本文介紹共浸漬法製備一種毒性小、成本低且NOx去除性能優良的新型低釩脫硝催化劑，以銳鈦礦型二氧化鈦為載體，五氧化二釩為主活性組分，仲鎢酸銨製備的三氧化鎢和氧化鈰為發揮協同效應為次活性組分。

具體步驟如下：
1.配置含草酸為25g/L濃度的草酸溶液，然後依次加入偏釩酸銨和仲鎢酸銨，在30〜40°C水浴中加熱攪拌，形成透明溶液；
2.將硝酸鈰溶於草酸溶液中，配置成溶液；
3.逐滴加入步驟1所配置的溶液中，形成絮狀沉澱，於30〜40°C水浴加熱攪拌30分鐘；
4.往步驟2中所得溶液裏緩慢加入二氧化鈦粉末，並適當加入少量去離子水，均勻攪拌1小時，得到白色漿料；
5.將步驟3中所得漿料放入超聲波清洗機裏超聲浸漬2〜4小時，然後在110°C 烘箱內乾燥過夜，再放入馬弗爐於400〜500°C焙燒4〜5小時，得到低釩脫硝催化劑。

該方法的優勢在於：降低了主活性組分V₂O₅的用量，從而減輕了對環境的污染程度，降低了 WO₃的用量進而降低了成本，同時添加了新的助劑二氧化鈰，通過優化催化劑的主次活性組分，從而發揮活性組分間的協同催化作用，有效改善了催化劑的性能。

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仲鎢酸銨（APT）中微量硫的存在直接影響最終鎢合金的性能，為控制雜質的含量，就要求有一個靈敏、快速、準確的檢測雜質硫的方法。（NH₄）SO₄是硫在APT中的主要存在形式，它在溫度達到450℃時就開始分解。而按照國家標準的APT中硫的分析程式中，樣品需預先在500℃下煆燒，此時樣品中的硫已經有一部分揮發掉了，如此測得的資料不能真實反映APT中雜質硫的含量。故而，改進APT中硫含量檢測方法變得十分的有意義。

紅外吸收法是根據物質對紅外輻射的特徵吸收建立起來的一種光譜分析方法。分子在吸收紅外輻射後發生振動能級和轉動能級的躍遷，因而紅外光譜又稱分子-轉動光譜。本文提出使用高頻紅外吸收法來測定硫的含量，原理是：在氧氣氛圍中，採用高頻爐將樣品瞬間加熱熔化，使得樣品中的硫以二氧化硫的形式析出，利用二氧化硫對紅外線具有選擇性吸收，並且服從光的吸收定律——郎伯.比爾定律的特點，快速檢測出樣品仲硫的含量。

具體實施為：稱取適量的APT樣品置於坩堝中，上面依次覆蓋純鐵、純鎢粒；將坩堝置於坩堝托上，通養燃燒，樣品中的硫生成二氧化硫；由載氣—氧氣送至紅外池產生紅外吸收，通過電腦進行資料分析，給出硫的分析結果。

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超細和超粗碳化鎢（WC）晶粒是近年來硬質合金的兩個發展方向。粗晶WC硬質合金的重要原材料是粗晶WC粉，因其在高溫下具有結構缺陷少、顯微硬度高、微觀應變小等一系列特殊性能，因而被廣泛應用於石油鑽探用鑽頭及石油射孔彈元件材料，反彈道導彈系統以及重裝甲穿甲彈原料中。



目前工業上常用鉬絲爐在1200℃高溫下進行三氧化鎢（WO₃）的一次直接還原制取粗顆粒的鎢粉。但是，這種方法得到的鎢粉顆粒多為規則的近等軸形，粒度比較小，成形性非常差，需加入有機物作為粘結劑才能成形，這很不利於大型製品的成形和合金性質的控制。本文採用仲鎢酸銨（APT）直接還原工藝製備粗晶粉，並碳化制得WC粉。

製備步驟如下：
1.使用濃度為37%的鎢酸銨溶液，放入反應爐內直接加熱，蒸發結晶，制得APT晶體粉末；
2.將APT進行研磨破碎，過60目篩，控制晶體粒度；
3.將過篩的APT置於單管氫氣爐中還原，還原條件：氫氣截面流量50ml/cm².min，還原溫度850℃~1000℃，保溫90~180min，得到鎢粉；
4.將鎢粉置於去離子水中，用超聲波振動，清洗至溶液澄清，乾燥、研磨、過篩；
5.將鎢粉和炭黑按照一定比例混合，置於碳管爐內，高溫1700~1800℃下進行碳化，球磨、篩分，獲得粗晶WC粉末。

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隨著氬弧焊、等離子焊接、切割、噴塗技術的不斷更新和發展，對電極材料的要求也越來越高。中國在1972年首次成功研製了鈰鎢電極，它具有非放射性，低熔化率，熱電子發射能力強，電弧穩定，熱量集中，使用壽命長，端頭形狀易於保持等良好性能，在很大程度上取代了具有放射性的釷鎢電極。

鈰鎢電極是在鎢基電極中加入了2%以下的氧化鈰（CeO）經過粉末冶金和壓延磨拋等工序製備而成的鎢電極產品。它主要應用於低電流的直流焊接，因為其在低電流環境下有著良好的起弧性能和焊接性能，適用於管道、不銹鋼製品和細小部件的焊接。鈰鎢電極不適合在高電流條件下使用，因為在高電流條件下氧化物會迅速移動到高熱區，即電極焊接處的頂端，造成氧化鈰均勻度的破壞。氧化鈰的均勻度是影響鈰鎢電極性能的主要原因之一，因此鈰鎢電極不適合應用於高電流條件下。

鈰鎢電極的材料性能如下：逸出功：2%Ce-W2.4ev；α射線劑量：2%Ce-W2.42×10-5居裏/公斤；氧化性能：氧化性能較高。

鈰鎢電極的電弧性能：陰極壓降：2%Ce-W12.0V；陰極斑點：陰極斑點與使用壽命有著密切聯繫，鈰鎢電極的陰極斑點小，損耗小；電極發射電流密度：較高；最小起弧電壓：12V。

鈰鎢電極的應用性能：燒損率：低；反復引弧可靠性及損耗率：引弧穩定，損耗率低；焊縫熔深：良好。

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除了酸液浸蝕和等離子蝕刻去除鈷Co的方法之外，在金剛石薄膜和硬質合金刀具基體間預先沉積一層過渡層也是一種常見的預處理技術。目前較為常見的幾種過渡層材料有單一過渡層以及複合過渡層，其中單一過渡層有矽（Si）、鉻（Cr）、硼（B）、銅（Cu）、鈦（Ti）、碳化矽（SiC）、氮化矽（Si₃N₄）、氮碳化矽（SiC_xN_y）氮化鈦（TiN）、碳化鈦（TiC）、氮碳化鈦（TiCN）、（Ti，Si）N_x、類金剛石鍍膜（Diamond-like carbon，DLC）等等；複合過渡層包括碳化鎢/鎢（WC/W）、碳化鈦/氮化鈦（TiC/TiN）、氮化鈦/氮碳化鈦/氮化鈦（TiN/TiCN/TiN）、氮碳化鈦/鈦（TiCN/Ti）、鉻/氮化鉻/鉻（Cr/CrN/Cr）、銅/鈦（Cu/T）等等。

引入該過渡層的作用有許多，其一由於過渡層的存在阻礙了碳和基體中促進石墨生長的鈷Co的擴散；其二，降低了由於金剛石塗層與硬質合金基體材料間的晶格參數或熱膨脹係數不匹配而產生的熱應力出現的可能性；其三，該過渡層改善了傳統金剛石薄膜與硬質合金基體間的結合強度，它與兩種異質材料都能形成具有一定強度的結合鍵；其四，其能在一定程度上提高金剛石的形核密度（形核 nucleation（也稱成核），過冷金屬液中生成晶核的過程，是結晶的初始階段。）和金剛石薄膜的附著力；最後，過渡層具有穩定的化學性質並且也具有一定的機械強度。

下面介紹幾個對於過渡層研究的相關實驗。有相關研究人員通過一定的工藝技術用鈦（Ti）和氮（N）離子與基體產生大量反應生成TiCN後逐漸減少N離子，使得過渡層含C、N量向表面方向遞減，直至最後表面為純鈦。這是為了在表層植晶時，金剛石晶體部分與鈦Ti反應生成碳化鈦TiC，部分作為沉積金剛石薄膜過程中的籽晶，以此來提高金剛石薄膜與過渡層之間的結合力以及金剛石的形核密度；還有一些研究發現利用TiN以及TiCN作為沉積過渡層，會使得金剛石薄膜純度較高，但是形核速度較慢。因此，他們嘗試直接在硬質合金基體表面沉積一層鋁膜，或是沉積一定數量的不連續的金剛石晶粒，從而改善了TiN/TiC和金剛石間熱膨脹係數的不平衡，使得金剛石的性和速度和附著力都得到顯著的提升；國外相關學者採用等離子脈衝鐳射熔融法在硬質合金基體表面形成一層氮化硼（BN）膜，其既消除了鈷Co所帶來的不利影響，又顯著地提高了金剛石塗層與硬質合金基體間的附著力。此外，國內學者也在硬質合金上基於鉻過渡層沉積CVD金剛石塗層，通過SEM以及光譜分析表明沉積工藝對金剛石的形態和成分有較為顯著的影響，並最終的到晶形完整、非金剛石成分較少，與硬質合金基體結合緊密的CVD金剛石塗層。
 

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