溶液过饱和度对仲钨酸铵物理性质的影响 2/3

1、起始WO3浓度
有文献指出:仲钨酸铵的松装密度随着溶液中WO3浓度的降低而增大,当WO3浓度降低到一定程度时,仲钨酸铵的松装密度变化不明显。这表明,溶液中WO3浓度较高时,过饱和度大,晶核形成速度快,结晶颗粒不易生长;当溶液中WO3浓度较低时,蒸发过程中溶液的饱和度变化不明显,其饱和度小,有利于晶核长大;但当WO3浓度太低时,过饱和度太小,晶核与溶质分子的接触机会少,晶粒生长受到影响。溶液过饱和度△c降低,导致晶体生长速率(rm)和成核速率(rN)减小,但是,两者的减慢程度不同。假设rN减慢程度>rm,表明晶核生成相对较少,而生长基元消除相对较多,此时,有利于制取粗颗粒仲钨酸铵。
 
2、NH4Cl浓度
NH4Cl的加入,使得溶液中的NH4+离子浓度增大,聚合反应以及多相反应平衡向右移动,导致仲钨酸铵溶解度下降,△c升高。已知,仲钨酸铵过饱和度升高对APT成核速率的影响大于对晶体生长速率的影响,因此,加入NH4Cl,仲钨酸铵结晶粒度往往会变细;但是,不掺入NH4Cl的情况下,仲钨酸铵生成的相变反应速度加快,相变反应速度低,地域宽,△c升高慢,受s控制的时间长。同时,随着NH4+离子的增多,同离子效应增强,其反作用的盐效应增大得更快。
 
有学术文献认为,溶液中的NH4Cl浓度越高,越容易得到细小不均的晶体。因为NH4Cl的存在以及同离子效应使得蒸发结晶反应向右移动,也就是说,在同等条件下,溶液的过饱和度增大,晶核形成速率加快,细小晶粒大量生成。原始氯化铵浓度由越高,得到的仲钨酸铵颗粒越细,这可能是因为溶液中存在有可能被晶粒吸附,但不与结晶构成其他物质。这类杂质被吸附到晶面,遮盖了晶体表面的活性区域,使晶体成长速度减慢,有利于获得更小颗粒的晶体。

溶液过饱和度对仲钨酸铵物理性质的影响,请见以下网址
http://news.chinatungsten.com/cn/tungsten-information/81971-ti-10652
微信:
微博:

溶液过饱和度对仲钨酸铵物理性质的影响 1/3

溶液搅拌过饱和度用浓差推动力△c(△c=c-c0)【其中c为溶液过饱和浓度,即溶液主体浓度;c0为溶解度饱和浓度,即平衡饱和浓度】。有学术认为仲钨酸铵晶体生长过程分为:非基元反应、结晶介质扩散和界面反应三个步骤。某一时刻的瞬间过饱和度△c决定于结晶过程过饱和生成(聚合反应)和消除(相变反应)的差值。与△c相关的线性生长速率(r1)和质量生长速率(rm)可定量反映它们的变化关系:
r1=K1△c1, (k1位线速率常数)
rm=Km s△c1, (km为质量速率常数,s为已有晶粒总表面积)
故,rm=kms2√ri/k1
结晶全过程及仲钨酸铵过饱和生成和消除速度的变化经历3个阶段,如右图:
                                                         
由图可知,阶段Ⅰ:诱导期,rm=0,仲钨酸铵结晶过程过饱和生成速度增大,△c1不断升高。阶段Ⅱ:出现晶核,rm>0,过饱和生成速度始终大于消除速度,相变反应为结晶过程的限制性环节。反应前期,由于s较小,△c依然升高,相变反应有s控制。随着s增大,由r1表征的△c达到最大值后开始下降,相变反应由△c控制。阶段Ⅲ:由于s增大,过饱和消除速度与生成速度相等,rm出现最大值。rm值随过饱和生成速度等量下降,聚合反应为结晶过程的限制性环节。显然,此阶段的rm值同时可作为过饱和生成速度的量度。
微信:
微博:

 

涂层硬质合金工艺技术

涂层硬质合金在原有的化学气相沉积法(CVD)以及物理气相沉积法(PVD)的基础上加以改进,发展出了一些新的涂层技术。

1.化学气相沉积(CVD)

化学气相沉积法(Chemical Vapor Deposition, CVD)始于二十世纪七十年代,它是半导体工业中应用最为广泛的技术,也适用于大多数金属以及合金材料。简单来说,它的原理就是将两种或两种以上的原材料以气态的形式导入反应室中,使他们发生充分的化学反应,形成一种新的复合材料,沉积到基体上。从涂层硬质合金刀具来说,该工艺是在高温下(通常在800-1200℃)真空炉通过真空镀膜或电弧蒸镀将涂层材料沉积在硬质合金刀具的基体表面。CVD还可具体划分为超温超厚控制技术、中温CVD、等离子体CVD、真空CVD、流动层CVD、热解射流、流体床等等。但是该方法也存在一些缺点,如传统的CVD工艺由于高温沉积易形成脆性的金属中间相,使得产品性能下降。

2. 物理气相沉积(PVD)

物理气相沉积法(Physical Vapor Deposition, PVD)是指利用物理过程实现物质的转移,将原子或分子转移到基材表面,主要是在真空条件下采用低电压、大电流的电弧放电技术,利用气体放电使靶材蒸发并使得蒸发物质与气体都发生电离,利用电场的加速作用,使被蒸发物质及其反应产物沉积在基材上。其所具有的优点是能将某些具有优良性能(如高硬度、高强度、耐磨性优良、热膨胀系数小)的微粒喷涂在硬质合金基体上,使得其具有更好的综合性能。PVD也可分为离子溅射、真空蒸发、高能离子脉冲、离子镀(电弧离子镀、射频离子镀、热阴极离子镀、空心阴极离子镀、直流放电离子镀、活性反应离子镀)等等。PVD法相较于CVD法沉积处理温度较低,一般在500℃以下,且无需后续热处理;在600℃以下对刀具类材料抗弯强度无影响,薄膜内部应力状态为压应力,更适用于硬质合金精密复杂刀具的涂层。但是相比之下,PVD工艺操作相对复杂,对环境要求较高,且涂层循环使用周期和均匀性都不及CVD法。

涂层硬质合金

微信:
微博:

 

中国钨业发展现状

上世纪80年代中期,中国钨矿开采陷入了乱采滥挖,造成国际钨价市场严重混乱,钨原料市场供大于求,钨价猛跌,最低降至30美元/吨度以下,而中国国内钨精矿价格降至1万元/吨以下。之后,中国出台了一系列的行业监管政策,开采治理整顿、资源整合、总量控制,加强行业自律,慢慢钨业发展现状良好。在整治后,中国钨业有了以下好的发展方向。
1.资源保护程度有所提高
中国在03年-12年累计投入钨矿勘探金额为17.2亿元,新查明钨资源储量(WO3)近300万吨。2010年,国土资源部实施了“找矿突破战略行动”,加强老矿山找矿工作,钨矿勘察工作取得了新的突破。中国政府不仅在钨矿的勘探中投入了大量资金,对于钨矿的保护也十分的重视,使得每年的钨矿资源储量都有所增加,2009年-2011年增加幅度最大。
2.产能产量保持增长
1907年,中国江西西华山发现了钨矿。之后在赣、湘、粤等地陆续发现钨矿山,随之投入人工开采,形成了中国早期的钨业。新中国成立前35年,中国累计产量23.7万吨,占全球产量的29.80%。1914年至2014年,全球累计钨精矿产量343.91万吨,其中中国产量186.00万吨,占全球总量的54.08%。
尤其是中国进入新世纪以来,中国钨精矿产量增速加快。由于经济高速增长,以及市场价格的回升,拉动钨市场需求增长,刺激了钨矿产量的增加。

钨矿

微信:
微博:

 

波音公司的“鲁日时代”

鲁日是条美国的河流,福特曾在20年代初在那建立了鲁日汽车厂,其中最著名的是汽车总装车间,因规模庞大,相当于一座城市,所以在这里简说为“鲁日城”。

鲁日时代来源于福特凭借T型汽车所创造的鲁日城,在那个年代,福特从采矿到汽车生产,所有的供应都是依靠自身。这种发展模式在传统制造领域我们称它为鲁日 时代,而互联网领域则是阿里所倡导的生态系统。在这种模式中,所有的主营业务能够相互生存,关联性极强。这样不但能够抵御外来竞争对手的侵蚀,而且在其中也能寻找到新的盈利点。

鲁日汽车制造厂是福特汽车公司的核心企业,是一个非常大的工厂型社区,以全部加工场所聚集于一处的超大流水线作业著称全球。所以“鲁日”一般代指流水线及其附加概念。

说波音也有“鲁日时代”就是说,波音公司有一段时间也曾经在一个地方把所有东西都造出来组装在一起,比如钨合金副翼配重等。但是波音现在是全球加工全球制造,只在最后到达汇聚地点进行组装。所以说“曾经”有过鲁日时代。

微信:
微博:

 

 

微信公众号

 

钨钼视频

2024年1月份赣州钨协预测均价与下半月各大型钨企长单报价。

 

钨钼音频

龙年首周钨价开门红。