为何六氟化钨需要净化再提纯

六氟化钨是钨和氟形成二元化合物，化学式为WF₆，在钨的氟化物中，六氟化钨(WF6)是唯一稳定并被工业化生产的品种。

六氟化钨在不大于2.0℃时为白色固体，在2.0-19.9℃之间呈淡黄色液体，在不小于17.5℃时为无色气体，其密度为3.44g/cm^3，相当于空气的12.9倍，是已知最重的气体之一，WF₆的相对分子质量为297.84，其分子在常温下具有对称的正八面体结构，并具有抗磁性。

六氟化钨主要用途是用来制备高纯钨粉和作为金属钨化学气相沉积(CVD)工艺的原材料，特别是用它制成的WSi₂ 可用作大规模集成电路的配线材料。通过混合金属的CVD工艺制得钨和铼的复合涂层，可用于X-射线的发射电极和太阳能吸收器的制造。此外，六氟化钨还可用于电子行业中半导体电极和导电浆糊的原材料，可以说，六氟化钨在高科技领域均有着难以替代的作用。

目前常用于合成六氟化钨的方法有三种，第一种是通过氟气和钨直接反应生成六氟化钨。第二种是钨和三氟化氮（NF₃）直接反应生成六氟化钨。第三种方法是通过用钨、卤素和HF进行反应生成六氟化钨。从真正意义上来说，三种方法所制取的六氟化钨只能算初级成品。其仍含有大量的杂质,纯度还难以达到工业要求，因此，对于六氟化钨的再提纯净化提纯也就尤为必要。

工业需求的确六氟化钨其纯度要求均很高，一般不低于99.999％（3N）。因此，六氟化钨需进行再净化提纯，提纯的方法有很多，主要有：氢氟酸净化法、碳净化法、六氯化钨置换法等。

工业需求的确六氟化钨其纯度要求均很高，一般不低于99.999％（3N）。因此，六氟化钨需进行再净化提纯，提纯的方法有很多，主要有：连续精馏法、碳净化法、六氯化钨置换法等。上述方法各有所长，可将纯度低于99.9％的六氟化钨，含水量小于1ppmv，HF含量小于1000ppmv的初级六氟化钨 提纯至99.999％以上，使之适用于半导体行业需求。

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