水分子は三酸化タングステンナノワイヤーの電気運送に影響する

三酸化タングステンナノワイヤーと電極の間の接触はオーム接触の際、違い湿度の下で、三酸化タングステンの電気の運送にとして違い影響を受ける。

三酸化タングステンナノワイヤーは水蒸気吸着する後に、水分子の中での陽子は電子を引き付けて、電子はナノラインの表面が集まりを引き起こす。そして、電子は表面へ集まった後、ナノワイヤーと電極このインターフェースの電荷の酸素空位を誘導する。また、相対湿度の増大につれて、誘導した酸素も増えて、接触界面のナノワイヤーはN型半導体から一転P型ドーピング半導体までに変える。N型半導体と電極の接触し、障壁のショットキダイ接触p型半導体を形成する。だから、私たちは相対湿度を通して三酸化タングステンナノワイヤの伝導性能を抑える。

最終的に述べたように、水分子はナノ線の表面を吸着して、しかも数が増えにつれて、表面に吸着集まった電子が増えて、体内の自由電子の数を低下する。それに従って、相対湿度の増加に従って、ナノは自体の伝導が低い。また、吸着したナノライン表面の水分子は散乱中心をとして、電子の移動率を下げることで、最終的には電気輸送の能力に影響する。

 

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三酸化タングステンの用途- OLEDの緩衝層

OLEDというのは電気ルミネセンスのデバイスで、このデバイスは潜在力が十分にあるが、現在で広範な注目を受けたし、実際の応用を得ました。研究者はOLEDデバイスの発光効率を高めて、発光の光度、パワーデバイスの使用寿命を延長するなどの方面で大量の研究を行った。高性能のOLEDデバイスを実現するために、電圧を動かすのは必要である。このデバイスは常用の陽極材料はITOで、またIWOとNPB層の間に三酸化タングステンフィルムを挿入し緩衝層になる。このデバイスのエレクトロニクス性能を変える。

また、三酸化タングステンフィルムを挿入しない緩衝層になるのデバイスにとして対照的で、電圧は8Vを」加える時、2つのデバイスは輝き始める。電圧は15Vを追い越す後、緩衝層があるのデバイスの発光輝度が急速に増えて、電圧は20V時、緩衝層を挿入しないデバイスの亮度は8791cd /㎡である。しかし、緩衝層を挿入しのデバイスが17360cd/m2である。明らかに、三酸化タングステンフィルムの緩衝層を加入するのデバイスは発光の明るさに有効を高める。

最終的に述べたように、OLEDデバイスが三酸化タングステンフィルムの緩衝層を挿入する時、電圧を増加するにつれて、デバイスの電流の密度も増える。そして、三酸化タングステンフィルムの作用の下でその電流の密度が急速に成長して、それによってデバイスの仕事の効率を提高める。

 

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三酸化タングステンの繊維を調製する-テンプレー法

管状の三酸化タングステンナノファイバーはガス敏センサーを作ることができる。感度が高いし、安定性がよく、常温で仕事の美点がある。この形状の三酸化タングステン繊維はガス敏センサー分野で見通しを展示された。

管状の三酸化タングステン繊維はテンプレート法を用いて調製することができる。テンプレート法が良好な制御性を利用して、その空間の制限作用を用いるとテンプレート剤の作用に対してデバッグ合成材料の大きさ、容貌、構造と配置などを制御する。

テンプレート法は管状の三酸化タングステン繊維を調製して、まずタングステンをタングステン源にして、タングステン容器は容器に放置してオキシドールとエタノールを攪拌する。オキシドールとエタノールとタングステンは結合で、三酸化タングステンゾルを調製する。そして、AAOのテンプレートは三酸化タングステンゾル内で30minし、脱イオン水で洗って、空気中に30minを放置する。最後に550℃の環境の中で6hを熱処理で、乾燥して三酸化タングステンの繊維を得ることができる。

三酸化タングステンの繊維

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三酸化タングステンの繊維を調製する-ガス固成長法

三酸化タングステンの繊維を調製する-ガス固成長法を用いる。ガス-固成長法は、1つまたは複数の反応物で、高温区で加熱を通して蒸気を形成する。そして、惰性気流で反応器の低温区あるいはを急速に冷え込みになって蒸気が沈澱させ、三酸化タングステンの繊維を調製する方法を成長になる。

触媒を使用しないの場合で、タングステン粉は管式炉内の650℃の高温区、W基片は管式炉内の400℃の低温区において、加熱して反応し、蒸気を形成した後、加熱炉内へアルゴンを加入する。そして、このガスの雰囲気の中で加熱する引き続け、上記の蒸気は沈澱する。調製した後、直径は10-50nm、長さが約500-1500nmで、断面はリングや多角形の三酸化タングステンの繊維を得られる。

ガス固生長法を応用して調製するの三酸化タングステンの繊維は、感度が高い、安定性がよく、常温で仕事の長所がある。そして、調製した製品は広範な工業の加工領域の需要を満たす。

三酸化タングステンの繊維

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三酸化タングステンの触媒剤を調製する

負荷の三酸化タングステンの触媒を調製するの工芸はほとんどOCTの工芸に基づいて、このプロセスは主にブテン- 1異性は生成する2 -ブテンや2 -アルブチンとビニルい化制アクリルの2つの段階を含む。採用の異性触媒はMgOで、触媒は三酸化タングステン(WO3)である。

負荷の三酸化タングステンの触媒剤を調製する時、三酸化タングステンとブテン- 1の2ブテン原料として反応を行ってエチレンを作る。MgOとWO3と一緒に使う時、MgOはブテン- 1異性を2ブテンになることを促すことができるだけではなく、反応の活性化も増加する。調製する過程の中で、まず三酸化タングステンとブテン- 1の2ブテン原料とビニル中の含酸素化合物を固定床アルミナ(表の面積は約200-500㎡/ g)をのぞって、そして異性触媒Mgo後原料に異性化段階(MgO表面積>1㎡/ g)を入れる。反応の前に、触媒剤はまず含んで酸素の気流高温の活性化30hごろでり、不活性ガスは吸着の酸素分子を除く。そして、最適化によって反応温度を通して、液時空速と循環などの条件は反応して負荷型の三酸化タングステンの触媒剤を得る。

三酸化タングステンの触媒剤

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三酸化タングステンフィルムの光電極を調製する

三酸化タングステンフィルムの光電極の調整するのは陰極の電着法を採用する。電解液の中では0.025Mのタングステン酸ナトリウム、0.03Mのオキシドール(30%)と0.05Mの硝酸(65%)を構成する。溶剤は水である。イソプロパノール=7:3、電着は三電極体係を採用し、Pt電極は対電極にして、飽和カロメル電極(SCE)を参照電極、きれいに洗い、酸化インジウム錫(ITO)導電ガラスを仕事電極である。

電着の調製の過程で温室の条件を行って、含むの0.025Mのタングステン酸、0.03Mのオキシドール(30%)と0.05Mの硝酸(65%)の電解質は電着をする。また、電圧は0.6Vで、沈澱時間は1hで、靑い無定型の三酸化タングスンフィルムを得られる。そして、空気の中で乾かした後、無定型の三酸化タングスンフィルムはマッフル炉の中を置く。この時期の加熱速度が約2℃/ minで、450℃の環境で焼きなまし3hを処理して、最後に三酸化タングステンフィルムの光電極を得られる。

三酸化タングステン

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する-WO3の用量

ケトンは重要な化学工業の原料であり、主にカプロラクタムとアジピン酸を生産に用いる。また、塗装、インク、セルロース、合成樹脂、合成ゴムおよびシンナーなどを用いる。無相転移剤、無酸性リガンドの条件の下で、30%のオキシドールは酸素の源として、メタノールは溶剤にして、単独では三酸化タングステンを使ってシクロヘキサノール合成キクロハイケンワンを触媒する。解媒の過程に、いずれも分離しやすく、解媒を克服するの欠点がある。

解媒の過程の中で、三酸化タングステンの用量は製品の収率に対して一定の影響がある。三酸化タングステンの用量は0.50mmol時、溶液の酸性が低く、活性中心の数が少ないため、ケトンの収率は低い。しかし、触媒剤の使用量を増加に伴って、溶液の酸性が強化し、活性中心の数も増える。また、三酸化タングステンの用量が1mmolに増える時、反応に必要な活性中心数を提供することができて、ケトンの収率は73.5%に達する。しかも、三酸化タングステンの使用量は再び増加に従って、ケトンの収率は明らかに高めしない。だから、三酸化タングステンの用量の過程の中で、無限量の触媒剤の用量を増加するのはケトンの収率をを上げられなく、三酸化タングステンの量を抑えるべきだ。そして、0.50mmol-1mmolを維持して、ケトンの生産量を確保する。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する-反応時間

三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、違う反応時間もケトンの収率に一定の影響がある。

表1で、反応時間はケトンの収率に影響する

    反応時間/h

  WO3の用量/mmol

      ケトンの収率/%

            1

                1

              26.7

            2

                1

              65.1

           3

                1

             73.5

          5

                1

             74.3

         3

                1

             55.3

        3

                1

             74.6

以上の表のデータを見抜くことができて、三酸化タングステンの触媒剤の使用量が一定の時に、反応時間は1hから3hまでに至る時、ケトンの収率が大幅に向上し、73.5 %に達する。そして、反応時間を再び増加して、ケトンの収率の変化がはっきりしない。一定の反応時間に達する時、この反応が十分果すうだけである。また、反応時間は3hに達する時、反応係が平衡に傾いて、すでに最大の転化率に達成する。明らかに、反応時間はケトンの収率に影響を与える。高い生産能力のケトンを得られる他名に、反応時間は3hを設定するべきだ。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する-オキシドール量

三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、オキシドールの使用量はケトンの収率に一定の影響がある。

表1はオキシドール用量はケトンの収率に影響する

オキシドール用量/mL

  WO3の用量/mmol

 ケトンの収率/%

    15

      1

   26.7

    15

      1

   65.1

    15

      1

   73.5

    15

      1

   74.3

    10

      1

   55.3

    20

      1

   74.6

以上の表のデータを見抜くことができて、三酸化タングステンの触媒剤の使用量が一定で、オキシドール量の増加に従って、ケトンの収率が増える。オキシドールの用量は15mL時に、ケトンの収率は73.5 %に達した。そして、オキシドールの使用量を再び増加して、ケトンの収率は緩やかに増加する。したがって、オキシドールの用量は増加すぎて、ケトンの収率があまりさらに高めない。だから、オキシドールの使用量は15mLに維持するべきだ。

 

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製する要因に影響する―メタノール使用量

三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、適切な溶剤を选択するには反応が非常に重要なことである。だから、違い溶剤はケトンの収率の影響をシステムに考察する。表1中のデータを見抜くことができて、メタノールは、この反応のベスト溶剤である。

表1違い溶剤はケトンの収率に影響する:

               溶剤

溶剤がない

  メタノール

    エタノール

   アセトン

      ケトンの収率/%

      73.5

     88.0

        65.2

    61.2

表2メタノール用量はケトンの収率に影響する:

      メタノール用/mL

       ケトンの収率/%

    反応時間/h

                 5

                  88.0

             3

                10

                  84.1

             3

                15

                 65.8

             3

表1から見ると、メタノールはこの反応の最高の溶剤である。メタノール使用量はケトンの収率の影響をさらに考察する。また、表2のデータから見抜くことができて、メタノール使用量の増加に伴って、ケトンの収率は次第に低下する。メタノール使用量の増加につながるため、反応物の濃度が低下し、ケトンの転化率を下げて、それによってケトンの収率も低下する。だから、5mLはメタノールの最高用量である。

 

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