全固体器用窓用WO3フィルム

WO3薄膜は無線周波数マグネトロンスパッタリング法により調製することができ、エレクトロクロミック膜として、全固体の器用な窓を組み立てるために使用され、最も応用の将来性のある新型省エネ材料の一つとされている。この方法で三酸化タングステン薄膜を作製し、堆積させた酸化タングステン薄膜の各性能を試験する専門家がいる。

詳細については、次のページを参照してください。

http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

では、RFマグネトロンスパッタリングによるWO3薄膜の製造方法の条件はどれらがありますか。めっきチャンバの限界真空は1×10−3Paであり、スパッタターゲットは焼結WO3セラミックターゲットであり、ターゲット面積は78cm2である。スパッタガスアルゴン及び作動ガスの酸素の純度はいずれも99.999%、スパッタガスの総圧力は1.1-2Pa、酸素分圧は0.1-0.2Pa、ターゲット電力密度は1.4-1.9W/cm2、堆積速度は6-8nm/min、堆積時間は15-20minである。堆積したエレクトロクロミック膜の有効面積は5cm×5cmであった。堆積酸化タングステン薄膜の性能試験結果は以下の通りである：漂白状態可視光透過率：＞82%、着色状態の可視光透過率：＜20%；応答時間：<10s；オープンストレージ時間:>24h（ΔT>20%）；ワークサイクルサイクル:>105回、動作電圧：<±1.9V。

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