制备钨酸钙薄膜影响因素-溶液pH值

鉴于钨酸钙薄膜只在碱性条件下才能生成,酸性条件下将形成H2WO4沉淀,其溶解度亦很小,所以我们通过实验分别选用了溶液pH值为8、10、12三个阶梯进行比较实验。

以下表格是溶液pH值对钨酸钙薄膜制备的影响:

溶液pH值 8 10 12
反应时间(h) 7 7 7
薄膜厚度(nm) 320 260 170

从以上表格数据可以看出,溶液pH值越高,反应进行的越缓慢且生长的薄膜厚度越小。当溶液pH值为12时,反应时间为7小时薄膜厚度大约170nm,而此时pH值为8和10时,溶液中薄膜厚度分别为320nm和260nm。可见相同反应时间下,薄膜生长虽然同时处于快速生长阶段但在pH值高的溶液中,生长的薄膜仍较pH值低的环境下生长的薄膜厚度小,且生长缓慢。


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制备钨酸钙薄膜影响因素-反应温度

我们知道反应温度对化学反应的影响一般都是从热力学角度产生影响的,使用化学浴沉积方法制备钨酸钙薄膜也不例外。

以下表格是反应温度对钨酸钙薄膜制备的影响:

反应温度(℃) 40 60 80
反应时间(h) 7 7 7
薄膜厚度(nm) 75 175 250

从以上表格数据可以看出,薄膜的厚度随反应温度的变化而变化。反应温度为80℃时,反应进行的快且薄膜的后的增长速度比温度40℃和60℃的生长快的多,这说明提高反应温度可有效提高环境提供给制备过程的能量。随着温度的提高会在衬底上形成更多的晶核,从而使得反应更容易朝着生成钨酸钙薄膜的方向进行,达到薄膜生长的目的。


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制备钨酸钙薄膜影响因素-溶液浓度

制备钨酸钙薄膜不仅受到螯合剂的影响,同时也深受溶液浓度的影响。

以下表格数据是溶液不同浓度下制备的钨酸钙薄膜的厚度:

溶液浓度(mol/L) 0.05 0.10 0.20
薄膜厚度(nm) 100 300 350
水浴温度(℃) 80 80 80

从以上表格数据可以得出结果:当其他反应条件一致时,溶液不同浓度下制备的钨酸钙薄膜厚度不同。当溶液浓度为0.05mol/L,水浴温度为80℃时,衬底上几乎没有薄膜形成,或形成的薄膜厚度及其的薄,溶液中也几乎无沉淀生成。而溶液浓度为0.10mol/L和0.20mol/L,水浴温度为80℃时,同样可以形成薄膜,但,后者形成的薄膜表面明显存在颗粒状物质且溶液中沉淀很多。本着保证钨酸钙薄膜质量的前提下节省原料的原则,最终选定的溶液溶度应为0.1mol/L。


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制备钨酸钙薄膜影响因素-螯合剂

在制备钨酸钙制备的过程中,使用化学浴沉积制备钨酸钙薄膜重要的是选择适当的螯合剂。螯合剂的作用时络合住金属阳离子钙离子使其能缓慢释放。

通常使用的螯合剂有:酒石酸钾钠(C4H4KNaO6)、柠檬酸三钠(C6H5Na3O7)、乙二胺四乙酸二钠(C10H14N2O8Na2,EDTA),他们对钙离子的络合能力:酒石酸钾钠<柠檬酸三钠<乙二胺四乙酸二钠。制备的过程表明酒石酸钾钠和檬酸三钠对钙离子的络合能力较弱,反应过程中很快的释放出钙离子,进而在很短时间内形成大量的钨酸钙沉淀,却无法在衬底上很好的形成薄膜,所以不适合成为制备薄膜的螯合剂,采用乙二胺四乙酸二钠螯合剂时,反应可以十分缓慢的发生,并通过调节部分反应参数实现对反应速度的有效控制,可得到最为适合的反应条件,从而制得所需的钨酸钙薄膜。


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制备钨酸钙薄膜

钨酸钙是一种性能优越的无机闪烁材料,具有密度大、发光效率高、抗辐照能力强、无潮解、价格低等特点,逐渐成为国内外研究工作的热点。钨酸钙被制成钨酸钙薄膜,扩大了工业生产领域的需求。

制备钨酸钙薄膜,采用硝酸钙为化学浴制备钨酸钙薄膜的钙源,采用钨酸钠作为制作钨酸钙的钨源。首先配制所需浓度的钨源溶液置于开口容器中,使用磁力搅拌器充分搅拌均匀后将选用的螯合剂配成一定浓度的溶液缓慢加入钙源溶液的烧杯中,持续搅拌溶液。溶液是澄清的,用5mol/L的氢氧化钠溶液调节混合溶液的pH值至预期目标。接着再将一定浓度的钨酸钠溶液缓慢加入钨酸钠溶液缓慢加入络合溶液中共同搅拌,此时,溶液仍为澄清。将预先处理好的玻璃衬底放入HF(10%)溶液中浸泡1-3min,再用去离子水冲洗备用。此处理可达到轻微刻蚀表面的目的,以制造玻璃衬底上的反应活点后停止搅拌,将衬底放入溶液中,并连同开口容器一起放入一定温度的水浴锅中加热,待反应结束后,将衬底取出,用蒸馏水清洗并在室温下晾干可获得钨酸钙薄膜。


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新材料钨合金的应用

新材料,也被称为先进材料,是指新近发展的或正在研发的、性能超群的一些材料,具有比传统材料更为优异的性能。这些新材料的发现在研究过程中具有优越的特性和功能,能够满足高科技的需要。人类历史的发展表明,材料的物质基础,社会发展和新材料的试验是社会材料技术进步的一个里程碑,新材料作为高新技术的基础和先导,应用范围极其广泛,它同信息技术、生物技术一起成为二十一世纪最重要和最具发展潜力的领域。同传统材料一样,新材料可以从结构组成、功能和应用领域等多种不同角度对其进行分类,不同的分类之间相互交叉和嵌套。此外,材料技术不仅是现代工业技术,推进人类文明的进步与发展,也是国防力量显著的物质基础。国防力量往往是新材料技术成果的使用领先者,新材料技术的发展对国防工业和武器装备的发展具有决定性的作用。

军用新材料是新一代的物质基础,也是世界军事领域的关键技术。军事新材料技术是现代设备的关键,以及军事高技术的重要组成部分。世界各国都高度重视的军事新材料的开发。保持军队前进的一个重要的前提是加快军工新材料技术的发展。钨合金作为一种新材料,属于熔点最高的金属,并且其突出的优点是耐高温,强度大和耐腐蚀,这表现出了其优异的军工性能,尤其是武器的制造。

它主要用于武器制造行业中穿甲弹制造。中国的主战坦克125Ⅱ型的穿甲弹是由钨镍铁为材料,平均性能可以达到拉伸强度1200兆帕,2000米距离穿击600毫米厚的钢装甲的平均击穿指数为15%。目前,钨合金被广泛应用于中小口径高射炮穿甲弹和高速防刺穿材料,这推动了军事工业的发展。



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钨合金的制造工艺

不同的工艺方法可以提供不同属性钨合金制品。对钨合金材料进行铆接,可以得到高抗拉强度和高硬度制品,这一制造工艺生产的钨合金制品主要是应用于军事领域,如钨合金锻棒,穿甲弹,子弹和钨合金碎片。通过烧结,可以得到钨合金块,钨合金球等。有时,为了获得更高的性能,通常会添加一些其他材料的粉末,如钴,钼等。而在海事领域,钨合金被广泛应用于保护涂层或电镀,从而加强抗腐蚀的能力。在二战期间,钨已被用作军事防御的重要材料。

在钨合金制造过程中,可以通过调整某些制造流程,以满足硬度的军事武器配件对物理性能的不同要求,如对极限拉伸强度,屈服强度,伸长率的要求等。如通过粉末处理技术和大变形技术有助于细化晶粒,从而提高钨合金的强韧性和渗透力。



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钨合金的军事应用

钨,在军事应用中,由于其硬度较大,经常被用做生产子弹的材料,如装甲穿透弹。钨合金子弹具有穿透力强,具有较强的破碎性和毁灭性。钨块和钨球经常被用于杀伤性弹药,手榴弹,地雷和火箭,以增强这些军事武器的破坏力。由于它们的硬度和强度,钨合金经常被用于防御与电镀领域。同时,碳化钨和其它合金也可替代铅作为穿甲弹等武器材料,以提高其穿透效力。

钨在军事的另一种广泛用途是在直升机和其他飞机及装甲车辆的一种配重零件。直升机经常使用高比重钨材料来作为转子,垫木等的配重。由于钨合金的高密度和硬度,使其成为配重和防护的重要材料。

如今,各国逐渐将目光转向以钨制品来生产军用子弹,由于其与铅相比无毒无害,对环境友好,而铅已被证明在很多时候对环境的破坏性是不可忽视的。现今,钨已被证明是“干净绿色”的金属,这使得它们备受军事武器领域研究人员的关注,同时有力推动了国际倡导的绿色环保的主题。



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水滴状钨合金渔坠子

水滴状钨合金渔坠子是渔坠子中的一种。由于水滴状钨合金渔坠子体积小,密度大,深受广大垂钓者的青睐。

中国的垂钓者将其形容成吊坠,就是女性戴的吊坠。水滴状钨合金渔坠子以其独特的结构,大大提高了垂钓的成功率。

水滴状钨合金渔坠子上带有一个可旋转的夹子。水滴状钨合金渔坠子材料中不含铅,对环境不会产生破坏。

水滴状钨合金渔坠子


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制取钨酸钙造成钨损失原因

在制取钨酸钙的生产中,由于工艺条件的调整变化,钨的损失急剧增大,造成钨损失的原因有:

1:强碱性。Na2WO4溶液需经浓盐酸调整pH值为8-9,以便除去铁硅杂质,在这一过程中,特别到弱碱性时,不可避免会发生酸的局部过量,在溶液中生成偏误酸盐,因此在该过程中应控制好溶液酸碱性。

2:盐酸用量。根据产品粒度要求,工艺条件控制为CaCl2溶液pH值为2-3,利用盐酸去调整pH时,加上Na2WO4溶液的存在,难免要产生偏钨酸钠,由于偏钨酸跟的形成,及时多加CaCl2也不会是钨呈钨酸钙沉淀析出,智能生成易溶的偏钨酸钙,因此,应控制好盐酸用量。

3:杂质含量。提纯后的Na2WO4溶液仍价带有少量杂质,如:Si、P、As等,这些杂质和Na2WO4溶液相混,通过加热或酸化,这些杂质作为中心原子与钨作用生成钨的杂多酸,损耗钨的成分。


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