制备三氧化钨掺杂薄膜
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2016年1月06日 星期三 17:44
- 作者:qiongyao
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三氧化钨(WO3)掺杂薄膜是一种优良的氢敏材料,因其具有良好的电致变色、气致变色、光致变色、电化学性能而得到广泛的研究和应用,尤其是其气致变色性能在气体传感器方面有广阔的应用前景。在铂(Pt)、钯(Pd)等稀有金属的催化下,WO3薄膜对H2在常温下就具有良好的气致变色效应,是一种重要的功能材料。
用溶胶凝胶法和直流磁控溅射法相结合制备的掺Pd(或Pt)三氧化钨薄膜的晶化温度比纯的三氧化钨薄膜晶化温度高,在460℃下退火处理后才有少量的晶态结构存在;分光光度计测试结果表明:纯WO3凝胶薄膜有很高的透光率(>90%),但掺钯或掺铂后薄膜透光率下降明显;且在相同条件下制备的掺钯的薄膜比掺铂的薄膜的透光率要高些;掺铂薄膜样品在100℃、200℃、300℃、400℃、500℃退火处理后的透光率随着退火温度的升高,薄膜透光率逐渐降低,这与不掺杂的三氧化钨薄膜具有相同的性质。
三氧化钨基掺Pt(Pd)薄膜的制备建立在溶胶凝胶法和直流磁控溅射法相结合的方法,在钨酸溶胶的制备中,加入H2O2、乙醇能增强钨酸溶胶的稳定性。当H2O2与钨酸的摩尔比为1:2,乙醇与钨酸体积比为1:2时,溶胶的保存时间较长,成膜质量可以起到保鲜效果。
三氧化钨表面在100℃退火处理后变得比较平整,其分子呈四面体结构,三氧化钨分子转变为立方体结构在经过400℃退火处理后表面变的更加平整,三氧化钨分子转变为立方体结构。
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