光変色は、放射線の変色の形式の一つである。それは、紫外光の放射線を通して三酸化タングステンの着色を生成する。着色態はUV放射線を停止し、酸化する環境下に色あせての可逆過程である。三酸化タングステンフィルムの光変色に影響するの要素が多く、フィルムの密度、厚さ、照射UV波長と週波数および変色の過程の中で週囲の環境の雰囲気などである。

三酸化タングステンフィルムの光変色は、光と励起し発生した電子-正孔対が繋がる。電子-正孔は三酸化タングステンフィルム中の水をかなりの数分解する。形成した陽子と準安定のキシの場合、もし新入生のキシを迅速に捕獲し、酸素の空席で、この反応の逆過程を免れる。そして、介定常の陽子と電子を発生し、これらは色を形成するの基礎である。陽子と光の電子は最終的に有色のタングステン靑銅型の構造をつながった。また、酸素は三酸化タングステンの空席の位置を占めて、または分子の形で週りの空気の中を逃げる。三酸化タングステンフィルムの高いバンドギャップ3.25eVで、光の電子を発生することに限定した。正孔対とその後の変色過程で近く紫外線の区域である。

紫外線の区域で三酸化タングステンは光変色を引き起こし、同一の吸収帯を形成する。そして、暴露の酸素の下を置いて三酸化タングステンフィルムは完全に変化される。

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三酸化タングステンフィルムはとても重要な機能の材料で、電界変色材料、光変色変色材料、ガスを材料に、熱を変色材料など幅広い用途に使われる。

三酸化タングステンフィルムを調製する－ノール塩法は、まず乾燥のN２の雰囲気の中で、基地はWのアルコール溶液の中に入る。そして、電動でしみこんで塗って設備は基底を引き出す。乾燥した雰囲気の中でコーティングを乾燥し、過度の有機溶剤を除去する。この過程は約30minなければならない。そして、相対湿度は30％の雰囲気の中で、コーティングを分解し、W-OR（有機材料）からW-OHとR-OH（最終蒸発）までに変える。また、塗膜は十分に分解してゲルを形成することを保証するために、その過程は1hに必要であ。最後に、フィルムを熱処理して、この過程は二つの熱処理プロセスを含む。第1歩、200℃まで加熱して、30minを保留させて、殘りの有機溶剤と水分を揮発する。第2歩、４３０℃以上の温度を加熱し、ゲルは乾燥されて、殘した有機溶解剤を除去する。W（OH）からWO3とH2Oまで変えて、三酸化タングステンフィルムを形成する。

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三酸化タングステンフィルムを調製する-ノール塩攪拌法はまずWOCl4を採用し先駆けとしている。3g WOClの溶液は15.3gプロパノールに溶かし、グローブボックスの中で絶えず攪拌する。ゾルゲルは形成の過程の中でゾルゲルの現象を避けるために、10-20mlのアセチルアセトン表面活性剤を加入し、7ml希釈（1 M）の塩酸を加入して、その反浸潤特性を高める。そして、上記の溶液はシステムを通じてフィルターの高速回転するのがめっきITO導電膜のガラス片で、余分な溶液の回転速度はされ3000r/m～750r/mあるいわ1500r/mの塗膜機を投げて、速度60sを維持する。調製したフィルムは180℃の温度で20min熱処理をくわえる。最後に粒径は190nmの三酸化タングステンフィルムを得る。

研究を表明して、この調製の工芸は熱処理する前後、フィルムの密度の変化を発見して、三酸化タングステンフィルムの密度はに体材料の密度（7.16g / cm³）に対してより低い。しかし、熱処理する前に0.57、180℃焼鈍後0.64になって、フィルムは六者相の結晶構造である。

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三酸化タングステンは黄色の粉末で、水に溶けないが、アルカリとマイクロ酸を溶ける。主に還元でタングステン粉と炭化タングステン粉末を生産する。さらに硬質合金の製品を生産して、例えば切削具と金型の製造である。同時にも純タングステンの製品、钨条、タングステン、タングステン電極を製造することを使える。また、用途の重量と放射線の遮蔽材料にも使える。工業生産にも少量の陶磁器の黄色の着色剤がある。船舶工業では、タングステンの酸化タングステンは重要な防腐のペンキと塗料材料を使される。三酸化タングステンの用途が広いため、多くの人はもっと力を入れて三酸化タングステンを研究する。現在、研究を発見して、ガラス状の三酸化タングステン、製品およびその独特の性能を調製するのは、さらに生産加工の領域の特殊な需要を満たすことができる。

ガラス状の三酸化タングステンを調製する時、まず4hのタングステン粉（直径1μm）が15%で25mlのH2O2に加入して、3-10分後、タングステン粉がほぼ完全に溶解する。溶液は無色で、強い酸性を呈する。そして、少量の未溶解の不純物は除て、Pt網は過度のH 2O2を還元する。そして、室温の環境の中で、溶液は通風と乾燥して、淡い黄色のガラス状の三酸化タングステンを得られる。

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電界変色というのが、材料の光学の性能は電界の作用の下で可逆変化を発生するの現象で、外観の性能には色および透明度の可逆変化を変える。三酸化タングステンフィルムの電界変色性能に影響するの要素が多く、フィルムの密度、空隙率、粒度、導電率、膜の組部と膜の構造、イオンはフィルムの中で拡散係数、電荷の数で、循環の電圧などである。

三酸化タングステンフィルムの電界変色は、ミクロの構造から説明し、三酸化タングステンフィルムの格子構造は、WO6八面体ユニットを結成した。その中のWのt2g準位は空の軌道で、酸素の2Pn準位の間の隙間が広い。普通の情況の下で、材料は透明である。そして、イオンと電子を注入する時、余分な電子はt2gの準位に入り、材料は透明から吸収や反射までになる。また、イオンと電子は抽出された時、材料は元の状態へ戻る。簡単な説明で、フィルムの結晶化合物中の酸素イオンを欠損しから、酸素席の空を形成する。電界の作用の下で電子は充填で、色を形成し変色を引き起こす。

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三酸化タングステンフィルムの気変色というのは、三酸化フィルムは水素を含むの雰囲気を暴露して着色を発生し、酸素の雰囲気で色褪せたの現象である。三酸化タングステンフィルムの電界変色に比べて、気変色はシステムの構造が簡単で、変色の範囲が広いが、三酸化タングステンフィルムの上で触媒層に加える必要である。一般はPt、Rhで、変色プロセスの制御性にとって、電界変色は明確な利点がある。

三酸化タングステンフィルムの気変色メカニズムは、表面で吸着の水素分子は触媒層の作用の下で、水素原子を分解して、水素原子は三酸化タングステンフィルム表面に沿って穴に膜内を拡散する。そして、拡散の過程の中で、2つの水素原子と三酸化タングステンフィルム結晶粒界の酸素原子と結合で水を形成する。それによって三酸化タングステンフィルムの粒体で酸素空席が空いている。体内に酸素を形成し三酸化タングステンフィルムの色を招き。

全体にとって、三酸化タングステンフィルムの気変色の研究はまだ調合技術と性能テストの方面で、それの変色メカニズムの研究はさらに深く入る。

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三酸化タングステンは遷移の金属の酸化タングステンにとして広く応用がある。最近、三酸化タングステンはそのが比較的に敏感な電界変色の効果で幅広い研究を受けた。ナノテクノロジーの出現に従って、合成と研究する三酸化タングステンナノ構造はナノ材料の方向のホットになった。以下の紹介は三酸化タングステンナノワイヤの調製方法である。

三酸化タングステンナノワイヤーを調製するのは、まず電子天秤による8.25gタングステン酸を取り250 ml脱イオン水を溶解し、磁力をかき混ぜて、完全に溶解する。そして、メスシリンダーで10 ml濃い塩酸を量て30mlの脱イオン水と混合して、配置の濃度は3mol/Lの塩酸溶液である。そして、上記のタングステン酸ナトリウム溶液は3mol/Lの塩酸の中に雫し、磁力をかき混ぜて、pH値は1-1.2に達成させる。攪拌した30min後で薄い黄色の沈澱物を得られる。それから、その沈澱物は遠心で洗浄して200 ml、0.1mol/Lのクエン酸溶液中に溶けて、透明液を得る。;最後にその透明溶液は反応釜に移入して、反応釜は1.3gの硫酸ナトリウムを添加して、そして反応釜を密封する。恒温の槽の中に置いて、２４０℃の環境で32hを反応する。反応が完成した後、冷却するまでに室温ぐらいまで、反応後の沈殿は遠心で精製し、乾燥した後で試料容器を保存する。即ち三酸化タングステンナノワイヤである。

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SEM構造方程式モデルは要因分析と経路分析を融合するの多元の統計技術である。その勢いはめまぐるしく変化量間相互関係の定量の研究である。過去30年で、SEMは社会科学と行為科学の分野で大量に応用される。そして、ここ数年から徐々に市場の研究に応用する。SEMを利用して三酸化タングステンナノワイヤーを分析し、もっとナノワイヤーは外界の要素の影響による形の変化を引き起こす。前駆体を通じておよび反応温度を分析する。

三酸化タングステンナノワイヤーは調製する過程の中では、タングステン酸を前駆体として、まず、その他の条件が一緻した場合で、1.3gのタングステン酸を反応して三酸化タングステンナノワイヤーを調製する。その直径は200-500nmで、長さは5 - 10μmである

次に、反応温度を抑えることが通してその合成の三酸化タングステンナノワイヤの外観の影響を研究することができる。タングステン酸の反応時間は32hなどの条件が一緻の情況の下で、２４０℃の環境の中で反応を獲得した三酸化タングステンナノワイヤの直径は200-500nmで、長さは5μmである。また、200℃の環境で反応を獲得した三酸化タングステンナノワイヤの直径は200-600nmで、長さが1.6-3.3ミクロンで、容貌のほとんどは棒状の構造である。

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三酸化タングステンナノワイヤーと電極の間の接触はオーム接触の際、違い湿度の下で、三酸化タングステンの電気の運送にとして違い影響を受ける。

三酸化タングステンナノワイヤーは水蒸気吸着する後に、水分子の中での陽子は電子を引き付けて、電子はナノラインの表面が集まりを引き起こす。そして、電子は表面へ集まった後、ナノワイヤーと電極このインターフェースの電荷の酸素空位を誘導する。また、相対湿度の増大につれて、誘導した酸素も増えて、接触界面のナノワイヤーはN型半導体から一転P型ドーピング半導体までに変える。N型半導体と電極の接触し、障壁のショットキダイ接触p型半導体を形成する。だから、私たちは相対湿度を通して三酸化タングステンナノワイヤの伝導性能を抑える。

最終的に述べたように、水分子はナノ線の表面を吸着して、しかも数が増えにつれて、表面に吸着集まった電子が増えて、体内の自由電子の数を低下する。それに従って、相対湿度の増加に従って、ナノは自体の伝導が低い。また、吸着したナノライン表面の水分子は散乱中心をとして、電子の移動率を下げることで、最終的には電気輸送の能力に影響する。

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OLEDというのは電気ルミネセンスのデバイスで、このデバイスは潜在力が十分にあるが、現在で広範な注目を受けたし、実際の応用を得ました。研究者はOLEDデバイスの発光効率を高めて、発光の光度、パワーデバイスの使用寿命を延長するなどの方面で大量の研究を行った。高性能のOLEDデバイスを実現するために、電圧を動かすのは必要である。このデバイスは常用の陽極材料はITOで、またIWOとNPB層の間に三酸化タングステンフィルムを挿入し緩衝層になる。このデバイスのエレクトロニクス性能を変える。

また、三酸化タングステンフィルムを挿入しない緩衝層になるのデバイスにとして対照的で、電圧は8Vを」加える時、2つのデバイスは輝き始める。電圧は15Vを追い越す後、緩衝層があるのデバイスの発光輝度が急速に増えて、電圧は20V時、緩衝層を挿入しないデバイスの亮度は8791cd /㎡である。しかし、緩衝層を挿入しのデバイスが17360cd/m2である。明らかに、三酸化タングステンフィルムの緩衝層を加入するのデバイスは発光の明るさに有効を高める。

最終的に述べたように、OLEDデバイスが三酸化タングステンフィルムの緩衝層を挿入する時、電圧を増加するにつれて、デバイスの電流の密度も増える。そして、三酸化タングステンフィルムの作用の下でその電流の密度が急速に成長して、それによってデバイスの仕事の効率を提高める。

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