聚乙醚/二硫化钨插层复合材料的制备
- 详细资料
- 分类:钨业知识
- 发布于 2019年9月29日 星期日 19:55
- 作者:Yanqiu
- 点击数:1131
聚乙醚/二硫化钨插层复合材料采用剥离-重堆积技术,由聚乙醚聚合物插入二硫化钨层间制备而成。剥离-重堆积技术要求依次进行单分子层剥离、聚合物溶液直接插层和重新堆积这些步骤。
聚乙醚/二硫化钨插层复合材料制备过程如下:
1.二硫化钨单分子层剥离:
二硫化钨与正丁基锂在一定条件下反应形成LiXWS2。在超声振荡条件下,将0.4 g (1.61x 10-3 mol)前驱体LiXWS2与1000 mL的蒸馏水反应,并调节pH(用1M的HCl调节),使其生成pH=7的二硫化钨单分子层悬泮液,过程伴随大量氢气放出。相关化学反应式如下:
LiXWS2+(x-y)H2O→[WS2y-(单分子层)+xLi++](x-y)OH-]aq+(x-y)/2H2↑
2.聚合物溶液直接插层:往二硫化钨单分子层悬浮液中加人50 mL聚乙醚(PEG)水溶液(含有0.04~0.6PEG),并在一定温度下(55~75℃恒温搅拌24 h;
3.重新堆积:用转速为2000 rpm的离心机分离出固体产物,并用少量蒸馏水对产物进行多次洗涤,以确定除去LiOH和可溶性的物质。所得产物置于60℃的真空干燥箱内干燥36 h,从而制得聚乙醚/二硫化钨插层复合材料。
聚乙醚/二硫化钨插层复合材料的制备采用一种高分子保护条件下得金属单质的插层方法,其先将聚合物聚乙醚与含有金属离子的水溶液混合形成均匀的溶胶体系,然后将溶胶插入到单层二硫化钨层间,最后对金属离子进行还原,即得到含高分子和金属单质的聚乙醚/二硫化钨插层合材料。
氧化钨供应商:中钨在线科技有限公司 | 产品详情: http://www.tungsten-oxide.com |
电话:0592-5129696 传真:5129797 | 电子邮件:sales@chinatungsten.com |
钨钼文库:http://i.chinatungsten.com | 钨钼图片: http://image.chinatungsten.com |
钨业协会:http://www.ctia.com.cn | 钼业新闻: http://news.molybdenum.com.cn |