刻字钨合金镀金金币

钨合金镀金金币是由钨,镍,筒等粉末通过粉末冶金工艺进行混合压制烧结,同时进行后期镀金、刻字等加工工艺得到的,极具观赏性。

钨合金镀金金币具有高密度特性,密度为18.5 g/cm3,与真金相近,因此常被用作黄金的替代品在银行及金行进行展示,这是钨合金镀金制品最普遍的用途。替代黄金进行展示,可以避免盗窃事件发生,造成巨大的损失。

钨合金镀金金币有着良好的加工性,除了镀金加工外,还可以进行刻字加工,刻字内容包括了数字、字母及简单图案,同时也可以定制刻字内容,比如企业LOGO,人物头像,祝福语等,使钨合金镀金金币成为有特殊意义的纪念品和礼物。与以往传统的礼盒、摆饰相比,钨合金镀金金币作为礼品更具新意。

钨合金镀金金币是环保产品,钨合金具有无毒无污染的特性,对环境对人体健康都是无害的,也是因为这一特性,钨合金镀金金币备受人们的青睐。


 

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整体硬质合金小模数滚刀

整体硬质合金小模数滚刀主要用于小模数齿轮加工,可加工的齿轮数为国标5-7级,适用于各类金属和非金属材质工件。按照齿轮制造工艺的不同它的齿形包括全切式和非全切式。



目 前常用整体硬质合金小模数滚刀的类型按照直径大小可分为φ25、φ32和φ40,它们对应的模数分别为0.4-1.0mm (φ25),0.4-2.0mm(φ32),0.4-2.0mm(φ40),加工精度等级包含三种:AAA级,AA级以及A级。特别 地,为了提高刀具的切削性能以及使用寿命,根据加工件的类型和刀具用途,整体硬质合金小模数滚刀可增加TiN,TiAlN涂层等。


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CVD 钨管的表面粗糙度的影响因素

由晶相检验结果可知,外来的杂质颗粒会严重影响CVD 钨管的表面粗糙度。杂质颗粒越大,影响越显著。

沉积层在有杂质颗粒存在的地方呈现放射状的柱状晶。

当杂质颗粒存在沉积基体表面时,因为杂质颗粒的存在,该部位反应气体的流动状态会发生改变,导致该部位的生长速度较快,从而获得横向生长空间,而且,这种优势还会进一步扩大。并且,最终会导致沉积表面粗糙度增大。

沉积生长晶粒间的相互干涉也会影响CVD 钨管的表面粗糙度。为改善钨管表面的光滑度,可采用在沉积过程中间断通入六氧化氟的方法。


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CVD 钨管的表面粗糙度

钨管的表面粗糙度受沉积温度的影响显著,其粗糙度随沉积温度的升高而增加。

当沉积温度从600℃升至700℃时,钨管的表面粗糙度明显加大。所以,沉积温度应控制在600℃左右,以获得表面光洁、平整度良好的沉积钨管。

钨管的表面粗糙度主要受膜层生长表面形貌和沉积层组织的影响。若是沉积生长界面(呈现柱状晶)的稳定性较好,则膜层表面的平整度是最好的。随着温度升高到一定程度,被还原的W原子会在沉积生长界面再次形核并继续生长,也就是说,高温导致沉积层显微组织和沉积生长界面发生改变,最终导致钨管的表面粗糙程度增加。


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CVD钨管---氟化物与氯化物的对比

氟化物(WF6)CVD(化学气相沉积)与氯化物CVD的对比发现,氟化物CVD钨管的优点如下:

杂质含量低。大多数金属氟化物的沸点>1000℃。所以,在恒温条件下(20-28℃左右),WF6蒸发阶段,WF6能够实现其与其他大部分伴生杂质的分离。

还原反应:WF6 + H2 → W + 6HF (125Kj/mol)

一个标准大气压下,该反应在300℃以上就能够实现;在600℃时,该反应的平衡常数已接近1。

因为该反应所需的反应温度较低,所以可以使用一般的加热设备(如不锈钢等),这使得加热设备的制作和实际操作方便了许多。即氟化物CVD方法制取钨管阶段的选择性相对较多。

 

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CVD钨管工艺原理

反应源气体:WF6  
还原气体:H2     
沉积基体:紫铜管
气压条件:常压下     

CVD(化学气相沉积)钨管工艺原理:
首先,在恒温条件下,加热WF6并待其气化后,将其通入气体混合室中使其与氢气充分混合,然后再将其通入反应室。

通过加热紫铜管使温度上升至所需的沉积温度。

WF6和H2在紫铜管表面发生化学反应,WF6被还原为W原子。这些W原子会在紫铜管表面聚集形核并长大,最终形成钨沉积层。

WF6和H2反应的化学反应式如下:

WF6 + H2 → W + 6HF (125Kj/mol) 

用气体吸收装置吸收被排出反应室的未发生反应的WF6、H2的剩余气体和生成的HF。


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化学气相沉积(制备钨管)的优点

因为采用CVD制备钨管具有众多优点,所以其受到冶金工业等相关人士的关注。

化学气相沉积的优点:

相比粉末冶金工艺,CVD(化学气相沉积)工艺较为简单化且稳定,可实现一次成型,因而避免了烧结、冲压、锻造等工艺过程。

沉积速度快且效率高。因为难熔金属具有原子半径大、高熔点等特性,所以不适合采用PVD(物理气相沉积)等制备技术---沉积效率低。

绕镀性好。因而可以沉积获得形状复杂的、组织致密的或是大型的零件和涂层。也容易实现管道内壁亦或是容器内壁的膜层沉积,还可以实现多层膜沉积和多组元合金膜层沉积。

沉积膜层的纯度高、致密度好且可以精确控制多组元合金膜层成分。


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影响细颗粒紫色氧化钨的因素(2)

经过研究发现影响紫色氧化钨颗粒大小的因素有原料(APT)的粒度大小和生产工艺条件。生产工艺条件包括还原温度、升温速度、水蒸气与氢气压比、料层厚度和反应时间等。首先是水蒸气与氢气分压比的影响,水蒸气与氢气的分压比越大,则产物的粒度越大。这主要是因为氢气湿度大能形成挥发性含水氧化钨的形成,这些氧化钨容易在较细的颗粒上覆盖,使得颗粒粒度增大。其次是升温速度的影响,经实验发现要制取细颗粒粉末升温速度不宜过快,在管式炉中进行还原时,升温速度取决于炉内温度梯度和推舟速度,故减小炉内温度梯度和推舟速度均有利于得到细颗粒紫钨。而还原的温度对紫钨颗粒的影响主要是还原温度越高则产物的粒度越大。同时还原时间也在一定程度上对紫钨的颗粒产生影响,还原反应时间越长颗粒粒度越大。最后是料层的厚度,料层厚度越大,则产物颗粒度越大。

 

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影响细颗粒紫色氧化钨的因素(1)

随着研究的发展,超细颗粒作为一种新材料,在现代工业和科技中的应用越来越广泛。紫色氧化钨(紫钨)具有特殊的特性和结构,因此在制备超细钨粉方面得到了许多的青睐。在制备超细钨粉的时候,不仅工艺条件的控制很重要,同时原料颗粒的大小也对钨粉的制备产生了一定的影响。所以研究影响紫钨颗粒大小的因素很重要。
紫钨是通过将一定量的仲钨酸铵装舟,推入还原炉高温区,同时通入一定比例的氢气和水蒸气混合体,加热至一定温度后,经过一定时间的保温后冷却出炉制得的。

在反应过程中对紫钨粒度大小影响的因素有原料(APT)的粒度大小和生产工艺条件。生产工艺条件包括还原温度、升温速度、水蒸气与氢气压比、料层厚度和反应时间等。经过实验发现,紫钨与原料粒度的相互关系是原料粒度越小得到的紫钨粒度越小。

 

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硬质合金球齿低压热等静压工艺

在硬质合金球齿烧结过程之后,球齿内部会出现一些孔隙,这会影响到它的性能。因此减少硬质合金球齿内部孔隙是提高其性能的重要因素。在20世纪60年代,美国的肯纳金属公司首次将热等静压工艺应用于生产硬质合金球齿中去。这种工艺减少了硬质合金球齿内部的孔隙,提高了它的密度和韧性,延长了它的使用寿命。

然而,热等静压工艺的生产设备昂贵,生产效率低,使得生产成本提高。为了解决这些问题,些研究者把真空烧结和热等静压术结合起来形成低压热等静压工艺,它最大限度地提升了硬质合金球齿的性能。硬质合金球齿内部的孔隙大大减少,消除了硬质合金球齿表面的粗晶粒,防止其成分改变。由此提高了其力学性能。

 

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