相对于三氧化钨薄膜，钽掺杂WO3薄膜的着色效率有所提高，即薄膜的电致变色性能改善了，其中，钽掺杂量的临界值为15%，过度的掺杂则不利于薄膜呈现出高的电致变色效率。

Ta掺杂氧化钨薄膜的电致变色性能是怎样的情况？有专家通过下列实验获知。

薄膜的循环寿命是电致变色材料应用的一个重要参数，也是评价其性能好坏的重要标准之一。因而，有专家采用循环伏安法对Ta掺杂WO3薄膜的循环寿命进行测试，即在薄膜样品上反复施加-0.6～+0.6V的电压，使薄膜循环着退色多次，观察样品在50次循环后的循环伏安曲线的稳定性。未掺杂和掺杂15%钽的氧化钨薄膜的循环伏安曲线如下图所示。

专家表示，室温下沉积获得的纯三氧化钨薄膜为非晶态电致变色薄膜，薄膜表面光滑，质地均匀且多孔。而钽掺杂纳米三氧化钨电致变色薄膜也是非晶结构。当钽掺杂量在一定范围内时，薄膜表面光滑均匀。随着钽掺杂量的增加，开始有较大的颗粒镶嵌在薄膜内部，这些颗粒较为致密，破坏了薄膜的多孔性和均匀性。当掺杂量达到35%时，在薄膜表面甚至出现了微米级别的颗粒。