制备氧化钨薄膜- 化学气相沉积法

制备氧化钨薄膜的方法有很多，根据薄膜的性质与制备方法及工艺条件，用不同方法制备的氧化钨薄膜在尺寸和晶型等方面有所不同，以下介绍化学气相沉积法：

制备氧化钨薄膜-化学气相沉积法,是利用气体原料在气相状态下通过化学反应，形成并经过成核、生长两个阶段合成薄膜、粒子、晶须等固体材料。

首先将纯度为99.9%的金属钨放在一个刚玉瓷舟中，再把瓷舟放在直径4cm，长80cm的石英管式炉中间的位置。刚玉作为沉积氧化钨的基底材料也置于刚玉瓷舟中位于下风口方向的位置，接着把石英管式炉正中温度加热至900℃时，以20sccm的流速通氧气8h，待热氧化过程结束，取出瓷舟，温室下自然冷却即可在刚玉基地上发现沉积得到的黄色的约20μm后的氧化钨薄膜。


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