二層全無機エレクトロクロミック素子への酸化タングステンの使用

酸化タングステンは、二層全無機エレクトロクロミック素子のエレクトロクロミック層材料としてよく用いられる。専門家によると、このエレクトロクロミック装置は可視光の透過率を50%〜0.01%に調整し、その後、着色状態における光の透過率を大幅に低下させることができ、それによって室温の低下、省エネ、プライバシー保護の効果を達成することができる。

詳細については、

http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

専門家たちはまた、上記2層の全無機エレクトロクロミック素子には、下分離層、下イオンバリア層、下透明導電層B、下イオン記憶層、下電極層、下エレクトロクロミック層と下透明導電膜a、基板、上透明導電層a、上エレクトロクロミック膜、上部イオン層、上部イオン貯蔵層、上部透明導電層B、上部イオンバリア層及び上部分離層。このエレクトロクロミック素子は、両面マグネトロンスパッタリングコーティングプロセスにより基板の両側に形成することができる。ここで、エレクトロクロミック層はすべて酸化タングステン薄膜である。

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