三氧化钨（WO₃）掺杂薄膜是一种优良的氢敏材料，因其具有良好的电致变色、气致变色、光致变色、电化学性能而得到广泛的研究和应用，尤其是其气致变色性能在气体传感器方面有广阔的应用前景。在铂（Pt)、钯(Pd)等稀有金属的催化下，WO₃薄膜对H2在常温下就具有良好的气致变色效应，是一种重要的功能材料。

用溶胶凝胶法和直流磁控溅射法相结合制备的掺Pd（或Pt）三氧化钨薄膜的晶化温度比纯的三氧化钨薄膜晶化温度高，在460℃下退火处理后才有少量的晶态结构存在；分光光度计测试结果表明：纯WO₃凝胶薄膜有很高的透光率（>90%），但掺钯或掺铂后薄膜透光率下降明显；且在相同条件下制备的掺钯的薄膜比掺铂的薄膜的透光率要高些；掺铂薄膜样品在100℃、200℃、300℃、400℃、500℃退火处理后的透光率随着退火温度的升高，薄膜透光率逐渐降低，这与不掺杂的三氧化钨薄膜具有相同的性质。

三氧化钨基掺Pt（Pd）薄膜的制备建立在溶胶凝胶法和直流磁控溅射法相结合的方法，在钨酸溶胶的制备中，加入H₂O₂、乙醇能增强钨酸溶胶的稳定性。当H₂O₂与钨酸的摩尔比为1：2，乙醇与钨酸体积比为1：2时，溶胶的保存时间较长，成膜质量可以起到保鲜效果。
三氧化钨表面在100℃退火处理后变得比较平整，其分子呈四面体结构，三氧化钨分子转变为立方体结构在经过400℃退火处理后表面变的更加平整，三氧化钨分子转变为立方体结构。

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制备三氧化钨（WO₃）所使用的水热法和水浴法同属溶液法，其特点是实验成本少，能耗低，制取的材料结晶度和纯度高等优点成为制备WO₃的首选。现代纳米材料科学与技术的应用在一定程度上增强材料某些方面的性能，亦或使其表现出一些意想不到的性质。在此基础上，以水热法为实验方法，以纳米和三氧化钨为材料，制备纳米三氧化钨。

以Na₂WO₄•2H₂O为原料，CTAB和草酸为辅助剂，采用水热法和水浴法分别制取了团聚较为严重的单斜相立方颗粒状纳米WO₃、块状WO₃•H₂O和分层花状WO₃•H₂O。经过烧结处理后，WO₃•H₂O转变为WO₃，并保持了原有的块状和花状形貌。对三种形貌样品的气敏测试表明，其最佳工作温度都为300℃，且花状结构表现出最高的灵敏度，对影响反应过程的各项因素进行了分析，可得其主要归因于WO₃•H₂O的不易团聚的三维结构且分层多孔。在此基础上，可以初步得到水热法制备纳米三氧化钨的原理。

研究结果表明：
（1）以Na₂WO₄•2H₂O为原料，CTAB和草酸为辅助剂有利于改变反应速率，将反应时间由原来的24h以上缩短至8h以内。
（2）含有碱性的水热法下也能够制得纳米三氧化钨产品，所需要pH范围拓展至3.5～8.9之间。
（3）所制得的纳米三氧化钨具有不易团聚的三维结构且分层多孔，颗粒的粒径平均尺寸都在1μm左右。
（4）以三氧化钨为添加物的产品具有较好的分散性，而且WO₃在气敏传感、电致变色、化学催化以及电化学等方面都表现出的优异性能。

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