高性能氧化钨光催化剂制取

近年来，随着工业化进程的发展和人们生活水平的迅速提高，环境污染问题成为目前人类面临的主要难题，尤其是水体污染，越来越多的引起大家的关注。水体污染源中，工业废水占很大一部分，因其颜色深，毒性强，很难处理。

作为过渡金属氧化物的一员，氧化钨(WO₃)是一种间接带隙n型半导体材料，其禁带宽度是2.2-2.8eV，对于可见光有很好的吸收，因此是一种非常具有发展潜力的半导体光催化剂。然而，目前有多种方法制备三氧化钨，可控性差，光催化性能难以把握。

有学者提出一种高性能氧化钨光催化剂的制备方法，其主要过程如下：

步骤1，将钨酸钠加入至去离子水中，超声分散形成浓度为0.01-0.03mol/L的溶液；

步骤2，将步骤1的溶液中缓慢滴加盐酸溶液，直至完全溶解，密封反应3-5h，得到浅黄色液体；

步骤3，将浅黄色液体依次均匀通过阳离子交换树脂填充柱，得到钨酸浅黄色胶体；

步骤4，将钨酸浅黄色胶体放入旋转蒸发装置中进行减压蒸馏，得到浅黄色浓缩液；

步骤5，将聚乙烯吡咯烷酮加入至无水乙醇中，形成0.1-0.5g/L的粘稠醇液，然后加入浅黄色浓缩液中，得到钨酸的醇水混合液；

步骤6，将钨酸的醇水混合液进行二次减压蒸馏，得到二次浓缩液；

步骤7，将无水甲醇加入至二次浓缩液，形成混合醇液，然后将混合醇液放入电解反应釜中进行密封压力电解反应10-15h，过滤后得到高活性氧化钨光催化剂。

所制氧化钨光催化剂依次采用365nm的紫外灯与可见光灯源进行1-5h光照，所述光照条件为恒温恒湿，经光照后的氧化钨催化剂保持其活性，不仅在紫外光区域具有良好的光催化性能，而且在可见光区域同时具有良好的光催化性能。

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