三氧化钨作为光催化剂主要存在着两个缺点：因为三氧化钨的禁带宽度较宽所导致的能够利用的光谱范围较窄。以及由于三氧化钨的导带位置较正而使得光生电子的利用率较低，从而使得三氧化钨光生空穴的利用率受到了抑制。基于这两个缺点，碳掺杂技术能够进一步对三氧化钨的光催化活性进行提高。

磁控溅射法是制备氧化钨磁性薄膜的一种常用方法。磁控溅射法制备氧化钨薄膜的原理是：当氩离子被阴极加速并轰击阴极靶表面时，将氧化钨靶材的表面原子溅射出来后，氧化钨表面原子会沉积在基底表面上形成薄膜。通过更换不同材质的氧化钨靶材以及控制不同的溅射时间，便可以获得不同材质和不同厚度的氧化钨薄膜。采用磁控溅射法制备的氧化钨薄膜具有镀膜层与氧化钨的结合力强、镀膜层致密、均匀等优点。

全球范围的环境污染问题制约着人类文明前进的步伐，而环境有机污染 物的消除更需要消耗大量的能源，这给日益枯竭的能源提出了严峻的挑战，研究表明，几乎所有的有机污染物都能被半导体光催化有效地降解、脱色、去毒、矿化为无机小分子物质，从而消除对环境的污染和危害。

SCR催化剂是一种脱硝催化剂。在脱硝反应中，SCR催化剂的作用是促使还原剂选择性地与烟气中的氮氧化物在一定温度下发生化学反应。我国最普及的就是钨钒钛催化剂，寿命只有3～5年。一旦废弃，如果处理不当，其中为剧毒物质的活性成分V₂O₅就会对环境造成二次污染，危害人们的身体健康和生命安全。

球形钨粉是一种重要的钨粉形态，用球形钨粉制备的多孔材料具有更均匀的孔隙，在生产中能够根据工艺控制产品的透气性能，因此它将取代常规的钨粉用于制作多孔钨部件，如大功率脉冲微波管的阴极、电子的钡钨阴极、高温下的气体分布板以及气体过滤材料等。

氧化钨（WO₃）是一种功能材料，在光致变色和气致变色方便有广泛的的研究。它在光催化、气体传感器领域有着广泛的应用。通过对掺杂铋的氧化钨材料的研究发现，该材料对近红外的反射率达95%以上。

在太阳光光谱分布中，紫外光占到太阳光总能量的5％，其中二氧化钛是最典型的紫外光催化剂，但其光吸收仅仅限于紫外光区。在太阳光谱中，可见光的能量占到48％，钨酸铋、钼酸铋等可见光催化剂也日益引起广泛的研究。

高能点火气体放电管主要用于高能点火器，作控制大能量的开关，主要应用在军用宇航、机载、弹载发动机点火器上，也可以应用在民用船舶、锅炉、油田等的点火系统中。在军用高能点火气体放电管技术方面，我国长期受西方国家禁运和封锁，只能靠自主研发。

粉末注射成形是传统粉末冶金与现代塑料注射成形工艺相结合 而发展起来的一种新型近净尺寸成形技术，该技术的最大特点是可以直接制造出具有最终形状的零部件，最大限度地减少机加工量和节省原材料，而且材料适应性广。目前已广泛应用在陶瓷和难熔金属制备。

目前我国的仲钨酸铵（APT）生产普遍采用自主研发的离子交换工艺。它的优点是产品质量稳定，操作简便。但该工艺的重大缺点是用水量很大，每生产1吨APT耗水量达100吨以上。也因此，冶炼污水的处理是很令人头疼的问题。