硬質合金刀具CVD塗層技術的發展
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硬質合金左旋鑽頭簡介
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硬質合金鑽頭鑽孔方法
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區別硬質合金鑽頭和高速鋼鑽頭
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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝影響因素-沉積時間
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沉積時間對於摻雜鎢絲電鍍鉻工藝也具有很大的影響。以下在固定電流密度為8-10A/d㎡，電解液溫度為55℃的基礎上，分析鍍層厚度與電鍍時間的關係。
表1-1 電鍍時間對鍍層厚度的影響
| 時間（h） | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 |
| 厚度（μm） | 50 | 78 | 96 | 110 | 170 | 180 |
從以上表格數據可以看出，鍍層的厚度與沉積時間成正比關係，電鍍3h即可獲得厚度不低於90μm的鍍鉻層。試驗中還發現，電鍍3h的鍍層光亮，緻密；但當電鍍時間超過3h後的鍍層表面光亮度變差，這可能是因為隨著電鍍時間的增加，鍍液靠近陰極部分的pH值升高，形成了一些鉻的氫氧化物的緣故。因此，沉積時間選擇3h為宜。
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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝影響因素-電流密度
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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝，除了受到溫度因素的影響之外，還受到電流密度因素的影響。以下在固定電解液溫度為55℃，電鍍時間為3h的基礎上，分別在不同陰極電流密度下進行電鍍，從而進一步分析得到的鍍層厚度與電流密度的關係。
表1-1電流密度對鍍層厚度的影響
| 電流密度（A/d㎡） | 8 | 10 | 12 | 14 | 16 |
| 厚度（μm） | 50 | 80 | 90 | 97 | 170 |
一般來說，電鍍時，在其他工藝條件相同的情況下，隨電流密度增大，鍍層厚度不斷增加，即陰極沉積速率不斷增大，但表面品質變差。從以上表格數據可以看出，隨著電流密度的升高，鍍鉻溶液陰極效率增加，電流密度在8-10A/d㎡範圍時，陰極沉積速率增加較快；電流密度在10-14A/d㎡範圍內，陰極沉積速率增加緩慢；當電流密度大於14A/d㎡時，陰極沉積速率增加很快。試驗中還發現，當電流密度低於8A/d㎡時，鍍層色澤較暗；當電流密度大於10A/d㎡時色澤由光亮過渡到乳白色；當電流密度處於8-10A/d㎡範圍內，可獲得光亮、緻密且保證一定厚度的鍍層。因此，應將電流密度控制在8-10A/d㎡。
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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝影響因素-溫度
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摻雜鎢絲電鍍鉻工藝是以摻雜鎢絲作為陰極，經過電鍍後，摻雜鎢絲表面可獲得100μm的金屬鉻鍍層，且鍍層表面光亮，耐蝕性與摻雜鎢絲之間的結合力良好。在此電鍍過程中受到一定因素的影響，以下主要介紹影響因素-溫度。
溫度是電鍍工藝中一個重要的參數，在摻雜鎢絲表面鍍鉻，固定電流密度為8-10A/d㎡、電鍍時間為3h，以下通過表格數據分析溫度對摻雜鎢絲電鍍鉻工藝的影響：
| 溫度（℃） | 35 | 40 | 45 | 50 | 55 | 60 |
| 厚度（μm） | 80 | 85 | 130 | 110 | 87 | 70 |
從以上表格數據可以看出，當溫度＜45℃時，鍍層的厚度隨溫度的升高而增加；當溫度為45℃時，鍍層厚度達到最大值；當溫度大於45℃時，鍍層厚度隨溫度的升高問減小，這主要是由於隨溫度的升高，雖然有利於提高電流效率和高電流密度區覆蓋能力，但是鍍鉻溶液的陰極效率會降低。此外，溫度對鍍層外觀及品質也會產生很大的影響。溫度低時，電結晶過程較慢，陰極極化較大，有利於提高鍍層結晶細緻程度，但色澤較暗；溫度高時，陰極極化較小，鍍層表面較疏鬆，呈乳白色。
綜合考慮溫度對鍍層表面品質和鍍層厚度的影響這兩方面因素，為了獲得光亮、緻密的鍍層，同時保證鍍層有一定的厚度，應將電鍍溫度控制在55℃為宜。
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