整体硬质合金小模数全切式滚刀主要用于各类金属和非金属小模数齿轮加工，在加工时它的顶刃、测刃以及底刃均参与切削工作。一般地，整体硬质合金小模数全切式齿轮滚刀的径向间隙与同模数齿轮的径向间隙大小相同。

加 工时，整体硬质合金小模数全切式滚刀可对加工件齿轮、齿形和齿顶同时进行切削，有效的保证了齿轮顶圆，分度圆，根圆的同心度。同时齿轮厚度在加工中可通过 顶圆测量来控制，大大缩减了小模数齿轮检查时间，提高了生产效率。特别地，整体硬质合金小模数全切滚刀的齿厚与齿轮精度等级、齿轮侧间隙和齿数相关联。


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硬质合金定位四刃铰刀主要用于对尺寸精度和形位公差有特定要求时的孔加工中使用，此时的加工孔直径小于15mm且长度是直径的10倍左右。与普通铰刀相比，硬质合金定位四刃铰刀不仅有效的保证了孔加工的精度，同时也把扩孔和铰孔两项技术相结合。

在实际应用中，由于普通铰刀在铰孔加工中若采用钻模以两侧轴承孔定位钻孔，再配以钻头扩孔和两侧分别铰孔的工艺，时常出现同轴度、平行度差的问题。针对以上问题，硬质合金定位四刃铰刀自带定位和扩孔功能，在铰孔前取消了钻头扩孔的工序进而采用钻模，从而使得加工件的同轴和平行度得到了相应的保证。

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整体硬质合金小模数滚刀主要用于小模数齿轮加工，适用于各类金属和非金属材质工件。按照齿轮制造工艺的不同它的齿形型式包括全切式和非全切式。它们的主要区别在于齿根高度，齿厚和齿根圆角半径的不同。

整 体硬质合金小模数全切式滚刀，在加工时包括顶刃、测刃以及底刃均参与切削，且它的底齿可以可通过切削去除被加工齿轮的齿顶余量。非全切式滚刀在切削时只有 顶刃和侧刃参与，底刃不参与。在测量齿厚时，整体硬质合金小模数全切滚刀的测量基准是刀具齿形的齿顶，非全切式滚刀则是通过刀具齿形的齿底。特别地，全切 式滚刀的齿根半径圆弧也参与切削，因此它们二者的齿根圆弧半径也不相同。


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钨合金镀金金币是由钨，镍，筒等粉末通过粉末冶金工艺进行混合压制烧结，同时进行后期镀金、刻字等加工工艺得到的，极具观赏性。

钨合金镀金金币具有高密度特性，密度为18.5 g/cm3，与真金相近，因此常被用作黄金的替代品在银行及金行进行展示，这是钨合金镀金制品最普遍的用途。替代黄金进行展示，可以避免盗窃事件发生，造成巨大的损失。

钨合金镀金金币有着良好的加工性，除了镀金加工外，还可以进行刻字加工，刻字内容包括了数字、字母及简单图案，同时也可以定制刻字内容，比如企业LOGO，人物头像，祝福语等，使钨合金镀金金币成为有特殊意义的纪念品和礼物。与以往传统的礼盒、摆饰相比，钨合金镀金金币作为礼品更具新意。

钨合金镀金金币是环保产品，钨合金具有无毒无污染的特性，对环境对人体健康都是无害的，也是因为这一特性，钨合金镀金金币备受人们的青睐。


 

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整体硬质合金小模数滚刀主要用于小模数齿轮加工，可加工的齿轮数为国标5-7级，适用于各类金属和非金属材质工件。按照齿轮制造工艺的不同它的齿形包括全切式和非全切式。



目 前常用整体硬质合金小模数滚刀的类型按照直径大小可分为φ25、φ32和φ40，它们对应的模数分别为0.4-1.0mm （φ25），0.4-2.0mm（φ32），0.4-2.0mm（φ40），加工精度等级包含三种：AAA级，AA级以及A级。特别 地，为了提高刀具的切削性能以及使用寿命，根据加工件的类型和刀具用途，整体硬质合金小模数滚刀可增加TiN，TiAlN涂层等。


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由晶相检验结果可知，外来的杂质颗粒会严重影响CVD 钨管的表面粗糙度。杂质颗粒越大，影响越显著。

沉积层在有杂质颗粒存在的地方呈现放射状的柱状晶。

当杂质颗粒存在沉积基体表面时，因为杂质颗粒的存在，该部位反应气体的流动状态会发生改变，导致该部位的生长速度较快，从而获得横向生长空间，而且，这种优势还会进一步扩大。并且，最终会导致沉积表面粗糙度增大。

沉积生长晶粒间的相互干涉也会影响CVD 钨管的表面粗糙度。为改善钨管表面的光滑度，可采用在沉积过程中间断通入六氧化氟的方法。


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钨管的表面粗糙度受沉积温度的影响显著，其粗糙度随沉积温度的升高而增加。

当沉积温度从600℃升至700℃时，钨管的表面粗糙度明显加大。所以，沉积温度应控制在600℃左右，以获得表面光洁、平整度良好的沉积钨管。

钨管的表面粗糙度主要受膜层生长表面形貌和沉积层组织的影响。若是沉积生长界面（呈现柱状晶）的稳定性较好，则膜层表面的平整度是最好的。随着温度升高到一定程度，被还原的W原子会在沉积生长界面再次形核并继续生长，也就是说，高温导致沉积层显微组织和沉积生长界面发生改变，最终导致钨管的表面粗糙程度增加。


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氟化物（WF₆）CVD（化学气相沉积）与氯化物CVD的对比发现，氟化物CVD钨管的优点如下：

杂质含量低。大多数金属氟化物的沸点＞1000℃。所以，在恒温条件下（20-28℃左右），WF₆蒸发阶段，WF₆能够实现其与其他大部分伴生杂质的分离。

还原反应：WF₆ + H₂ → W + 6HF (125Kj/mol)

一个标准大气压下，该反应在300℃以上就能够实现；在600℃时，该反应的平衡常数已接近1。

因为该反应所需的反应温度较低，所以可以使用一般的加热设备（如不锈钢等），这使得加热设备的制作和实际操作方便了许多。即氟化物CVD方法制取钨管阶段的选择性相对较多。

 

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反应源气体：WF₆  
还原气体：H₂     
沉积基体：紫铜管
气压条件：常压下     

CVD（化学气相沉积）钨管工艺原理：
首先，在恒温条件下，加热WF₆并待其气化后，将其通入气体混合室中使其与氢气充分混合，然后再将其通入反应室。

通过加热紫铜管使温度上升至所需的沉积温度。

WF₆和H₂在紫铜管表面发生化学反应，WF₆被还原为W原子。这些W原子会在紫铜管表面聚集形核并长大，最终形成钨沉积层。

WF₆和H₂反应的化学反应式如下：

WF₆ + H₂ → W + 6HF (125Kj/mol) 

用气体吸收装置吸收被排出反应室的未发生反应的WF₆、H₂的剩余气体和生成的HF。


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