电致变色薄膜用钽掺杂氧化钨

钽掺杂氧化钨可以用于制备电致变色薄膜，而钽掺杂的氧化钨电致变色薄膜可以采用磁控溅射方法制备得到，以改善氧化钨电致变色薄膜的电化学循环稳定性。

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有专家采用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、X射线光电子能谱、光谱椭偏仪、紫外-可见分光光度计、电化学工作站对薄膜的微观结构、光谱调制能力、着色效率、循环稳定性进行了表征和分析，研究了钽掺杂对氧化钨薄膜结构及电致变色性能的影响。他们发现，适量掺杂可以调节薄膜的微观结构，使薄膜中的裂纹减少，表面更为均匀；但当掺杂过度时，薄膜太过致密，甚至出现表面颗粒团聚凸起的现象，影响了薄膜的多孔性和均匀性，阻碍了离子在薄膜中的迁移和扩散；相对于未掺杂的氧化钨薄膜，适量钽掺杂的薄膜具有更宽的光谱调制范围和更高的着色效率，亦表现出良好的循环稳定性。

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