硬质合金棒检测

硬质合金棒检测

硬质合金棒有着高耐磨性,高强度,高抗腐蚀性,高硬度和高密度的特征。硬质合金棒应用主要有钻头,立铣刀,和铰刀。它也可用于切割,冲压和测量工具。它被用于造纸,包装,印刷,有色金属加工行业。此外,它还广泛用于加工高速钢刀具,硬质合金铣刀,硬质合金刀具,硬质合金钻头,电子刀具,阶梯钻,金属切割锯,枪杆子,硬质合金旋转锉等等。硬质合金棒目前主要采用人工检测方式,这需要大量的时间,人力物力和财力,测试结果往往不精确且不稳定。当前硬质合金棒的市场需求量猛增,因此对于硬质合金棒的检测技术的问题亟待解决。为了解决这个难题,很多厂商正在寻求自动化的检测设备已提高检测结果的稳定性和精确性。


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钨溅射靶材在工模具镀膜上的应用

钨溅射靶材由钨粉制成,常用的溅射钨靶材的类型有平面靶型、电弧靶型和旋转靶型。溅射钨靶材可运用于工模具镀膜、玻璃镀膜亦或是耐高温、耐磨、耐腐蚀的高档装饰用品等行业。
钨溅射靶材在工模具镀膜上的应用:

随着航空航天、汽车产业的发展和制造业的技术水平、生产效率的提高,人们对刀具、模具的性能要求提高了,由此,具有高性能的钨溅射靶材自然受人们的青睐。目前,欧美国家和日本对镀膜的工模具需求较大。据统计,发达国家的该项需求比例已超过90%,而我国对镀膜的刀具的需求量在日益上升。

工模具镀膜主要用于对工具、模具的镀膜。工模具镀膜之后,其表面将得到强化,使用也会寿命提高,简而言之,就是各方面的性能都将得到加强。

常用的工模具镀膜材料有:钛、铝、钨等。


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钨溅射靶材在装饰镀膜上的应用

钨溅射靶材由钨粉制成,常用的溅射钨靶材的类型有平面靶型、电弧靶型和旋转靶型。
溅射钨靶材可运用于玻璃镀膜亦或是耐高温、耐磨、耐腐蚀的高档装饰用品等行业。

钨溅射靶材在装饰镀膜上的应用:

随着人们生活水平的日益提高,越来越多的人们要求对日用品进行装饰镀膜以美化这些物件的色彩和提高它的耐磨、耐高温、抗腐蚀等性能。

装饰镀膜指的是:在手表、手机、戒指、手链、项链、耳环、眼镜等产品的表面镀膜。

常用的装饰镀膜材料有:钨、钛、镍、不锈钢、铝等。


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溅射钨靶材的应用

钨溅射靶材由钨粉制成,常用的溅射钨靶材的类型有平面靶型、电弧靶型和旋转靶型。

溅射钨靶材应用:
溅射钨靶材可运用于玻璃镀膜亦或是耐高温、耐磨、耐腐蚀的高档装饰用品等行业。

溅射靶材主要用于电子信息产业,例如,太阳能电池、半导体、信息存储器、电子控件、集成电路等。

近年来,全世界的电子信息等高科技产业都在飞速发展着,因此,溅射钨靶材的需求也在逐年增加,这为我国靶材制造业的生存与发展带来了新的机遇和挑战。


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功能梯度结构硬质合金刀具

功能梯度结构硬质合金刀具是指硬质合金刀具的不同位置横断面上,其化学成分呈规律性和不均匀性分布。其成分的梯度变化可以对硬质合金刀具的不同部位赋予不同性能,有利于硬质合金刀具解决其自身存在的硬度与韧性的矛盾问题,从而使其获得优异的综合性能。



功能度结构硬质合金刀具可以用于非常苛刻的工作条件中,在国外已经有相关产品投入生产使用当中。在中国,功能梯度结构硬质合金刀具已有十多年的研究,但关键核心技术与装备尚未完全突破,其仍将是今后的研究重点。


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硬质合金刀具锌熔法

目前国内外回收硬质合金刀具中钨资源的主要方法有熔炼法、机械破碎法、电解法,熔炼法又包括硝石法和锌熔法,这里主要介绍硬质合金刀具锌熔法。

硬质合金刀具锌熔法的回收原理为高温下锌与硬质合金中的钴形成锌钴合金,锌浸入钴基体引起膨,再经真空蒸馏除锌,则硬质合金刀具变成疏松多孔体,然后破碎研磨得到碳化钨-钴混合粉末。

硬质合金刀具锌熔法的优点在于工艺流程短,成本低,效率高,能耗低,缺点在于需要特殊的设备和技术。
 

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硬质合金刀具中钨资源回收

硬质合金刀具中钨资源回收是非常必要的。一方面,我国钨资源的可持续发展任务异常艰巨。我国的钨资源总体储量大,但我国以黑钨矿开采为主的格局尚未根本改变,黑钨矿资源储量下降速度过快。按现有的开采速度,10 年左右,我国现有储量的黑钨将损耗殆尽。



另一方面,硬质合金刀具中钨资源回收的必要性体现在全球超过 50% 的钨资源用于制造硬质合金,而硬质合金刀具是硬质合金材料的主要应用方式之一。我国是世界上硬质合金刀具生产大国,硬质合金刀具由于具有高硬度、耐磨性、热硬性、优良的耐蚀性、抗氧化性等特点,使得它在现代刀具材料领域占有举足轻重的地位。我国超过 40%的硬质合金用于硬质合金刀具的生产,而硬质合金刀具的生产消耗了大量金属钨。因此,硬质合金刀具中钨资源回收的重要性是不言而喻的。
 

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溅射钨靶材简介

钨溅射靶材由钨粉制成,常用的溅射钨靶材的类型有平面靶型、电弧靶型和旋转靶型。

因为靶材的质量会直接影响薄膜的性能,所以溅射钨靶材需满足以下要求:

纯度高;靶材的纯度越高,溅射喷膜的效果-膜的电学及光学性能会越好,耐腐性也越强。一般,半导体器件和显示器等对靶材的纯度要求较为严格,例如,用于磁性薄膜的钨靶材的纯度要求一般在99.9%以上。

致密度高;

晶粒尺寸小;

杂质含量低;靶材作为溅射中的阴极,主要污染源来自气孔中的的氧气、水和固体中的杂质等。杂质含量越低,纯度就越高。

成分与组织结构均匀。


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钨靶材的特性

钨靶材也叫钨溅射靶材,具有熔点高、弹性好、膨胀系数低、电阻率和热稳定性良好等特性。

钨粉经 喷涂、烧结等生产工艺后,制成钨靶材,这种钨靶材具有以下特性:

密度:≥99%;

平均透明纹理的直径:≤100um;

含氧:≤20ppm;

偏转角力:在500Mpa左右;

可以通过提高未加工金属粉末的生产,提高烧结的能力使钨靶材的成本稳定在一个低价位,并有质量保证。传统的压制烧结方法无法达到新型烧结的高水准的透明框架和改善偏转角力致使颗粒物显著的减少。



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钨靶材的生产工艺

钨靶材也叫钨溅射靶材,由钨粉制成,已被广泛应用于X-射线管、薄膜材料、半导体集成电路、医疗和熔炼设备、稀土冶炼、航空等领域。

通过金属熔炼、粉末冶金、非金属粉末方法,运用真空熔炼、普通热压、冷压烧结等方法成型。

钨靶材的生产工艺:

通过锻造、热轧或冷轧,再经过热处理消除型材应力并使之均质化或通过高温烧结增加其致密性。

对处理过的型材进行车、铣、刨、磨等机加工过程。

清洗、烘干。

有时根据需要对某些靶材地面金属化后进行与无氧铜背板的绑定。

最后经过超声波或者X光等检测,包装。


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