（3）ガスセンサー

環境のカスは材料の性質に影響するの表現形式で、一般的に言えば、材料のガスの性能である。Shaverまず三酸化タングステンフィルムに水素ガスおよび（H 2及びその他N2H4、NH3、H2Sなど）ガス性能を報道した。近年来、三酸化タングステン材料は、他のガス特に、窒素酸化物ようになどの有毒ガスも良い敏感の特性がある。三酸化タングステン材料にNOとH2Sなどの有毒ガスの敏感な性能は実際にこれらのガスの検出が可能になり、極めて重要な応用の価値がある。この方面の仕事はシステムの深化を展開し、自動車排ガスモニタリングなど実用化される見込みだ。

（4）光分解水で水素電極材料を作る

日本の学者はFujishimaとHondaは60年代末からに光n -型半導体エネルギー電極、水の分解を生み出す水素この現象を発見して、明らかに太陽エネルギーを利用して分解水水素製造の可能性を示す。太陽エネルギー分解水で水素材料をつくるのは以下のいくつかの条件に満足しなければならない。材料の電解液で酸腐食で、材料が光腐食を耐えることができる。最も肝心なことは材料は適当な禁制帯幅がある。禁制帯幅が低すぎて水分解させることができなく、禁止帯幅が高すぎて、材料は太陽の光の中の紫外光を吸収するしかなく、効率が低すぎる。酸化タングステンフィルム材料は上記条件にを見事に満足できる。だから、太陽光分解水が水素を作る分野で優れた見通しがある。

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三酸化タングステンフィルムは優れた電界変色の性能で、電界変色の分野で広く応用される。同時に、人々は三酸化タングステンフィルムには他の多くの優れた性能があることを見つける。以下では簡単な紹介する。

（1）光変色

三酸化タングステンフィルムは紫外線の照射で、ブルーになることができる。そして、加熱の条件では無色状態まで回復し、三酸化タングステンフィルムはとても良い光変色の材料を表明する。光変色材料は光の情報記憶、生物分子活性の光のコントロール、露光計、自現像感光フイルムと立体撮影材料、光計算、偽造防止と装飾材料、プリント基板、偽装材料と鑑偽などの分野で用いる。以下はその光ホログラムメモリの面での応用を例に簡単な説明する。

光変色材料がバレた時、光変色のフィルムの屈折率が変わり、特に波長と吸収スペクトル非共鳴を記録する時、膜の内部の屈折率は著しい変化を生むことができる。この時、光変色材料は位相型記録材料をみえる。光変色材料は無顆粒と広いダイナミックレンジの特徴があり、解像度は1記録に光の波長の制限だけである。そして、記録の光出力を十分に強く、乾式や湿式現像を採用する必要はありませんし、光だけでホログラムを記録することができる。

（2）触媒分解

近年、半導体の酸化物の光触媒は新しい汚染対策技術として、ますます重視される。他の方法により、その方法は高効率省エネ、クリーン毒性がなく、二次汚染がないと工芸が単純ななどの特徴がある。汚水の処理と生活用水の深さ処理などの方面は広大な応用の見通しがある。三酸化タングステンの禁制帯幅が低く、可視光を利用して良い分解の効果を達成することができる。環境保護及び持続可能な発展の要求に、これは一つの意義を持つの研究と応用の領域である。

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つまり、もし何らかの方法で発射率の動的調節を行って、いつでも目標の赤外線放射の特性を変わることができる。そして、目標は外部環境の変化の「赤外カメレオン」をつくることができて、その応用の範囲は拡大を得ることができる。現在、国内外の研究の仕事は物質発射率の制御に関連する。これと同様の研究で、電界変色の部品を研究するの仕事がもっと多くて、主に可視光帯に集中する。

電気の磁界の基本的な理論から出発して、材料の発射率と材料の屈折率は密接な関係があることが知っている。同時に、材料でキャリア濃度に関係がある。材料のキャリアの濃度が変わる時、材料の発射率も変わる。三酸化タングステンのキャリアの注入と抽取を通じて、三酸化タングステンの赤外分光反射率の変化を発見することができる。フィルムのキャリア濃度の変化により、材料の赤外線スペクトル反射率や放射率の変調を行う。フィルムのキャリア濃度によっていくつかの電気の化学の手段を控え、現在この制御は実験室の中で行うしかない。実用的な機能の部品は全固体の電界が発射率デバイスで、多層膜作製複合の手段を完成して、これは未来の電界放射率が部品の発展方向である。

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絶対温度がゼロないの物体は赤外線放射を存在している。物体の赤外線放射は二つの要素を決定する。つまり、物体表面材料の発射率と物体の表面の温度である。物体の赤外線放射率というのは、オブジェクトの指定温度T時の放射線量は、同じ温度太字の相応する放射線量の比率であうる。放射率が大きいほど、物体の放射能力がもっと強い。物体の温度は一定の情況の下で、物質の表面の放射率が大きいほど、その赤外線放射能力も強い。現在の場合に見ると、会えるの材料はその放射率は基本的にはすべて固定的で、各媒体の発射率が高く、金属などの良導体の発射率がより低い。

多くの場合で、目標の赤外線放射がコントロールを必要する。たとえば衛星の熱の制御、建物の省エネ対策、太陽エネルギーの利用、保温、軍事の目標赤外線放射の制御などの方面である。もし目標の赤外線放射率を抑えることができれば、うまく目標の赤外線放射もコントロールする。

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三酸化タングステンフィルムと過渡のメタルは準位高低差の影響があり、二つの物質は接触で異制結を形成する。また、混じりけ形成の格子欠陥が余集合電子が小極子を形成する。二つのメカニズムの共同作用によるキャリヤ移動率を高めて変化が発生して、三酸化タングステンの性能を高める。

金属混じりけを採用して優れた三酸化タングステンフィむるの性能の応用はきわめて広範である。よく使うドーピングの遷移金属はクＣｒ「24、25」、T1「26、27」MO「28」などである。伝統的混じりけ物質のほか、他の新型物質でも使用することができて、まじりけ優れた三酸化タングステンフィルムもできる。例えばプラズマ機能化の多層カーボンナノチューブを利用して、WO3フィルムを修飾させる。もっと大きな表面積があり、ガスとWO3の反応はより大きな有効の接触面積を提供する。三酸化タングステンフィルムの最適化の綿密な研究を展開するに連れて、学者があって希少金属や非金属原始を用いて、三酸化タングステンフィルムの性能を高める。同時に、まじりけの過程の中でいろいろな物質を採用することができて共同にまじりて、まじりけ物質の最適化を総計しさらに三酸化タングステンフィルムを改善される。

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タングステン粉末は生産する硬質タングステン合金とタングステンの加工材料の原料から、タングステン粉の粒度と粒度の分布が厳しく要求がある。タングステン粉末を生産する時に、タングステン粉の粒度を抑えるのは鍵になっる。

タングステン粉末は影響の要素が多くて、まず工芸の制作での還元の温度、温度勾配、水素の流量と水素の湿度である。次は原料の方面、原料の粒度と不純物の含有量の大きさである。工芸の調製する方面で還元の温度が高く粗い顆粒のタングステン粉を生産に適する。

細い顆粒のタングステン粉を生産するのは大半が二つの還元法を採用して、第一回の還元温度が低く、第二回の還元は高温を採用する。そして、水素ガスの流量の方面で、水素流量に増大する水蒸気の適時の排出に有利で、還元反応の速度速めて、細い粒のタングステン粉を得やすい。また、舟積み量も重要な影響の要因で、舟積み量が多くは層の奥深くの水素材料に浸透しにくく、細い粒のタングステン粉を得に役立たない。原始の素材と不純物はタングステン粉の影響も大きく、三酸化タングステンの比表面積が大きくてと不純物は粗いのタングステン粉末を得られるかもしれない。

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薄膜型式の三酸化タングステンは新型の機能材料の一つで、知能窓、大面積のフラットパネル、ガス敏素子などの分野では、広く応用の見通しがある。しかし、三酸化タングステン変色フィルムは欠点が存在していると、例えば色褪せないと敏感性が高くないなどの欠点なので、多くの応用で制限される。

三酸化タングステン変色フィルムは新しい材料ですが、まだ一定の欠点が存在している。だから、一定の最適化を行って、後日にもっと普遍的な応用されることができる。複合フィルムは優れた三酸化タングステンの新型の方法である。複合フィルムは異なる成分を構成し、成分と成分の間に界面を形成して、界面はインタフェイス材料に対して全体の性能に決定的な影響を持っている。

調製するナノ三酸化タングステン複合フィルムはをインターフェースに荷重伝送の変化や複合材料のインターフェースにWO3薄膜ミクロ構造の影響を借りて三酸化タングステンフィルムの変色性能をを改善する。主にWO3の無機物複合フィルム、WO3 の有機複合フィルムである。WO3の無機物複合フィルムは人工の手が二層構造で、つまりWO3フイルムは無機物の上を覆われ、二重膜による帯粒子の移動効率の変化はWO3フィルムの変色性能が明らかな最適化の作用がある。そして、WO3の有機複合フィルムはWO3で有機的に導入しWO3の安定性と柔軟性をを高めることができる。WO3と基板はより結合で、フィルムを形成しやすく、その抗外部の破壊能力を強める。また、フィルムの比表面積を増大し、三酸化タングステンフィルムの変色性能に優れた。

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ナノ三酸化タングステンはメジャーの表面の効果があり、重要な触媒活性材料の一つである。それはとても良い触媒性能を持って、主触媒はできて、輔触媒にもできる。かつ相応の反応が高いの選択がある。

研究に関するを経た後に、人々が発見した三酸化タングステンは還元や混じりして活性成分を入って、またはを改性などを行って、その触媒の性能を高める。三酸化タングステンは自分の解媒の性質と物理化学的性質にアニール温度、作製方法の影響に受けて、水素脱硫の過程で、NOxの選択の触媒還元作用、アルケンの転位の作用などを用いる反応する。

また、タングステン基の酸性能は異性化パラフィンを応用するをことができる。三酸化タングステンは光触媒で新型の解媒の分野である。現在多くの異なる半導体材料は光触媒に使用されて、水で氢と酸素を分解する。三酸化タングステンの光の転化率は高くはないが、高純度の三酸化タングステンの調合技術が簡単に、接近UVや発光区には光が強い吸収性がある。だから、各種の電解質で長時間の安定をを維持することができる。これらによって三酸化タングステンは光触媒として良く性能を現れる。

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経済と社会の発展に従って、環境汚染の問題は日に日に深刻で、特に水汚染はもう人類が直面している重大な挑戦である。抗生物質は現在の水汚染の中に大きな比重を占める。その分解が難しく、環境中に絶えずに蓄積してから、生態環境と人間の健康に深刻を脅かす。ナノ材料の技術は関するエネルギーの問題と環境問題を解決するから、ますます注目されている。

ナノ半導体材料は良好な光触媒活性があるので、解媒の水の中の汚染物質の分解を広範に応用される。ナノ三酸化タングステンはその中の一つの重要なの半導体材料で、それは良好な光触媒の性能を持つ。