CVD 钨管的表面粗糙度的影响因素

详细资料: 分类：钨业知识; 发布于 2015年6月17日星期三 18:49; 点击数：1482

由晶相检验结果可知，外来的杂质颗粒会严重影响CVD 钨管的表面粗糙度。杂质颗粒越大，影响越显著。

沉积层在有杂质颗粒存在的地方呈现放射状的柱状晶。

当杂质颗粒存在沉积基体表面时，因为杂质颗粒的存在，该部位反应气体的流动状态会发生改变，导致该部位的生长速度较快，从而获得横向生长空间，而且，这种优势还会进一步扩大。并且，最终会导致沉积表面粗糙度增大。

沉积生长晶粒间的相互干涉也会影响CVD 钨管的表面粗糙度。为改善钨管表面的光滑度，可采用在沉积过程中间断通入六氧化氟的方法。

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