石墨烯与氧化钨复合薄膜1/2
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年12月28日 星期一 17:42
- 作者:huahuo
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石墨烯被称为“黑金”是目前被发现的最薄、强度最大、导热导电性能最强的新型纳米材料,是“新材料之王”, 甚至有科学家预言石墨烯将会“彻底改变21世纪”。非常有可能会掀起一场席卷全球,颠覆性的新技术革命。
太阳能是可再生能源,利用太阳能来将空气中的水分离为氢气和氧气,并以氢气作为一种新能源是有望解决目前能源匮乏以及环境问题,因此受到人们的广泛关注。在半导体中,能作为光催化制氢的材料,且具有性能稳定及低廉的成本特点的氧化钨成为了热门的研究材料。但是氧化钨(WO3)本身光生电子-空穴容易复合,限制了其光电性能,因此为了提高其光电转化性能常用的方式有半导体复合、表面敏化、贵金属沉积、离子掺杂等。将还原氧化石墨烯(RGO)作为电子的传递介质能提高半导体材料中的光电子迁移速率,大大降低光生电子-空穴复合的几率,提高半导体材料光电转化的效率。本文选择以氧化石墨烯(GO)作为制备石墨烯的前驱体,采用提拉法制备石墨烯与氧化钨制备复合膜并对其进行热处理,探究石墨烯是否能提高氧化钨光电转化性能。
石墨烯-氧化钨复合薄膜物相和形貌表征。提拉法制备的复合膜结构比较平滑,存在裂纹以及空隙,热处理之后,薄膜呈现多孔形态。复合RGO后会限制WO3纳米颗粒的生长,使其结晶度受到一定的影响,颗粒尺寸变小,同时孔间隙率也降低,整体而言薄膜较为致密。在微观状态下石墨烯与氧化钨时互相接触,WO3分布在RGO表面或者被RGO表面包裹。
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