三酸化タングステンフィルムミクロ構造

フィルム沈積は初めに原子吸着、寄附、核、成長まで最後にフィルムを形成、核と成長とともに、薄膜堆積時のプロセスパラメ-タ(基本温度、ベースバイアス、気体圧力)の変えり、フィルムのミクロ構造の影響を受ける。1975年に、John A.ThomtonによるZone Modelsスパッタリングメタルフィルムにとって、基本温度とスパッタリングガス圧力(Sputtering Gas Pressure)フィルムのミクロ構造の影響に対して、4種構造区モデルを提出して、下の図の通り:

micro structure

ミクロ構造

低温高压(Ts/TM<0.3(TS:基片温度、TM:熔点))の条件で、フィルムの内部構造に多孔性の細い円筒の粒の構造を形成しやすくて、原因は表面原子移動率(mobility)は低く、このエリアZoneⅠと呼ばれる。高温(0.3<Ts/TM<0.5)の条件で、原子は多くの熱エネルギーを獲得して、わりに高い移行率を持つ、表面拡散能力増強につながる。それで粒が細くなって膜表面平滑になるし、および粒が緊密に積んで柱状構造を形成する、このエリアZoneⅡと呼ばれる。より高い高温(0.5<Ts/TM)の条件で、体拡散の能力増強によって、加上結晶粒子再結晶の因子を加える、高密度等軸結晶(equi-axisgrains)構造を形成して、このエリアZoneⅢと呼ばれる。ZoneⅠとZoneⅡ間に過渡区が存在するで、このエリアZone Tと呼ばれる。低温(Ts/TM≦0.3)低圧の条件で、フィルムの内部構造、結晶粒子がしっかり積んで併の境界決着のことがにくくて、これは遮蔽効果、表面拡散、体の拡散および再結晶などの現象総合作用の結果で、フィルムは繊維状の構造を呈する。

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三酸化タングスタンフィルムの光透過性

WGZ-8複光束紫外-可視分光光度計を運用してフィルムの光透過性分析をすると、入射光の波長の範囲は200~800nmで、光透過率は0%~150%。ゾルゲル法で調製した三酸化タングスタンフィルムの透過スペクトルは最大の光透過率を表現してその波長:85.3%、556nm。ピークとトラフは350~600nmの波長範囲の中、ピークトラフの光透過率差分は4.4%、300nmの波長の範囲内で光透過率ほぼゼロである。しかも、マグネトロンスパッタ法で調製した三酸化タングスンタンの透過スペクトルの中で最大の光透過率とその波長範囲はそれぞれ:90.1%、572~582nmで、ピークトラフ在350~650nmの波長で、ピークトラフの光透過率差分約21.2%である。

マグネトロンスパッタ法で調製したフィルムの温度が450℃の時に、フィルムの光透過率平均に約8~10%を下落し、プロファイルとピークはほとんど変化しない。焼鈍温度は500℃の時、フィルムの光透過率平均に約8%を下落し、ピークとプロファイルはあまり変わらない。

マグネトロンスパッタ法とゾル・ゲル法は調製した三酸化タングステンに比べて、光透過率の差異は大きくない。しかし、マグネトロンスパッタスペクトルのピークとトラフは更に明らかで、すなわちマグネトロンスパッタ法で制備したフィルムは違う波長光の吸収の差異がゾルゲル法で調製の三酸化タングステンフィルムより大きい。

ゾルゲル法は焼鈍の前後で違う温度に透過スペクトルを分析する。ゾルゲル法で調製したの三酸化タングステンフィルムに対して、焼鈍の温度が高ければ、フィルムの光透過率が低いほど。300℃下で焼鈍30min後、フィルムの光透過率は平均10%を下落し、ピークトラフの波長の位置に紫外線バンド移動するの現象があるが、明らかではありません。380℃で焼鈍後フィルムの光透過率は20%~25%を低下し、偏赤外部分の光透過率低下で特に著しい。ピークの数は変わらない、トラフの光透過率の差がより小さい。400℃で焼鈍後で、フィルムの光透過率は25%~30%に下落し、偏赤外部分の光透過率の下降は特に著しい。

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水熱結晶化法で三酸化タングステン光触媒を調製

三酸化タングステンは光触媒である有機材料と無機材料を分解方面には広い応用見通しがあります。原料でAPT とH2WO4を用いて固相法で焼結調製しでたWO3-X光触媒の効能は違う、高温条件以降APTは原料である得た六方の相WO3-X光触媒の効能がよりよい。

しかし、実験によって原料はタングステン酸(H2WO4)を用いて水熱結晶化法で得るのWO3-Xが六方の相である。酸素指数は2.50ですが、光は水を触媒すると分解する性能がさらによくなった。水熱結晶化法には、原料は温度のアップにつれて変化が起きている。温度が高くなると、産物がWO3-X.0.33H2Oから六方の相のWO3-Xになる。温度発展について単斜のWO3-Xになる。初めてWO3-Xの光触媒反応は温度が高くなるについてよくなる、しかし六方の相WO3-Xゆっくりして単斜のWO3-Xになる、その光触媒分解水性能も減少する。この中でわれわれこの結論をだす:酸素指数は減少に繋がる、WO3-Xの光触媒分解水速度がまず上げる限界に達すると急に下がる。つまりWO3-Xの光触媒性能は最適酸素空位含有量があります。酸素指数は2.44~2.50の時に、その光分解速度高く。だから六方の相WO3-XはWO3-Xの光触媒分解水性能がアップに有利になる。

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三酸化タングステン光触媒水析酸素性能

三酸化タングステンの原子価の大きい変化にようって、酸素含有量確定できない、構造と和エレクトロニクス性質が複雑から、異なる結晶形WO3-X的光触媒性質がずっと確定できない。たくさんの研究によって、異なる原料と異なる調製方法で合成したWO3-Xは構造と光触媒水析酸素性能の連絡非常に緊密です。まず原料はAPT を用いて固相法でWO3-X光触媒を焼結調製。その基に単斜相を組みます。処理温度は600℃の時、処理時間は4時間と、六方の相WO3-Xでますが、酸素指数は2.44で、光の分解水析氧は速度が一番高いです。365ナノの紫外線燈に照らされて、酸素の産生速度は148.8umol/L/h O2。それから原料はH2WO4を用いて固相焼結で調製したWO3-X光触媒を比較運用します。この方法を採用しで調製したWO3-X光触媒すべて単斜相ですが、温度は光触媒分解水の性能の影響があまりない。

原料でAPTとH2WO4を比べて調製した三酸化タングステン(WO3-X)光触媒と、異なる原料は調製したWO3-X光触媒の性能が違う。さらに実験の研究に通じて、異なる調製方法の得たWO3-X光触媒の性能が違う。

H2WO4は固相法で調製したWO3-X光触媒が単斜相ですが、光触媒分解水の性能は処置温度について変化が大きくない。しかし水熱結晶化法で調製したWO3-Xの中に正交相と六方の相がでます。酸素指数は2.50である、光触媒分解水の性能は大きな向上をえた。その中に24時間水熱結晶化産物の光は水を分解の速度が一番高いです。365ナノの紫外線燈に照らされて、酸素の産生速度は140umol/L/h O2にあげる。しかし水熱結晶化法で、反応温度の上昇にしたがって、原料は正交WO3-X·0.33H2O→六方WO3-X→単斜WO3-Xこの過程を経験した。WO3-X的光触媒分解水の性能も六方の相の含量の减少に従って低下します。

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マイクロエマルジョンで三酸化タングステンを調製する

現在は三酸化タングステン作製方法がたくさんある。例えば水熱法、固相法、液相法 、ゲル-ゾル法とマイクロエマルジョンなどである。マイクロエマルジョンというのは、相溶性のない2種の液体は界面活性剤で均一なエマルションになる、エマルションから固相を析出させる、これで核が成長や重合や団結などの過程を微小な丸い液滴の中に限って、それによって球形の粒子を形成することができる、粒がさらに団らんを避ける。以下は紹介するのはマイクロエマルジョンで三酸化タングステンを調製する方法:

1.0.200gCTABと取りに8mlシクロヘキサンと12ml正ブタノールに入って、そして十分に撹拌して均一になる。
2.得た混合液は二つに分けて、A溶液とB溶液である。A溶液の中に6ml1:1の塩酸溶液を入れる、超音波で乳化して15min。
3.B溶液に3mlのタングステン酸溶液を入れて、超音波で乳化して15min。
4.磁力の撹拌で、塩酸乳液はにタングステン酸溶液の中を入れて、溶液は黄色を呈し、色が深まらない。
5.撹拌を停止と、エイジングに16hで、上の液体を除く。そして、無水エタノールと蒸留水は数回を洗って、遠心の処理をして、100℃でオーブンに乾燥し、前駆物を得る。
6.前駆体はマッフル炉で3時間を焼き、黄色い粉末を得る。

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