常见金属中熔点最低的有锡（232℃）、铅（327℃）、镁（651℃）、锌（419℃）、锑（630℃）、铝（660℃）、铜（1083℃）等，然而锡在低温时（0℃以下）会自毁；铅质软，强度不高，无金属光泽镁、锌化学性质活泼，即在通常情况下易与非金属起化学反应而变质。锑性脆，且受热易挥发。总之，均无镀膜价值。而铝和铜都具有人所喜爱的金属光泽，又稳定性高，价格低廉，且随手可得。从镀膜质量及材料的来源考虑，铝和铜是“最理想”的镀膜材料。

钨和钼在高温下容易被氧化，这是决定它们作为高温结构材料运用前途的关键性问题。“镀膜机”的镀膜室中虽然是“真空”，但这仅是对大气而言，并非毫无空气分子且镀膜空中最难排除的是水分子及附着在镀膜室中的其他气体分子，如氮、氯、澳等。由于每次清洗镀膜室均要用到酒精和乙醚，这就更增加了排除镀膜室的水分子和附着气体分子的难度了。

钼在低于300℃条件下，相对稳定，超过的话就会在表面生成蓝色的氧化膜，高于500℃的话，生成的氧化膜会挥发，温度越高，挥发的速度就越快，超过700℃时形成MoO₃白烟。

钨加热子中的钨在400~500℃条件下，在空气中开始氧化，600℃以上，表面形成WO₃薄膜，由于WO₃比容大于基体，所以在达到这一温度后会产生龟裂，使氧化速度显著增加，超过900℃，WO₃挥发，金属以更快的速度氧化。

所以，选用钨或钼作为加热器材料应该根据被镀材料来决定，并且要恰当控制温度。

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真空镀膜是现代新科技应用极广的一门尖端技术，也是高等院校“近代物理试验”中科研、应用的一个重要课题。作为实验教学，传统的常规办法是利用难熔金属也就是熔点最高的钨（熔点为3380℃）和钼（熔点为2620℃）作为加热元件。被镀的金属一般选用熔点较低的银（熔点为960℃）和金（熔点为1063℃）。为了确保镀膜的质量，一般选用高纯度的金和银，但是公用购买金银需要经过公安部门审批，而且价格很贵。所以才镀膜材料的选择上，需要考虑到方方面面的问题。

经过实验证明，不管用钨杆还是钨舟做加热器，或者是钼杆还是钼舟作加热器，铝从预热到熔化，当铝发红刚要熔化的时候，钨杆、钨舟或钼杆、钼舟在温度最高处会发生脆裂而使镀膜电流中断，镀膜失败。用钨杆或钨舟作为加热器镀铜的时候恰当控制加热温度可以镀膜成功，但是成功率很低，用钼杆或钼舟作加热器镀铜，则成功率可达95%，所以结论是，用镀铝膜需要用钨作加热器，镀铜宜选金属钼作加热器。

钨和钼都是难熔金属，且具有优异的高温强度和耐酸蚀能力，是军事工业和化学工业的重要材料。但是，在使用中有两个问题必须要考虑到的是钨和钼的“冷脆性”和在高温下与周围气体发生激烈的作用。就是因为这两个问题极大限制了钨加热子镀铝膜的应用。

因此，真空镀膜必须注意以下几点：

1.加热器材料和被镀金属的选择；
2.尽可能提高镀膜室的真空度（1×10^-4mmHG~1×10^-5mmHG）；
3.镀膜前镀膜室必须长时间烘烤（30~45分钟）；
4.采用轰击棒低真空下长时间轰击（20~30分钟），以上措施均为清除镀膜室内各种杂离子及其他气体分子；
5.控制预热温度，把握镀膜时间，实现理想镀膜。

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