メタタングステン酸アンモニウム—— (NH₄)₆(H₂W₁₂O₄₀)·nH₂O(AMT)、一類のタングステン同多酸アンモニウム塩、大分子量と高水に溶けるタングステン化合物だ。AMT主にタングステン係石油水素添加触媒の調製を用いる。

AMT調製方大体に固相転化法と液体に転化する法の2大種類。固相転化法の典型的な技術はAPTを原料にする熱分解法、分解温度とアンモニア、水の分圧を制御することで、大部分のAPTは熱分解されるほとんど水溶性のAMT非結晶状物質を産生する、更に水溶解を通してAMT溶液になる、この液は濃縮結晶すると得たことはAMT固体製品だ。APT熱分解法技術の熟と製品の品質の良い優勢を持つ、現在まで工業にAMT生産の主流な方法。しかし工業上でAPTの熱分解法転化率一般に90％以下で、原料コストが高い、直収率低や排気ガス処理などの欠点が存在する。液相転化法は普通は（NH4）2WO4液を原料にする、采用酸中和、抽出、イオン交換やイオン膜電解などの方法でAMT溶液を獲得と採用する、そして浓缩结晶を通して固体AMTを得る。上述の液体の転化法の研究はわりに多く、しかし、製品の品質が不安定で、廃液処理量が大きいか技術が未熟などの原因で工業の上で応用が少ない。

現在のメタタングステン酸アンモニウム（Ammonium Wolframate）を調製方法のある問題に対して、ある学者新しい工業タングステン酸アンモニウム溶液の中から直接にAMT製の方法を提出する、すなわち双極膜電気透析(Bipolar Membrane Electrodialysis)。双極膜電気透析技術は新興の膜分離技術である。直流電場の作用で、双極膜は水分解させるそしてその両側にH +や- OHを提供する。その技術は、酸の生産を広く応用する、有機酸の調製と回収及び食品医薬工業工業を備えて，排煙、廃液浄化など環境分野の応用も日増しに増えている。

構成相転移は二つ基本タイプとして区分する：再構成型と変位型。その分類は週期性グリッドの化学結合が転移してから破壊と否を受けたのは。厳密に言うと，再構成型の構成相転移全部归入位変位型の分類に入りとは局限性のある。明らかに原子、分子ユニット及び等価基のグループは、極ノンリニヤリティの運動に関連する秩序と相転移がある。再構成型相転移にとって、私たちは举出炭素、石墨、ダイヤモンドなどの構造変化の例を挙げる；しかし非再構成型相転移は変位型相転移を含める、秩序-無秩序型相転移，混合型相転移、電気音響子互作用に関する相転移など。もちろん、超電導相転移を含まない。そのシステムの構造が、対称性は転移前後に変化しない。

がよく描かれになっWO6八面体頂角共用の3次元網状構造で、しかしWO3の対称性が比較的に低く，それは理想ReO3構造の変形，体現WO6八面体傾斜やタングステン原子に取って代わられた八面体の中心位置。フォノン格子と電子の結構にさまざまな変化の影響を生みました三酸化タングステン共同をいくつかの晶相。この結晶は、温度の上昇は、低対称性の高い対称性の高い対称性を持っている。

シリーズの研究をしている、現在比較的に公認の三酸化タングステン体材料の結晶相変化手順を得る：単斜Pc（ε-WO3）→三斜PT(ζ-WO3)→単斜P21/n(λ-WO3)→直交Pbcn（β-WO3）→四方P4/ncc（α-WO3）→P4/nmm。2002年に、絶えず研究すると，新しい結晶が発見された。同じ経緯高分解能中性子粉末回折の方法を確認した720℃まで790℃の温区も存在する新単斜相。

今まですでに多くの科学者を三酸化タングステンフィルムの研究をするし、三酸化タングステンフィルムの調製する方法は：蒸発法、スパッタリング法、ゾルゲル法、電子ビーム蒸発法、化学蒸着法、陽極酸化法、スプレー熱分解、分子ビームエピタクシ法、原子層エピタキシャル成長法、電着、パルスエキシマレーザ蒸着法、イオンめっき法など、そのほとんどの方法は技術が複雑で、工程の条件が厳しく、応用は制限を受ける。しかしスパッタリング法と蒸発法など安定、便利、高速、フィルム均一などの長所を持つ。、ゾルゲル法の技術は簡単で、コストが低く、低温合成し、高度に化学均一性し（ドープ物質が膜において良く均一に分布する）、材料形状多様性などの長所を持ち、だから今を多く使うのは蒸発法、マグネトロンスパッタ法、ゾル・ゲル法。

今三酸化タングステンフィルムの研究に対して多くその電に変色して性能に集中する、そしてガスの変色性と光による変色性能の研究が少ない、三酸化タングステンフィルムは過去にもガスセンサーを使うし、しかし主に、抵抗変化によって気体濃度を確定する、半導体型センサを属する、応用時に電圧加熱が必要で、そして電磁波の妨害が大きくて、構造が複雑で、だからこのタイプの気体センサーの応用は大きく制限性がある。

水素と三酸化タングステンフィルムに触れた時、常温では色も変わる、明らかにフィルムのある光学性が変化しているから。水素は可燃性、爆発性ガス、常温と常圧で三酸化タングステンフィルム光学パラメータの変化を測定し水素濃度を確定する、としては、電気のパラメータは、加熱、加圧などの条件と電磁妨害などの条件と電磁干渉を避ける、それによって水素センサーの安全性、選択性を高める。

光ファイバーセンサーは耐腐食性に優れ、電磁妨害能力が強く、感度が高く、長距離測定などの利点があります。だから三酸化タングステンフィルムで光ファイバ光学水素敏センサと光変色デバイスなどを作るのは重大な学術意義と広大な応用の見通しがある。

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基板加熱

基板温度は基板表面吸着イオンの活性化、移行、核の最も重要な要因を決定する、それもフィルムの相を決定する要因の一つである。常温に堆積したフィルムと基板の結合が牢固なくて、抜け落ちやすい。しかし、堆積温度が高い場合に、フィルムの中に結晶粒子長すぎると、変色と回復の速度が低下します。WO3フィルムの粗しょう多孔質や非結晶化はフィルムの電界変色変色、ガスを効果の実現や性能の向上を有利するし、現在の国内では非結晶フィルムを得るためスパッタ力、膜速度、スパッタリングストレスと標的になり、スパッタ率などを下げることが多い膜ができないことを、できるだけにすることができて、これは非晶質あるいはナノメートルの結晶態の膜の構造を獲得することを獲得して。温度が低い、気圧が高い条件で、入射粒子のエネルギーは低くて、原子の表面拡散能力は有限である、形成した薄膜組織が明らかに粗しょう。

酸化タングステンフィルムのドーピング

酸化タングステンフィルムはドープの元素を通して明らかにいくつかの特性を改善する、例えばフィルムの感度と選択性を強化するやフィルムの変色効果を高める。酸化タングステンフィルムのドーピング方式は酸化タングステンのゾルに特定のイオン、酸化タングステンフィルムを基板としてスパッタリングするやスパッタリングターゲット時は表面に一定の一定の割合の特定物質あるいは分段がスパッタリングでスパッタリングする複合膜を作る。適度なドープは反応してもっと多くの電子あるいは正孔を提供し、コンダクチビティーを高めて、タングステンの膜のさまざまな性質に影響を与える。

酸化タングステンフィルムの焼鈍処理

焼鈍温度と焼鈍の時に雰囲気が酸化タングステンフィルムの性質に影響を与える。焼鈍温度焼鈍時間が一定レベルに達して、酸化タングステンフィルム非晶質が結晶態に転化する。酸素の雰囲気に焼鈍がある場合には、その中の酸素の空きが欠陥が低下します。WO3ガスに敏感な材料のドーピング研究最初に、Shaverなどの真空蒸発法制てタングステンフィルム、それから600～700℃を経て加熱酸化につくるWO3フィルム、また少量 Ptを塗るの方法WO3はH 2や水素ガスを含むるガス（例えばNH3、H2S）のガス感度。K.Galatsis 等W(OC2H5)6と Mo(OC3H7)5をを前駆体に対して、SiO 2でマトリックス、ゾル・ゲル法制準備を通じてWO3-MoO3複合フィルム、そしてそのO 2にとってのガス敏性能、J.J.Chengらで直流反応マグネトロンスパッタ法がそれぞれドーピングAuめっき、Pt、RuのWO3フィルム,600℃焼鈍 4h、XRDから三斜晶係構造を表明する、 Au の混ぜはNO 2のガス敏感性を上がることが発見する。J.ShiehらWCl6前駆体をとして、Al2O3はマトリックスでゾルゲル法で調製したTiドープWO3フィルム、そしてNO 2のガス敏性能を研究する、Ti の混ぜは結晶粒子の大きさを抑えたを発見するし、感度アップする。

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フィルム沈積は初めに原子吸着、寄附、核、成長まで最後にフィルムを形成、核と成長とともに、薄膜堆積時のプロセスパラメ-タ（基本温度、ベースバイアス、気体圧力）の変えり、フィルムのミクロ構造の影響を受ける。1975年に、John A.ThomtonによるZone Modelsスパッタリングメタルフィルムにとって、基本温度とスパッタリングガス圧力（Sputtering Gas Pressure）フィルムのミクロ構造の影響に対して、4種構造区モデルを提出して、下の図の通り：

ミクロ構造

低温高压（Ts/TM＜0.3（TS：基片温度、TM：熔点））の条件で、フィルムの内部構造に多孔性の細い円筒の粒の構造を形成しやすくて、原因は表面原子移動率（mobility）は低く、このエリアZoneⅠと呼ばれる。高温（0.3＜Ts／TM＜0.5）の条件で、原子は多くの熱エネルギーを獲得して、わりに高い移行率を持つ、表面拡散能力増強につながる。それで粒が細くなって膜表面平滑になるし、および粒が緊密に積んで柱状構造を形成する、このエリアZoneⅡと呼ばれる。より高い高温（0.5＜Ts/TM）の条件で、体拡散の能力増強によって、加上結晶粒子再結晶の因子を加える、高密度等軸結晶（equi-axisgrains）構造を形成して、このエリアZoneⅢと呼ばれる。ZoneⅠとZoneⅡ間に過渡区が存在するで、このエリアZone Tと呼ばれる。低温（Ts/TM≦0.3）低圧の条件で、フィルムの内部構造、結晶粒子がしっかり積んで併の境界決着のことがにくくて、これは遮蔽効果、表面拡散、体の拡散および再結晶などの現象総合作用の結果で、フィルムは繊維状の構造を呈する。

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WGZ-8複光束紫外-可視分光光度計を運用してフィルムの光透過性分析をすると、入射光の波長の範囲は200～800nmで、光透過率は0%~150%。ゾルゲル法で調製した三酸化タングスタンフィルムの透過スペクトルは最大の光透過率を表現してその波長:85.3%、556nm。ピークとトラフは350~600nmの波長範囲の中、ピークトラフの光透過率差分は4.4%、300nmの波長の範囲内で光透過率ほぼゼロである。しかも、マグネトロンスパッタ法で調製した三酸化タングスンタンの透過スペクトルの中で最大の光透過率とその波長範囲はそれぞれ:90.1%、572~582nmで、ピークトラフ在350～650ｎｍの波長で、ピークトラフの光透過率差分約21.2%である。

マグネトロンスパッタ法で調製したフィルムの温度が450℃の時に、フィルムの光透過率平均に約8～10％を下落し、プロファイルとピークはほとんど変化しない。焼鈍温度は500℃の時、フィルムの光透過率平均に約8%を下落し、ピークとプロファイルはあまり変わらない。

マグネトロンスパッタ法とゾル・ゲル法は調製した三酸化タングステンに比べて、光透過率の差異は大きくない。しかし、マグネトロンスパッタスペクトルのピークとトラフは更に明らかで、すなわちマグネトロンスパッタ法で制備したフィルムは違う波長光の吸収の差異がゾルゲル法で調製の三酸化タングステンフィルムより大きい。

ゾルゲル法は焼鈍の前後で違う温度に透過スペクトルを分析する。ゾルゲル法で調製したの三酸化タングステンフィルムに対して、焼鈍の温度が高ければ、フィルムの光透過率が低いほど。300℃下で焼鈍30min後、フィルムの光透過率は平均10％を下落し、ピークトラフの波長の位置に紫外線バンド移動するの現象があるが、明らかではありません。380℃で焼鈍後フィルムの光透過率は20％～25％を低下し、偏赤外部分の光透過率低下で特に著しい。ピークの数は変わらない、トラフの光透過率の差がより小さい。400℃で焼鈍後で、フィルムの光透過率は25％～30％に下落し、偏赤外部分の光透過率の下降は特に著しい。

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三酸化タングステンの原子価の大きい変化にようって、酸素含有量確定できない、構造と和エレクトロニクス性質が複雑から、異なる結晶形WO_3-X的光触媒性質がずっと確定できない。たくさんの研究によって、異なる原料と異なる調製方法で合成したWO3-Xは構造と光触媒水析酸素性能の連絡非常に緊密です。まず原料はAPT を用いて固相法でWO_3-X光触媒を焼結調製。その基に単斜相を組みます。処理温度は600℃の時、処理時間は4時間と、六方の相WO_3-Xでますが、酸素指数は2.44で、光の分解水析氧は速度が一番高いです。３６５ナノの紫外線燈に照らされて、酸素の産生速度は148.8umol/L/h O₂。それから原料はH2WO4を用いて固相焼結で調製したWO_3-X光触媒を比較運用します。この方法を採用しで調製したWO_3-X光触媒すべて単斜相ですが、温度は光触媒分解水の性能の影響があまりない。

原料でAPTとH2WO4を比べて調製した三酸化タングステン（WO3-X）光触媒と、異なる原料は調製したWO3-X光触媒の性能が違う。さらに実験の研究に通じて、異なる調製方法の得たWO3-X光触媒の性能が違う。

H2WO4は固相法で調製したWO_3-X光触媒が単斜相ですが、光触媒分解水の性能は処置温度について変化が大きくない。しかし水熱結晶化法で調製したWO_3-Xの中に正交相と六方の相がでます。酸素指数は2.50である、光触媒分解水の性能は大きな向上をえた。その中に24時間水熱結晶化産物の光は水を分解の速度が一番高いです。３６５ナノの紫外線燈に照らされて、酸素の産生速度は140umol/L/h O₂にあげる。しかし水熱結晶化法で、反応温度の上昇にしたがって、原料は正交WO_3-X·0.33H₂O→六方WO_3-X→単斜WO_3-Xこの過程を経験した。WO_3-X的光触媒分解水の性能も六方の相の含量の减少に従って低下します。

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三酸化タングステンは光触媒である有機材料と無機材料を分解方面には広い応用見通しがあります。原料でAPT とH₂WO₄を用いて固相法で焼結調製しでたWO_3-X光触媒の効能は違う、高温条件以降APTは原料である得た六方の相WO_3-X光触媒の効能がよりよい。

しかし、実験によって原料はタングステン酸（H2WO4）を用いて水熱結晶化法で得るのWO_3-Xが六方の相である。酸素指数は2.50ですが、光は水を触媒すると分解する性能がさらによくなった。水熱結晶化法には、原料は温度のアップにつれて変化が起きている。温度が高くなると、産物がWO_3-X．0.33H₂Oから六方の相のWO_3-Xになる。温度発展について単斜のWO_3-Xになる。初めてWO_3-Xの光触媒反応は温度が高くなるについてよくなる、しかし六方の相WO_3-Xゆっくりして単斜のWO_3-Xになる、その光触媒分解水性能も減少する。この中でわれわれこの結論をだす：酸素指数は減少に繋がる、WO_3-Xの光触媒分解水速度がまず上げる限界に達すると急に下がる。つまりWO_3-Xの光触媒性能は最適酸素空位含有量があります。酸素指数は2.44~2.50の時に、その光分解速度高く。だから六方の相WO_3-XはWO_3-Xの光触媒分解水性能がアップに有利になる。

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現在は三酸化タングステン作製方法がたくさんある。例えば水熱法、固相法、液相法 、ゲル-ゾル法とマイクロエマルジョンなどである。マイクロエマルジョンというのは、相溶性のない2種の液体は界面活性剤で均一なエマルションになる、エマルションから固相を析出させる、これで核が成長や重合や団結などの過程を微小な丸い液滴の中に限って、それによって球形の粒子を形成することができる、粒がさらに団らんを避ける。以下は紹介するのはマイクロエマルジョンで三酸化タングステンを調製する方法：

1.0.200gCTABと取りに8mlシクロヘキサンと12ml正ブタノールに入って、そして十分に撹拌して均一になる。
2.得た混合液は二つに分けて、A溶液とB溶液である。A溶液の中に6ml1：1の塩酸溶液を入れる、超音波で乳化して15min。
3.B溶液に3mlのタングステン酸溶液を入れて、超音波で乳化して15min。
4.磁力の撹拌で、塩酸乳液はにタングステン酸溶液の中を入れて、溶液は黄色を呈し、色が深まらない。
5.撹拌を停止と、エイジングに16hで、上の液体を除く。そして、無水エタノールと蒸留水は数回を洗って、遠心の処理をして、100℃でオーブンに乾燥し、前駆物を得る。
6.前駆体はマッフル炉で3時間を焼き、黄色い粉末を得る。

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金属のうちでは最も融点が高く、金属としては比較的大きな電気抵抗を持つので、電球のフィラメントとして利用されるがLEDの普及によりこの分野の使用量は減少してきている。また、タングステン合金や炭化タングステンは非常に硬度が高いため、高級な切削用工具に用いられる。比重が大きく高い硬度を持つため砲弾、特に対戦車、対艦船用の徹甲弾に用いられるが、この用途では後発の劣化ウランと競合する。金との比重が近いことから、金の延べ板の偽造に用いられることがある。狩猟用の散弾銃の鉛弾や、鉛の釣りのおもり（シンカー）に代わる代替品としても注目されているが、コストや加工などの問題から普及は進んでいない。