ケトンは重要な化学工業の原料であり、主にカプロラクタムとアジピン酸を生産に用いる。また、塗装、インク、セルロース、合成樹脂、合成ゴムおよびシンナーなどを用いる。無相転移剤、無酸性リガンドの条件の下で、30％のオキシドールは酸素の源として、メタノールは溶剤にして、単独では三酸化タングステンを使ってシクロヘキサノール合成キクロハイケンワンを触媒する。解媒の過程に、いずれも分離しやすく、解媒を克服するの欠点がある。

解媒の過程の中で、三酸化タングステンの用量は製品の収率に対して一定の影響がある。三酸化タングステンの用量は0.50mmol時、溶液の酸性が低く、活性中心の数が少ないため、ケトンの収率は低い。しかし、触媒剤の使用量を増加に伴って、溶液の酸性が強化し、活性中心の数も増える。また、三酸化タングステンの用量が1mmolに増える時、反応に必要な活性中心数を提供することができて、ケトンの収率は73.5%に達する。しかも、三酸化タングステンの使用量は再び増加に従って、ケトンの収率は明らかに高めしない。だから、三酸化タングステンの用量の過程の中で、無限量の触媒剤の用量を増加するのはケトンの収率をを上げられなく、三酸化タングステンの量を抑えるべきだ。そして、0.50mmol-1mmolを維持して、ケトンの生産量を確保する。

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三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、違う反応時間もケトンの収率に一定の影響がある。

表1で、反応時間はケトンの収率に影響する

以上の表のデータを見抜くことができて、三酸化タングステンの触媒剤の使用量が一定の時に、反応時間は1hから3hまでに至る時、ケトンの収率が大幅に向上し、73.5 %に達する。そして、反応時間を再び増加して、ケトンの収率の変化がはっきりしない。一定の反応時間に達する時、この反応が十分果すうだけである。また、反応時間は3hに達する時、反応係が平衡に傾いて、すでに最大の転化率に達成する。明らかに、反応時間はケトンの収率に影響を与える。高い生産能力のケトンを得られる他名に、反応時間は3hを設定するべきだ。

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三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、オキシドールの使用量はケトンの収率に一定の影響がある。

表1はオキシドール用量はケトンの収率に影響する

以上の表のデータを見抜くことができて、三酸化タングステンの触媒剤の使用量が一定で、オキシドール量の増加に従って、ケトンの収率が増える。オキシドールの用量は15mL時に、ケトンの収率は73.5 %に達した。そして、オキシドールの使用量を再び増加して、ケトンの収率は緩やかに増加する。したがって、オキシドールの用量は増加すぎて、ケトンの収率があまりさらに高めない。だから、オキシドールの使用量は15mLに維持するべきだ。

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三酸化タングステンの触媒はケトンを調製して、調製する過程の中で、適切な溶剤を选択するには反応が非常に重要なことである。だから、違い溶剤はケトンの収率の影響をシステムに考察する。表1中のデータを見抜くことができて、メタノールは、この反応のベスト溶剤である。

表1違い溶剤はケトンの収率に影響する：

表2メタノール用量はケトンの収率に影響する：

表1から見ると、メタノールはこの反応の最高の溶剤である。メタノール使用量はケトンの収率の影響をさらに考察する。また、表2のデータから見抜くことができて、メタノール使用量の増加に伴って、ケトンの収率は次第に低下する。メタノール使用量の増加につながるため、反応物の濃度が低下し、ケトンの転化率を下げて、それによってケトンの収率も低下する。だから、5mLはメタノールの最高用量である。

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三酸化タングステンは触媒にケトンの収率を調製するさまざまな要素に影響を受ける。さらに違い晶型のWO3の触媒剤はケトンの収率の影響を考察するために、表を分析し：

以上の表を見ると、焼成温度の変化につれて、触媒剤WO3の結晶が変わって、しかし、ケトンの収率の変化は明らかではない。WO3の結晶はこの反応が影響に大きくない説明することがでる。しかし、メタノールの溶剤を加入する時、ケトンの収率はない溶剤により高める。

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三酸化タングステンは触媒にケトン収率を調製するのははWO3の繰り返し使用性に影響を受ける。理想のWO3の触媒剤は高い選択で、良好な抗酸化安定性があるべきだ。だから、WO3の触媒剤の繰り返し使用の性能は非常に重要なことである。解媒の調整する過程の中で、反応が終わり時、触媒剤が回収される。そして、分離したWO3は80℃で1.5hを乾燥して、100℃で0.5hを乾燥し、そして繰り返し使用を行う。以下のデータはWO3繰り返し使用の回数がケトンの収率に影響するの分析：

以上の表のデータを見抜くことができて、WO3は繰り返し5回を使って、ケトンの収率が80％以上である。これはWO3が良好な繰り返し実用性があることが説明することができる。

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電界変色フィルムの材料は各種の有機と無機の化合物を含んでで、その中に研究が最も多く酸化タングステンである。その主要な調整方法は真空熱蒸発、電子ビーム蒸発、スパッタ、気相沈澱、電着沈澱とゾルゲル法などである。電界変色フィルムは一定温度の熱処理を加えて、その接着性と循環使用の寿命を高めることができる。しかし、高温で熱処理を加えてはフィルムの応答時間と変色幅に影響する。

一般的物理の調製方法は高い温度の熱処理を経て、例えば電子ビーム蒸発法が500e熱処理が必要です。スパッタリング法が200～300e必要である。これらの方法はコストが高く、技術が複雑で、およびよく工芸の条件の要求が高いから、一定の制限を受ける。化学の調製方法の中でゾルゲル法は設備が簡単に、フィルムが均一および大面積に調製しやすい低温の調製方法である。しかし、一般的100e以上の熱処理が必要である。例えばアルコール塩法は250eの熱処理で、イオン交換法が150eで、ハロゲン法は120e必要である。

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（1）空気の浄化：常温でナノ酸化タングステンは触媒を作る。空気中の酸素と水蒸気などは汚染物質に酸化さらて空気がきれいになる。例えば、硫化物、窒化物、有機物などの有害ガスである。このほか、産業の排気ガスは光触媒の分解を行うなどである。

（2）防霧：ナノ酸化タングステンフィルムは基片上にめっきて、粉体のナノ酸化タングステンに比べる。その比表面積が大きいので、親水性はとても良い。大量の水蒸気は酸化タングステンフィルムに滴て均一の水膜を形成するとき、強烈な紫外線の光はナノ酸化タングステンのフィルムが強い酸化させる能力になる。だから、吸着の大量の有機物は汚染のない水と二酸化炭素を分解することができる。

（3）抗生物質：ナノ酸化タングステンは光触媒の過程の中で大量の光電と光生正孔を生むことができる。上の発生のフォトエレクトロンと光生正孔を利用して光触媒の表面の吸着水を酸化されてライト基とマイナスイオン酸素二を形成する。それは細菌の細胞あるいは細く菌内組分と反応して、細菌を徹底的に殺す。このように有効なのウイルスの釈放有毒汚染物質、汚染をを再び防止することができる。

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双電荷の注入あるいわ抽出のメカニズムの提出は人々がWO3機能材料の光変色の本質を深く認識がある。そして、各種の光変色材料と部品に関するの研究を推進する。タングステンの化学反応の角度から理解し、光変色の効果はタングステン原子の可逆酸化の還元過程である。電子帯の角度から分析して、光変色の過程はUV励起価電子帯電子遷移電子正孔対伝導帯まで後に形成され、光生電子はW6 +がW5+に変わて、発生したホールは酸化結晶やフィルム表面吸着水で、プロトンH +を形成した後拡散に結晶やフィルムにと酸化タングステンを結合してタングステン靑銅構造を発生する。それによって靑いを呈する。しかし、このメカニズムはWO3-x（x＜0.3）は光変色に備えないの原因を説明できない、

以上のメカニズムの分析に基づいて、人々は各種の合成方法を利用して酸化タングステンフィルムの光変色性能を優れた。成功的に酸化タングステンフィルムの材料は知能窓、光子の部品（光情報記憶、光コントロール）とWO3 /エネルギー複合太陽電池などの分野を応用される。

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