纳米结构氧化钨的合成

气相沉积的范畴很广，通常指的是源材料气相条件下聚集到靶材基材上。生产氧化钨，通常用物理气相沉积法（PVD）。PVD法可以直接用氧化钨作为钨源，用高能蒸发升华的方法进行沉积，比如离子轰击，加热，离子束，激光辐射等等。通过参数的控制，可以实现纳米尺寸的晶体，形貌的形成，钨源并不一定氧化钨，也可以是粉末或者细丝状的钨单质，另外一定要引入氧气或其他的氧化剂来形成WO3的气相。很多时候，PVD法生成的是WOx而不是WO3，沉积物的颜色通常就可以推算出其化学计量比，通常黑色薄膜得形成都意味着形成的WOx材料中氧原子的缺失；半透明的暗蓝色的薄膜则是形成了WOx（x=2.7）；黄绿色则是说明形成的是WOx。通常情况下，通过热处理可以控制生成物中氧的含量，晶相组成和化学计量比。气相合成常用的有溅射法，气相蒸发法以及其他的一些PVD法。

溅射法就是用高能粒子轰击靶材产生原子生长薄膜的方法，其优点是可控性好，生长出来的晶体薄膜具有很好的结构可控性。溅射法比较容易操控，可以在大规模生产中实现滚动式生产，因此，在工业生产氧化钨方面，溅射法有很广泛的应用。

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