溅射镀膜法可分为直流溅射、射频溅射、反应溅射以及磁控溅射四种比较常见的方式。

 

直流溅射法，是最为简单的溅射方法，预镀材料为阳极、基片为阴极，通入氩气后在两极之间加入高压直流电，氩离子在高压电场作用下获得动能轰击靶材料，靶材产生溅射，沉积与基片表面性能薄膜。直流溅射法的结构简单而且容易获得大面积薄膜，但是直流溅射法所选的靶材料只能为金属或者低电阻率的非金属，而且基片的工作问题过高，薄膜的沉积时间长。

 

射频溅射法，在直流溅射的基础上将直流高压电改为交流电压，与直流溅射法相比射频溅射法具有一个突出的优点，可以溅射包括绝缘体、半导体、导体在内的任何材料。

 

反应溅射，在直流溅射与射频溅射的基础上，通入反应气体，如氧气、水、氨气等混合一定比例的氩气，溅射出的原子与反应气体发生化学反应生成化合物，沉积氧化物、碳化钨、硫化物等各种化合物薄膜，氧化钨薄膜的制备就是采用氧气作为反应气体、钨为靶材。以上三种溅射方式虽然理论上已经能制备出多种种类的薄膜如金属、非金属、导体与非导体、化合物薄膜，但是这三种方法仍存在制备时基片的温度过高，薄膜沉积的时间长和辐射损伤大等缺点。

氧化钨薄膜具电致变色、气致变色、热至变色、光致变色光催化剂性能，因此应用于多领域之中，前景十分宽阔。氧化钨薄膜的前景十分可观，制备方式也受到许都学者的关注，目前比较常用的制备氧化钨薄膜的方式有，溅射镀膜法、蒸发法、化学气相沉积法、溶胶-凝胶法，不同方式制备出的氧化钨薄膜在性能上会有所区别，制备方式的工艺难易程度也各不相同。

采用溅射镀膜法制备氧化钨薄膜时，在设备中通入氩和氧的混合气体，靶材料为金属钨，氩离子在电场的作用下，获得动能去轰击金属钨，靶材料表面溅射出金属钨原子，钨原子与氧气发生反应变为氧化钨并且沉积在基片表面，形成氧化钨薄膜。

 

钨在我国的储量居世界之首位，在我国冶金工业中占有重要地位。仲钨酸铵是生产金属钨的主要原料，目前工厂用萃取法或离子交换法生产，前者是将钨精矿用碱煮（或碱熔）后分部除去硅、磷、砷，加入Na2S使Mo成为MoS3沉淀，然后将清液调pH至2-3，用叔胺萃取。反萃用NH4OH。因此，澄清槽里会经过pH=6的阶段。这时APT会析出结晶从而导致难以正常操作。这一问题难从配方解决，因此有通过加强搅拌使结晶再溶解或改进澄清槽内部结构几何形状的做法。离子交换法虽然不需除P、As、Si但不能除去钼，因此往往选用含Mo量低至一定规格的钨精矿。此法虽可直接用碱性料液，但由于交换量小必须先将料液稀释至含WO3 25g/L以下，再加上淋洗用水量也大，因此pH10-13的碱性废水排放量非常大，废水处理成为一种负担，而且这两种方法的废水中的钨无法回收。

 

乳液型液膜的概念是N.N.Li在1968年提出的，它吸引了各国的研究者。由于它在迁移机理上模拟了生物膜的活性迁移，可使物质逆浓度差高度富集。它是将萃取和反萃取结合在一个体系里同时进行的过程，其反应是在极薄的表面积极大的液膜界面上进行，再加上在膜相加有载体，因此其动力学优势远胜于溶液本体中进行的反应，传质速率、效率以及选择性均胜于萃取过程。目前这一新技术正向单元操作发展，国际上首次开始工业应用的是奥地利格拉茨工业大学用于从废水回收锌，其次是华南理工大学环境科学研究所用于废水除酚。

 

目前乳化液膜的主要技术关键是膜的稳定性和破膜技术。对于膜的稳定性在液膜萃取和破膜阶段要求是不同的, 前者要求膜稳定性高而后者则希望稳定性低, 目前对液膜的稳定性和寿命还不易控制3 破膜技术与有机相的复用及回收内相有关, 它直接影响液膜法的经济效果, 不同配方的液膜破膜效果不一样, 因此破膜技术还需要进行试验研究。对于表面活性剂和载体的研究, 也直接影响着液膜的技术和经济效果。另外, 在工业废水处理中, 由于膜组分的溶解可能会造成二次污染, 这些问题都可在液膜的研究和发展中进一步解决。

 

用钨细泥或钨精矿碱熔后所得粗钨酸钠溶于水作为料液调pH至8～9除去杂质硅后,不需除去磷、砷、钼于室温下直接进行实验室一级间歇式液膜迁移,,按正交设计的最佳操作条件,5min 内在内水相直接得到仲钨酸铵（APT）结晶。提取率为99.85％,纯度达到一级品标准。文中对各种影响因素进行了深入研究,提出了一级连续逆流流程,成本低,是有前途的新方法。