真空蒸发用钨加热子就是在真空中把蒸发物质加热到相当高的温度，使其达到汽化状态，这时蒸发物质以直线轨迹飞向衬底，并在衬底表面凝积成一层薄膜，这个过程就叫做蒸发淀积。为了确保蒸发物质能有效地沉积在荧光屏上，必须使蒸发物质的平均自由程大于蒸发源到衬底的距离。因此蒸发的过程必须在一定的蒸气压下进行。铝具有有延展性，常制成棒状、片状、箔状、粉状、带状和丝状。在潮湿空气中能形成一层防止金属腐蚀的氧化膜。

首先打开镀膜机，将真空室的真空抽到高真空达5×10-5托以上，对蒸发物质进行预熔，然后再打开充氩。蒸发距离为6.5厘米，被蒸镀物质的面积直径为5.5厘米。可以在真空室内电极上面加上一个钟罩和支撑板。这种小面积蒸发镀膜的方法，每次只能镀一个荧光屏。这种方法镀出来的铝的质量比较好，但是效率不高，一次只能镀一个荧光屏，而且镀膜的面积比较小，而且还不均匀。是由于蒸发镀膜距离较低，荧光屏不能承受太高的温度，所以只能快速蒸发。

直接在2×10-1托的真空条件下蒸发镀黑铝。蒸发材料为5条铝，每条长0.8厘米，钨绞丝加热子总长8.5厘米，直径0.5毫米，当蒸发镀膜室的真空达到2×10-1E的时候，先将铝丝进行预熔，然后再向真空室放入空气，将真空度调到2×10-1E。在这样的真空条件下进行蒸发镀膜。

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一般真空蒸发的速率，均匀性，膜层厚度和真空蒸发和钨加热子的形状，尺寸都有很大的关系。蒸发源与工件的距离由蒸镀时真空的程度和所需要蒸发膜的厚度等其他因素决定。当蒸发距离为6.5厘米的时候，由于蒸镀距离比较近，膜层会不均匀，并且每次只能镀一个荧光屏，工作效率不够高，且不能满足大面积屏的要求。一般在研究工作中都要求荧光屏的数量要足够多，且黑铝又要求其均匀度要达到标准。所以要把原来的6.5厘米的蒸发距离加大到28厘米，这样蒸发面积的直径就能达到26.5厘米，把所要蒸发的铝条增加6个点，每个点之间的距离控制在0.5厘米，每条铝丝的长度为1.8厘米，钨绞丝加热子的直径为0.7毫米，总长为15厘米。这样就能制备出大面积膜层，且均匀度达标。

黑铝可以用薄膜厚度测量仪和光学薄膜控制仪来测量和控制膜层的厚度。这两种仪器都可以用来测量薄膜的厚度，但是光学薄膜厚度控制仪测量的比较准确。厚度根据管子的试验，采用50%的透过率为最佳，这样的厚度不会影响入射电子能量，也不会影响荧光屏的分辨率。

除此之外，镀膜真空室内要保持清洁，当镀完后要用无水乙醇擦净。真空室内各零件准备下次在用。镀膜时要注意真空度是否稳定，达到所要求的真空度时并选择合适的蒸发速度，最好是快速蒸发，这样蒸镀后的膜层质量好，均匀度好且光泽好。

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