真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法

本发明提供一种真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法。具体步骤如下：

１）清洗基片；

２）将三氧化钨粉末或粉末压片放入电子束蒸发器真空室的坩埚中，将铂丝放在电阻式加热源上，并将清洁的基片固定在样品架上；

３）用电子束加热使三氧化钨升华并沉积在基片上。真空镀膜机真空室压力为１０-2~１０-3Ｐａ，真空室温度约２００－３００℃，电子束流０．１－０．２ｍＡ；

４）通过电阻加热蒸镀一层铂催化层。真空室压力５－６．５×１０-3Ｐａ，真空室温度为２００－３００℃，阻蒸电流在１２０－２４５Ａ之间。

本发明具有成本低，方法简单，薄膜质量好，均匀，变色响时间短等优点。

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