濺射法是用高能量惰性氣體離子轟擊固體表面(靶)，使固體原子(或分子)從表面射出，並沉積到襯底或工件表面形成薄膜的方法，屬於物理氣相沉積的一種。濺射法又分為直流濺射、射頻濺射、磁控濺射、反應濺射、中頻濺射與脈衝濺射、偏壓濺射、離子束濺射等。其中磁控濺射技術因具有沉積速度較高、工作氣體壓力較低等特點而應用最為廣泛。AMonteiro等採用直流磁控反應濺射法在ITO玻璃襯底上沉積了WO3 薄膜，膜厚為360～570nm，是通過濺射出來的鎢原子與氧氣反應沉積而成的，研究表明該薄膜的光學特性與薄膜中的氧空位有很大關係。KAguir等採用交流磁控反應濺射法在SiO2/Si 襯底上沉積WO3 薄膜，金屬鎢作為靶，混合氣體為氧氣和氬氣，薄膜厚度約為50nm，在400 ℃溫度下進行退火處理，用於製作O3氣體感測器，研究表明該薄膜在一定溫度下對O3非常靈敏。AAAkl 等以鎢作靶材，ITO玻璃作為襯底，氣體為氧氣和氬氣的混合氣體，氧氣和氬氣的分壓分別為30%和70%，為了得到不同形態的薄膜，採用對襯底加熱和不加熱兩種實驗，最後得到無定形薄膜和晶體形態的薄膜，在無定形薄膜中發現有晶體顆粒的存在，且隨著襯底溫度的升高，晶體顆粒數量的增加要比其尺寸的增大更快一些，同時薄膜的電導率與薄膜成分中的氧含量有著密切關係。

 

用濺射法製備納米薄膜材料有以下優點:(1)可製備多種金屬包括高熔點和低熔點金屬的納米薄膜;(2)能製備多組元的化合物納米薄膜材料;(3)製備參數易控制、粒徑較均勻。但是該法的成本較高，不適宜大面積製備薄膜。

 

 

鎢粉生產商、供應商：中鎢線上科技有限公司
產品詳情查閱：http://www.tungsten-powder.com
訂購電話：0592-5129696 傳真：0592-5129797
電子郵件：sales@chinatungsten.com
鎢鉬文庫：http://i.chinatungsten.com
鎢新聞、價格手機網站，3G版：http://3g.chinatungsten.com
鉬新聞、鉬價格：http://news.molybdenum.com.cn
關注微信公眾號“中鎢線上”，瞭解每日最新鎢鉬價格