CVD法制氧化钨异质结
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- 发布于 2018年3月06日 星期二 11:24
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制备氧化钨异质结最常用的方法就是化学气相沉积法(CVD)。CVD 法的基本原理是在氧化钨基底上生长一种二维晶体,然后在此基础上生长不同的二维材料,从而形成二维异质结构。其主要的操作流程是将反应物以气体的形式通入反应容器中,之后发生化学反应后以固体的形式沉积在基底上。
氧化钨电子性能改善方法
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年3月05日 星期一 11:31
- 作者:Lyn
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氧化钨是一种研究最广泛的 n 型半导体光催化剂,可普遍应用于有机染料降解、水氧化、水裂解和二氧化碳还原方面。氧化钨材料具有较窄的带隙,约为 2.2-2.8 e V,受形貌和化学计量属性影响。