钨粉粒度对钨铜电极组织性能的影响(三)
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2015年10月15日 星期四 15:40
- 作者:xiaobin
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与其他影响钨铜电极电导率的因素相比,钨粉粒度很大程度上是通过钨铜合金电极孔隙度与微结构,从而影响其电导率。一方面由于钨铜合金不能完全致密化,因此电极材料中仍然存在少量的孔隙,孔隙对电导率影响是不容忽视的;另一方面,钨粉晶粒度越小,越容易造成压制时的组织不均匀性,烧结后的骨架中的通道容易闭合或堵塞,导致材料中产生铜的富集或孔隙缺陷,并造成铜液熔渗不足或不能有效补缩,降低了熔渗后铜网络格的完整性,使得电导率越小。
此外,从电子行程路线遵循最短原则来看,钨粉粒度较小时,钨颗粒容易聚集联通起来形成闭孔。由于孔隙的堵塞和分布不均匀性,电子的路程就相应也越长,因此电导性也越差。而当钨粉粒度较大时,钨铜晶粒的分布则分布相对较均匀,闭孔隙相对较少,电子行程路线较平直,导电性就较好。
总的来说,其一钨粉越细,熔渗后的钨晶粒尺寸越小,但是产生闭孔的可能性越大,铜富集较严重,影响合金的组织均匀性;其二,随着钨粉粒度的减小,钨铜W-Cu合金的密度和硬度随之增大;其三,钨粉粒度在河大程度上影响合金的孔隙度与微观结构,进而影响其电导率。随着粉末粒度增大,电导率越高;最后,细粉易使钨铜合金电极出现闭孔和孔隙分布不均匀,并导致密度和硬度升高,但电导率较低。
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