烧结温度都为1100℃，分别在空气、氧气、氮气以及真空情况下烧结三氧化钨（WO3）陶瓷，并且从晶粒尺寸、致密度、电导率、赛贝克以及功率因子这五点分析不同的烧结气氛对WO3陶瓷造成的影响。

 

通过实验数据得出：不同的烧结气氛使陶瓷的晶粒大小与致密度变化非常大，氮气情况下，颗粒变为不规则形状，晶粒尺寸无法计算；真空情况下，晶粒尺寸偏小，晶粒生长明显被抑制；氧气情况下，晶粒尺寸与致密度最大。从电导率来看，不同气氛下烧结的WO3陶瓷电导率大小关系为：真空>氮气>空气>氧气，主要的原因为不同烧结气氛下，三氧化钨陶瓷氧空位浓度的浓度会有所不同。真空与氮气气氛下烧结的陶瓷中有大量的氧空位，一个氧空位能够为WO3陶瓷提供两个电子，载流子浓度上升，电导率变大，；而氧气气氛下的陶瓷氧空位浓度低，所以电导率更小。在四种烧结气氛中烧结的WO3陶瓷，赛贝尔系数绝对值最大为氧气气氛，真空与氮气数值差别不大，并且数值最小。而由于赛贝克系数数值大小与载流子浓度成反比，所以真空与氮气烧结出的陶瓷赛贝克系数绝对值更小。从功率因子方面来看的话，真空与氮气气氛下烧结的陶瓷比空气气氛下的稍微大一些，氧气气氛下的功率因子最小。

 

综合分析，真空与氮气气氛下烧结出的WO3陶瓷功率因子最好，并且相差不大。而空气气氛下烧结出的陶瓷虽功率因子不如前两者，大约为前两者的90%，但是由于真空与氮气气氛下陶瓷致密性很差，空气下烧结致密性显著好于前两者，多了15%左右，所以认为空气为WO3陶瓷改善热电性能的最佳烧结气氛。