钨合金屏蔽件用于医疗造影
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月17日 星期三 16:47
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由于钨合金材料具有对各种射线的屏蔽本领高的优点,对阻止150keV的γ射线,衰减90%的厚度仅需3mm厚,对X射线也有很强的屏蔽能力,非常适合于对空间分辨率要求高的设备,钨合金屏蔽件可作为CT断层扫描仪的屏蔽件。CT扫描仪可产生X射线,这是一种强大的电磁能。这种较高的能量水平可以使X射线直接穿过人体大多数的软组织。 穿透人体的射线将被,钨辐射屏蔽件吸收,得到的数据传输到计算机利用光影原理进行成像。
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紫色氧化钨氧化钨的生产工艺控制
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- 发布于 2015年6月17日 星期三 16:46
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紫色氧化钨(紫钨)的生产一般是以仲钨酸铵(APT)为原料,在工业回转炉中,通过NH3进行煅烧,由于NH3分解出H2,使得APT在轻度还原性气氛下进行煅烧,逐步分解还原成为紫色氧化钨。
在反应过程中炉温、进料量及炉体转速对紫色氧化钨生产一定的影响。例如在其他反应条件一定的情况下,炉温过高或者进料量过小及在物料炉内的停留时间过长都有可能引起紫钨产品中的APT未完全分解为紫钨W18O49。而这将会导致产品结团甚至结炉,进而影响产品的质量。且经研究发现,当炉温过低时,紫钨形貌为针状晶型,而炉温较高时,紫钨形貌则为棒状晶型。针状与棒状是紫钨的固有晶形。经过实验发现,采用针状晶型的紫钨制取的钨粉更细。用棒状制取的钨粉相对较粗。同时通铵量对生产紫钨也有一定的影响,为了保证炉内的还原性气氛,对于铵的控制也是十分重要的。
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钨合金屏蔽件用于放射治疗
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- 发布于 2015年6月17日 星期三 16:44
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由于钨合金材料具有对各种射线的屏蔽本领高的优点,对阻止150keV的γ射线,衰减90%的厚度仅需3mm厚,非常适合于对空间分辨率要求高的设备,钨合金屏蔽件可作为医疗直线加速器,医疗多页光栅,X线治疗机等医疗器械的屏蔽材料常应用于放射治疗。放射治疗是利用一种或多种电离辐射对恶性肿瘤及一些良性病进行的治疗,放射治疗的手段是电离辐射。放射治疗中最常用的直接电离粒子是电子,最常用的间接电离粒子。放射治疗所用X辐射能 量范围为1-25MV。钨合金放射性治疗屏蔽件可缩小粒子束或光波,使粒子射线沿着特定的方向,即只允许与治疗屏蔽件平行的射线通过,或使空间截面梁体变得更窄从而限制射线量。
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飞机活塞发动机的钨合金配重块
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- 发布于 2015年6月17日 星期三 16:43
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钨合金尾桨配重块
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- 发布于 2015年6月17日 星期三 15:36
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钨合金飞机机翼配重
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- 发布于 2015年6月17日 星期三 15:30
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刻字钨合金镀金金砖
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年6月17日 星期三 11:30
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钨合金镀金金砖,是经过粉末冶金工艺生产,及抛光、打磨、镀金、刻字等后期处理得到的。钨合金镀金金砖具有良好的加工性,可定制不同规格比如1KG,10OZ,500g,100g等,还可以在钨合金镀金金砖表面进行刻字加工,刻字内容可以指定,比如:我爱你,或英文版I Love You,生日如:1991-9-9,公司商标等。
现在随着人们的审美和要求的提高,钨合金镀金金砖的刻字内容,不再局限于简单的数字、字母,还可以根据不同人的要求,设计各种复杂的图案进行刻字。目前常见的刻字图案有福禄寿、花鸟虫鱼、梅兰竹、十二生肖等。独特的刻字内容的设计,使钨合金镀金金砖不仅提高了观赏度,还具有纪念意义和收藏价值。
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钨合金镀金金砖特性
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- 发布于 2015年6月17日 星期三 11:25
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钨合金镀金金砖是由钨、镍、钴等材料经粉末冶金工艺生产,经表面抛光制成,同时进行打磨,镀金等后期加工处理才得到的。因其在经过镀金、刻字加工后具有较高的观赏性,加上钨合金镀金金砖自身优良的特性,越来越受到人们的喜爱。
钨合金镀金金砖的最大特性就是密度高达18.5g/cm3,接近黄金的密度19.3g/cm3。此外,钨合金镀金金砖还具有:
高硬度:硬度高达29HRC min,将近钢的2倍。
耐腐蚀:耐汗渍、酸碱,不易被腐蚀,可永久留存。
环保:不同于铅,钨是绿色金属,无毒无污染。
加工性:可以定制不同尺寸及刻字内容。
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沉积基体位置不同对钨管组织形貌的影响
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- 发布于 2015年6月16日 星期二 19:23
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沉积基体位置不同对钨管的组织形貌有明显的影响。
在靠近气体出口端位置,测温区域与沉积温度比较靠近,但由于受前期沉积反应的影响,WF6和H2的浓度降低,HF的浓度增加,所以,还原生成钨原子的速度下降;测温区域的晶粒明显比沉积组织的晶粒细小;靠近气体出口端的钨管厚度明显变薄。
在靠近气体入口端位置,由于受通入气体的影响该位置的沉积温度相对较低,所以,此位置获得沉积层显微组织柱状晶相对细小,沉积生长速度也相对较慢。
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钨管的制取实验(CVD)
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- 发布于 2015年6月16日 星期二 19:17
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实验材料:高纯氢气,高纯氩气和高纯六氟化钨和沉积基体:紫铜管。
实验过程(CVD):
对沉积基体表面进行去污、丙酮清洗、吹干处理,然后将其置于反应室内。
为避免氢气与空气混合发生爆炸,应先通入氩气排空反应室和所有管道的空气。待空气排空后,打开氢气流量针阀通入氢气并将排出的尾气点燃,然后关闭该阀;
对沉积基体进行电流加热,使其达到所需的沉积温度;
把WF6和H2按一定比例混合后,通过流量控制设备通入反应室;
WF6和H2在沉积基体表面发生化学反应,得到难熔金属沉积层;
在一定的反应时间后,关闭加热电源、反应气体的控制阀,使反应室降温;
待温度降到100℃以下后,取出试样,经过切割,去除沉积基体后获得钨管。
通过改变沉积温度、气体流量可获得不同工艺的钨管,然后再对其进行测试分析。
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