纳米钨酸铯是近几年才被发现的新材料，已被广泛应用于透明隔热膜领域，在汽车隔热膜、建筑玻璃膜、遮阳隔热的各个行业，此外还被用做纺织品的保暖纤维材料，电子封装材料、激光打印、激光焊接、医药诊疗各方面。

三氧化钨又被称为黄色氧化钨，化学式WO_3，其密度为7.16 g/cm³；熔点为1473 °C；沸点约为1700 °C。主要用于制高熔点合金和硬质合金，制钨丝和防火气敏材料等，也用于光催化剂材料。

纳米钨酸铯是近几年才被发现的新材料，已被广泛应用于透明隔热膜领域，在汽车隔热膜、建筑玻璃膜、遮阳隔热的各个行业，此外还被用做纺织品的保暖纤维材料，电子封装材料、激光打印、激光焊接、医药诊疗各方面。

钨酸铯，英文名称为cesium tungstate，也被称为铯钨青铜，分子式为Cs₂WO₄，无色晶体，具有很强的吸湿性的晶体。钨酸铯是具有较强近红外吸收或放射性能的无机透明隔热材料，自问世以来，不断被高端玻璃制造商及涂料商追捧。

六氟化钨是钨和氟形成二元化合物WF₆，在钨的氟化物中，WF₆是唯一稳定并被工业化生产的品种。它的主要用途是用来制备高纯钨粉和作为金属钨化学气相沉积(CVD)工艺的原材料。

紫色氧化钨，缩写为VTO，因其外观呈紫色而得名，是业界公认制取超细或纳米级钨粉的最佳原材料，它是在精准控制温度还原状态下，生产仲钨酸铵的过程中产生的。紫色氧化钨主要用于生产金属钨粉和碳化钨。

紫色氧化钨，即γ-氧化钨，化学名为WO_2.72，呈紫色或蓝紫色细碎晶体状粉末，紫色氧化钨具有独特的细针状结构，与蓝钨、黄钨相比，紫钨具有特殊的表面，化学活性最高，因此，紫钨最适宜用于超细颗粒钨粉的生产。

化学气相沉积法则是以六氟化钨（WF₆）为钨源，利用钨氟化物的熔点和沸点低的特点，采用精馏或蒸馏的方式提纯，并在一定温度下被H₂还原，将生成的钨沉积在特定的基底上，沉积完成后去除基底材料获得致密钨坯，高纯钨是广泛用于大规模集成电路的金属材料。

微电子技术中大规模集成电路集成度的提高对材料提出了更高要求，传统的Si基器件已不再适用。高纯钨或超纯钨(5N或6N) 由于具有高电子迁移抗力、高温稳定性以及非常高的电子发射系数，广泛用作半导体大规模集成电路的门电路电极材料、布线材料和屏蔽金属材料。

高纯钨具有对电子迁移的高电阻特性和高温稳定性，能够形成稳定的硅化物，在电子工业中常以薄膜形式用作栅极、连接和障碍金属。此外，高纯钨还常用于制造靶材、航空材料等,因此，金属的纯度对于金属的应用起着非常重要的作用，痕量杂质的存在都会影响金属的特性，这就对高纯钨的分析测试方法提出了较高的要求。