优质超细碳化钨粉特点

超细碳化钨粉是通过特殊工艺方法制备,纯度高,粒度均匀,分散性好。优质的碳化钨粉是生产硬质合金的重要原材料,以下是优质超细碳化钨粉的特点:

1:化合碳含量高,游离碳含量低。碳化钨粉的理论含碳量为6.128%,一般情况下化合碳含量高的碳化钨粉可减少碳原子空位而增强显微硬度,低含量的游离碳能够使得在制作合金的烧结过程中,靠近游离碳的碳化钨粉晶粒均匀,从而增强所制得的合金的性能。

2:粒度组成均匀。超细碳化钨粉的粒度组成影响硬质合金的晶粒分布,粒度均匀的碳化钨粉所生产的合金其晶粒度也均匀,最终影响到合金的性能。所以,超细碳化钨粉的平均粒度一般不大于1μm,且粒度组成方面要求小于2μm的比例大于70%

3:亚晶尺寸粗大。因亚晶尺寸大的碳化钨粉塑性较好,制成的硬质合金也具有优良韧性。

4:微观结构缺陷少。碳化钨粉的微观结构缺陷指的是晶粒或晶界上的微孔以及空位、位错等微观缺陷,缺陷少的话可以减少对硬质合金抗弯强度及硬度的影响。

5:氧含量及其他杂质元素含量低。超细碳化钨粉的氧含量低,可造成所制得的合金的孔隙度低,其他杂质元素含量低,将减少造成孔隙的可能性,增强碳化钨粉粘接强度,从而增强合金性能。
 

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医用屏蔽材料-钨合金屏蔽件和铅屏蔽件

传统的医用屏蔽材料为铅 ,铅的原子序数为 82,具有良好的能量吸收特性 ,是一种用以屏蔽高能电离辐射的理想材料。从粒子吸收特性看 ,铅对能量高于88.0keV和介于13.0keV至40keV之间的电离辐射有良好的吸收能力 ,但对能量介于 40keV至88.0keV之间的电离辐射存在一个粒子吸收能力薄弱区域(即铅的“弱吸收区”)。

钨合金屏蔽件是新型的屏蔽件,在和铅屏蔽件厚度相同的情况下,钨合金屏蔽件的屏蔽效果大很多。而且钨合金屏蔽件环保,对人类和自然无害,而铅有毒,是污染的源头,所以钨合金屏蔽件逐步替代铅,成为最受欢迎的屏蔽件。


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屏蔽箱屏蔽材料的选择

屏蔽箱屏蔽材料选用的原则有:

1、如果外部的干扰磁场太高屏蔽罩的衰减作用将减小。这是因为外部磁场太高时,磁性材料将接近于磁饱和状态。

2、在通常情况下,用厚的金属材料制造屏蔽罩是不现实的。因为其成本高。

3、要使外部磁场得到最大衰减,需要用高磁导率(μ)的材料;

4、磁屏蔽的效果也是屏蔽罩材料壁厚对屏蔽罩直径(在采用矩形屏蔽罩时为其对角线)之比率(t/D)的函数。

根据以上选用原则,高比重钨合金是屏蔽箱屏蔽材料的最佳选择。

 

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如何摆放手机钨合金屏蔽箱安装位置

手机钨合金屏蔽箱的部件一般包括:主机、天线、电源适配器。在安装手机屏蔽器时,由于主机和天线周边一定距离内(通常20-30厘米)有较强的信号磁场,同时220V电源线(强电)周边(通常5-10厘米)也有磁场干扰,所以,如何各个部件的安装位置如何摆放就十分关键,摆放位置不正确,很可能会造成屏蔽信号的发射受到干扰、影响屏蔽效果。

手机钨合金屏蔽箱为降低交变电场对敏感电路的耦合干扰电压,可以在干扰源和敏感电路之间设置导电性好的金属屏蔽体,并将金属屏蔽体接地。交变电场对敏感电路的耦合干扰电压大小取决于交变电场电压、耦合电容和金属屏蔽体接地电阻之积。只要设法使金属屏蔽体良好接地,就能使交变电场对敏感电路的耦合干扰电压变得很小。电场屏蔽以反射为主,因此屏蔽体的厚度不必过大,而以结构强度为主要考虑因素。
 

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钨合金屏蔽箱

屏蔽箱的屏蔽效果是根据设备或元器件被屏蔽后磁场强度衰减的程度来度量的。屏蔽后磁场强度的衰减率或衰减量是材料的磁导率、厚度和屏蔽罩的尺寸的函数。高磁导率材料比低磁导率材料昂贵,但如果用单层高磁导率材料的屏蔽效果与多层低磁导率材料的屏蔽效果相同,则可能选用厚度薄的高磁导率材料更经济。钨合金屏蔽箱,铅屏蔽箱都被广泛,但是钨合金屏蔽箱屏蔽效果会优于铅屏蔽箱,即使是在钨合金屏蔽箱厚度比较薄的情况下。


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