本发明提供一种通过使用包含钨蚀刻剂、钨蚀刻抑制剂及水的组合物来化学－机械抛光含钨基材的方法。其中该钨抛光抑制剂为包含至少一个重复基团的聚合物、共聚物或聚合物共混物，该重复基团包含至少一个含氮杂环、或者叔或季氮原子。本发明进一步提供在含钨基材的抛光中尤其有用的化学－机械抛光组合物。步骤如下：

1）使基材与抛光垫及化学－机械抛光组合物相接触，该化学－机械抛光组合物包含：（i）钨蚀刻剂，（ii）钨蚀刻抑制剂，其中该钨蚀刻抑制剂为包含至少一个重复基团的聚合物 、共聚物、或聚合物共混物，该重复基团包含至少一个含氮杂环、或者叔或季氮原子，其中该钨蚀刻抑制剂以1ppm至1000ppm的量存在，及（iii）水；

2）相对于该基材，移动具有位于该基材和抛光垫之间的该抛光组合物的该抛 光垫；

3）研磨该基材的至少一部分以抛光该基材。

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本发明提供一种钍钨丝的制造方法。步骤如下：

1）将一定量的硝酸钍溶液添加到氧化钨中，制成掺杂氧化钨粉；

2）所获得的掺杂氧化钨粉还原获得钍钨粉；通过酸洗对钍钨粉去除杂质后，再将钍钨粉制成烧结体；

3）采用压力加工工艺，得到所需直径且二氧化钍的重量含量在0.7~1.1%之间的钍钨丝，并用线盘卷绕；

4）最后对钍钨丝进行矫直处理。

该种方法制得的钍钨丝绕制钨线圈时，能够提高绕制成品率、节约成本，且优化钨线圈的工作性能。

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本发明提供一种由钨冶金原料制取金属钨粉的工艺。本发明

1）将粗Na₂WO₄溶液浓缩结晶回收过剩碱后，将浓缩结晶所得的钨酸钠晶体溶解；

2）在Na₂WO₄溶液中WO₃浓度为180~250g/l，pH值为7.5~8.5、WO₃/NH₄Cl的质量比为1.6~1.8、温度为85~100℃的条件下进行蒸发结晶；再按下面的反应生成铵钠复盐：10Na₂WO₄+6NH₄Cl+12HCl+9H₂O+18NaCl=3(NH₄)₂O·Na₂O·10WO₃·15H₂O

3）将蒸发结晶产品直接在氢气中在350~450℃下气氛下处理2小时，得“类兰钨”，或在600~700℃下锻烧成“类黄钨”；

4）在750~850℃下氢还原,水洗除去Na₂WO₄即可得金属钨。

该工艺流程短，不需要除杂转型过程，节省了投资；基本上没有废气、废水排放；全流程基本封闭，为进一步提高金属回收率创造了有利条件。

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本发明提供一种钨酸汞纳米材料的制备方法。步骤如下：

1）分别称取0.01~0.02mol的汞盐和钨源，将其置入到一个45ml带聚四氟乙烯内衬的高压釜中，往高压釜中添加蒸馏水至高压釜容积的3/4，再向反应溶液中通入N₂去除掉溶液中的溶解氧，封闭高压釜后将其置于烘箱中，于140~200加热2~12小时，反应结束后关闭烘箱，高压釜梯度冷至室温，其中所述的汞盐与钨源的摩尔比为1:1，汞盐选自HgCl₂或Hg（NO₃）₂其中的一种，钨源选自Na₂WO₄、K₂WO₄］或H₂WO₄其中的一种；

2）将反应釜中的上层清液用胶头滴管吸出，下层沉淀置于烧杯中，用超声处理5分钟~6小时，然后静置1~5小时，接着离心分离：

3）将离心分离得到的沉淀产物依次用蒸馏水、丙酮和无水乙醇分别清洗三次，最后得到终产物钨酸汞纳米材料。

本发明原料易得，成本低廉，操作简单，仪器设备简便，产物形貌、结构易控，纯度高，处理方便，易于工业化。

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