钨酸铋薄膜制取方案

钨酸铋Bi₂WO₆是一种新型的光催化剂材料，因其具有无毒、价格低廉、高稳定性能、易于制备以及良好的可见光响应等优点，在光、电致变色材料、光电化学产氢、光催化降解有机物以及太阳能电池方面有广泛的应用前景。

钨酸铋薄膜具有良好的光电性能，其固有的较宽禁带特性(2.5～2.8eV)，有良好的可见光电响应，但纳米晶粒薄膜的光生电子-空穴易复合，导致薄膜的光电性能较差也是其的不足之处。

后来，研究者们发现，低维纳米结构的薄膜不仅能提高薄膜的比表面积，提供更多的化学活性位点， 且能减小光生电子在材料中传输的距离，减少光生电子-空穴复合率。目前，以导电玻璃为基底，钨酸钠为钨源，制备纳米片状和花状钨酸铋薄膜可以通过以下方案：

将厚度为0.5mm的钨板清洗后，备用。将0.1g的Bi(NO₃)₃•5H₂O加入50mL浓度为 1mol/L的硝酸溶液中，搅拌，充分溶解，得到铋盐的硝酸溶液；将洗净的钨板置于反应釜内衬中，再将铋盐的硝酸溶液倒入反应釜中，在180℃反应12小时；待反应釜冷却至室温时，取出，先后用乙二醇和水冲洗2～3次，在200℃中干燥6小时，得到钨酸铋薄膜。

研究发现，所制得钨酸铋薄膜中的钨酸铋垂直于基底定向生长。垂直于基底定向生长的薄膜不仅能提高薄膜的比表面积，提供更多的化学活性位点，且能减小光生电子在材料中传输的距离，减少光生电子-空穴复合率，有利于提高薄膜的光电性能。钨酸铋薄膜的形貌为纳米花状，薄膜形态均匀，附着性好，具有良好的可见光响应和高光电性能。

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