非破坏性试验也称无损试验，通常指不破坏产品结构，不损害产品性能的检验方法及所用相关手段。产品的检测分破坏与不破坏产品两类，后者侧重于外观，要逐个进行，但只要合格即可。对于前者通常采取任意抽样，而且侧重于内在质量，对指定的怀疑有内在缺陷的产品进行解剖。由于破坏性试验最终都要以牺牲一个产品为代价，利用非破坏性试验检测产品则可以做到兼顾，既不破坏产品又能确切掌握内在质量。

非破坏性试验检测缺陷产品时是利用电磁辐射，声音以及材料固有的属性对样品进行检测，包括用显微镜对样品的外表面进行详细地检测。样品的表面要进行抛光处理，样品的厚度需达到电子透视所需的厚度。但样品的制备工艺，光学显微术以及电子显微术还是具有破坏性。而样品的内部只能利用穿透性电磁辐射进行检测，例如X射线和3D X射线。此时钨合金屏蔽件（如图）就可以有效地屏蔽由于使用X射线或3D X射线检测产品缺陷时造成的有害辐射。

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材料的物理与化学性能主要受其分子结构影响，氧化钨在制备时其形貌容易受外界因素影响而产生变化，首先不同的制备方式为主要因素，其次相同的制备方式，也会因为制备原料、温度、氧含量不同而发生晶型结构的变化。经大量学者研究，制备氧化钨的方式有很多，用得比较多的为：有氧法、还原法、湿化学法，模板法等，本文主要介绍四种常用方式的基本机理，以及一些具有代表性的实验。

1 .氧化法制备氧化钨。氧化钨即为钨的氧化物，从化学角度上理解，即为钨与空气中的氧发生反应即形成氧化钨，所以采用氧化法去制备氧化钨是最先想到的制备方式。直接采用钨粉去跟氧气发生氧化反应，那理论反应方程式为：aW+bO2 —（XX条件）→cWxOy，由于钨粉的化学性能较为稳定，必须在吸收能量的条件下才能与氧发生氧化反应生成氧化钨，所以大部分采用上述方程式来制备氧化钨都需要以加热、超声波或者催化剂作为反应条件。Li等通过实验验证了直接在空气中通过红外线照射加热钨灯丝的方式能给钨的氧化反应制造吸收能量条件，该方式能制备出来了一维纳米结构的三氧化钨（WO3）材料，而且这种方式制备氧化钨比较简单易行，容易实现大规模化生产；而Hong等通过实验证明，提出了另一种简单的大规模制备氧化钨的方式，首先采用超声波清洗小于1cm2的金属钨，用碘化钾作为催化剂，在一定湿度条件下能制备出三氧化钨纳米带。

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钨合金是以钨为基加入其他元素组成的合金。在金属中，钨的熔点最高，高温强度和抗蠕变性能以及导热、导电和电子发射性能都好，比重大，除大量用于制造硬质合金和作合金添加剂外，钨及其合金广泛用于电子、电光源工业，也在航天、铸造、武器等部门中用于制作火箭喷管、压铸模具、穿甲弹芯、触点、发热体和隔热屏等。除此之外，高密度的钨合金也经常被用来制作钨合金屏蔽件并且应用于许多领域。

研究证实防辐射能力和材料密度有着紧密的关系，密度越大屏蔽性能越好。反之，更高的密度意味着更好的射线吸收能力和射线屏蔽能力，由于钨合金的密度比其他材料高，钨合金屏蔽件对γ射线有着更好的屏蔽性，从而可减少屏蔽件的体积而不影响屏蔽性。和铅相比，相同体积的钨合金屏蔽件拥有更好的射线屏蔽性。钨合金结合了高密度性（密度比铅高60%），机械加工性，良好的耐腐蚀性以及高辐射吸收能力（优于铅和钢），高强度等优点，由此可见钨合金是屏蔽件的最佳原材料。

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