300℃,电子束流0.1-0.2mA;

4)通过电阻加热蒸镀一层铂催化层。真空室压力5-6.5×10-3Pa,真空室温度为200- 300℃,阻蒸电流在120-245A之间。

本发明具有成本低,方法简单,薄膜质量好,均匀,变色响时间短等优点。

 

 

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