軍用鎢銅封裝外殼，也被稱為電子封裝外殼，是承載半導體晶片、元件以及兩者集成的器件包封體，是連接晶片和系統重要橋樑。其起到了為晶片提供機械支撐、電、熱通路以及環境保護的作用。另外，封裝外殼也直接影響著器件的電、熱、光以及力學性能。軍用電子器件封裝外殼的主要材料包括陶瓷外殼、金屬外殼以及金屬陶瓷外殼。

陶瓷外殼：中小規模積體電路封裝（陶瓷雙列直插外殼，陶瓷扁平外殼，陶瓷針柵陣列），大、超大型積體電路封裝（無引線片式載體，有引線片式載體，陶瓷四邊引線扁平外殼，陶瓷焊球柵陣列外殼，高氣密異型封裝外殼），分立元器件封裝（表面安裝型，插裝型），混合電路封裝（表面安裝型，插裝型），MEMS器件封裝，多層陶瓷基板（MCM-C多層陶瓷基板，微組裝基板）；
金屬外殼：光電器件封裝（帶光窗型、帶透鏡型、帶光纖型），分立器件封裝（A型、B型、C型），混合電路封裝（平板型，腔體直插型，扁平型），特殊元件封裝（矩陣型，多層多腔型，無磁材料型）；
金屬陶瓷外殼：分立器件封裝（同軸型，帶線型，表貼型），微波MMIC封裝器件（載體，陶瓷，金屬），混合電路封裝，光電器件封裝（蝶型，專用結構）。

隨著軍事電子裝備趨向多功能、高性能、小型化發展，拒用鎢銅封裝外殼也不斷向著高頻、大功率方向進行改進，綜合性能得到了大幅度的提高。為了適應微波毫米波器件和元件的發展需要，開發了低溫共燒多層陶瓷外殼技術；為了適應高功率器件和電路的發展需要，開發了高導熱氮化鋁陶瓷封裝外殼技術和高導熱鋁碳化矽金屬封裝外殼技術；為了適應高密度電路和元件發展需要，開發了細節距四邊有引線扁平封裝外殼技術、高密度球柵陣列封裝外殼技術和三維立體封裝外殼技術；為了適應高積體電路和小型模組的發展需要，開發了多芯模組封裝外殼和多芯封裝外殼與系統封裝外殼等。

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作為火箭噴流工作中的特殊翼，鎢銅燃氣舵是推力向量控制技術中的一個重要代表，其在現役和在研的空對空導彈中承擔著不可或缺的角色。對於鎢銅燃氣舵有以下幾點設計要求：
1.應具有足夠接近常值的升力梯度以滿足最大升力控制要求；
2.燃氣舵差動時需滿足總體對橫滾控制要求；
3.保證燃氣舵阻力小以減小發動機的推力損失；
4.舵面鉸鏈力矩及其在整個工作期間變化要相對較小以降低對舵機功率的要求；
5.燃氣舵尺寸盡可能小但要滿足強度和剛度的要求，安裝位置要合理，便於後續附屬零部件的結構設計及安裝；
6.燃氣舵偏轉至最大角度時，不能產生機械干涉。

通過燒蝕機理分析：
1.顆粒侵蝕效應：燃氣流中大量高速高能固體粒子對燃氣舵表面進行強烈撞擊，是的局部表面在短時間內達到很高的溫度，加速材料的燒蝕。另一方面，表面粗糙度的增大還會導致流場分佈不均形成渦流，也會引發局部熱量的積聚；
2.機械剝蝕效應：基體材料之間存在熱膨脹係數差異所導致的，其所產生的熱應力超過結合強度時，在超音速燃氣流作用下就會發生剝離。

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鎢銅棒耐磨性又稱耐摩耗性或耐久性，是指在規定條件下，鎢銅棒材抵抗磨損的性能以磨損率或磨損度的倒數表示。即耐磨性=dt/dV或dL/dV。鎢銅棒使用一段時間後發生磨損的現象是不可避免的，造成這一現象的原因有很多方面，其主要的磨損形式包括磨粒磨損，粘著磨損（膠合），疲勞磨損（點蝕），腐蝕磨損。

磨粒磨損：由外界硬質顆粒或硬表面的微峰在摩擦副對偶表面相對運動過程中引起；
粘著磨損：又稱咬合磨損，它是指滑動摩擦時摩擦副接觸面局部發生金屬粘著，在隨後相對滑動中粘著處被破壞，有金屬屑粒從零件表面被拉拽或零件表面被擦傷的一種磨損形式；
疲勞磨損：摩擦副兩對偶表面作滾動或滾滑複合運動時，由於交變接觸應力的作用，使表面材料疲勞斷裂而形成點蝕或剝落的現象，稱為表面疲勞磨損（或接觸疲勞磨損）；
腐蝕磨損：指摩擦副對偶表面在相對滑動過程中，表面材料與周圍介質發生化學或電化學反應，並伴隨機械作用而引起的材料損失現象。

在不同磨耗機理條件下，為提高耐磨性對鎢銅材料性能亦有不同要求。由於摩擦材料和試驗條件各不相同，可用磨耗指數表示或由用磨耗試驗機在規定條件下進行試驗所測得的材料減量（g/cm2），或其倒數表示，耐磨性是摩擦磨損試驗中的一個測量參量。塗料工業中指塗層對摩擦機械作用的抵抗能力。實際上是塗層的硬度、附著力和內聚力綜合效應的體現。在條件相同的情況下，塗層耐磨性優於金屬材料，因其有黏彈性效應，可把能量緩衝、吸收和釋放掉。通常用塗膜耐磨儀測定耐磨性。在一定的負載下，塗膜用橡膠砂輪經規定的轉數打磨後，求得塗膜的失重量，以克表示。

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納米鎢探針是採用鎢絲製備，製備方法有很多種，如：機械剪切法、機械研磨法、場蒸發方法、離子轟擊方法、電火花加工、電化學腐蝕法等。最常用的製備鎢材質探針的方法是電化學腐蝕法，該方法製備原理簡單，且製備設備簡單、容易實現，可控性較好，成本較低，因此被廣泛應用。電化學腐蝕法又可分為：交直流共用法、磁場增強法、液膜法、逆向電化學法、下端腐蝕法和脈衝電化學加工法等。以上方法都是通過改變溶液濃度、浸入深度、腐蝕電壓和脈衝電壓的占空比等因素來控制探針的形狀和長-徑比。但是在腐蝕過程中，鎢絲是靜止的，製備出探針輪廓線為指數型，長-徑比的可調範圍較小。

新型的納米鎢探針製備方法是在腐蝕過程中利用單片機步進馬達軸向位移系統對鎢絲進行勻速提起，並通過控制電化學腐蝕過程的參數來製備納米金屬探針，可以製備出不同長-徑比的鎢納米探針，其尖端曲率半徑可達30nm，能夠滿足不同的應用需要，其製備過程如下所示：

1.對金屬鎢絲的表面進行電腐蝕，去除表面的氧化層，然後對其進行清洗。即將鎢絲（純度99. 99%，如直徑O. 5mm)作為陽極，銅棒作為陰極，置於NaOH水溶液（2mol/L)中，浸入深度分別為陽極2. 5mm-9mm,陰極40mm，通以IOV的交流電，腐蝕30-100S，去除鎢絲表面的氧化層，然後利用去離子水清洗乾淨。

2清洗後的鎢絲為陽極，銅棒為陰極，置於腐蝕溶液中（例如2mol/L的氫氧化鈉水溶液)中，接通電源使其開始腐蝕，同時利用單片機步進馬達軸向位移系統將鎢絲進行提起，並始終保持部分鎢絲位於溶液中，停止提起後繼續靜止腐蝕直至鎢絲尖端脫落，制得納米鎢探針。

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