氧化铝单晶钨钇金属化法
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- カテゴリ: 钨业知识
- 2018年5月28日(月曜)18:48に公開
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氧化铝复合单晶被焊表面的金属化改性是其与金属可靠封接的前提。常规的钼-锰类金属化工艺,烧结温度一般1400℃左右,后期焊接或使用过程中超过此温度,金属化层中的玻璃相就会漫流,破坏金属化层,从而影响陶瓷-金属封接强度和 封接气密性等性能。并且,较低的金属化烧结温度,也限制了氧化铝复合单晶与金属封接时高温钎焊料的选用,直接限制了封接件的高温使用。
钨金属化与钼-锰金属化相比,金属化烧结温度高,并且具有耐铯蒸汽腐蚀的特性。陶瓷钨金属化法中,以纯W和W-Y2O3为代表应用较多。其中,钨钇金属化法采用的金属化粉体是W粉、Y2O3粉、丁基卡必醇、二甲苯、聚甲基丙烯酸甲酯树脂几种成分长时间球磨形成的混合粉。这种粉体容易造成金属化层成分不均、杂质含量高等缺陷。对此,科研学者对氧化铝单晶的金属化采用W-Y2O3活化金属化工艺,金属化粉体采用共沉积法制备的钨-氧化钇复合粉,并通过二次涂膏,二次烧结工艺,完成氧化铝单晶表面金属化改性,这种工艺的具体操作包括:
(1)氧化铝复合单晶金属化前预处理
首先,将氧化铝复合单晶表面进行研磨、抛光处理,然后进行清洁处理;
(2)钨-氧化钇复合粉的制备
采用化学共沉积法,用钨酸、硝酸钇、草酸、水合肼制备草酸钨酸肼和草酸钇铵复合盐,然后再热解还原后得到钨-氧化钇复合粉;
(3)氧化铝复合单晶金属化一次涂膏
用硝棉溶液将钨-氧化钇复合粉调成膏状,均匀涂覆于氧化铝复合单晶表面,涂覆厚度30~40μm;
(4)氧化铝复合单晶金属化低温烧结
氢气气氛下,对进行了第一次涂膏的氧化铝复合单晶进行低温烧结;
(5)氧化铝复合单晶金属化二次涂,涂膏厚度为20~30μm;
(6)氧化铝复合单晶金属化高温烧结
氢气气氛下,对进行了第二次涂膏的氧化铝复合单晶在进行高温烧结。经检测,得到的氧化铝表面金属化层致密、强度高、金属化层质量均匀。并且经过活化钨金属化的氧化铝单晶可以用高温焊料焊接,封接件的使用温度明显提高。
经过工艺制备的金属化层与氧化铝复合单晶结合力强,不起皮,厚度均匀,为后期氧化铝复合单晶与金属的高气密、高强度封接提供了可靠保障。
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