如何制作二硫化钨涂层螺栓定位销?
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2019年9月11日 星期三 14:17
- 作者:Yanqiu
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二硫化钨涂层螺栓定位销采用二硫化钨涂层处理定位销表面、用于螺栓工件固定。制作该种定位销要求在氮化钛(TiN)涂层基底上附上二硫化钨涂层。
二硫化钨螺栓定位销结构大致包括定位销主体100、头部110、尾部120、垫片130、工件300、表面涂层400。其中,定位销主体包括头部、尾部,头部和尾部相连;头部和尾部之间设置垫片;定位销主体表面使用二硫化钨涂层,表面涂层厚度为5-7mm。
二硫化钨涂层螺栓定位销制作过程如下:
- 定位销主体100或者头部110经过超声波清洗除油;
- 将TiN以金属蒸汽真空弧(MEVVA)离子注入技术结合到模具钢表面,形成润滑膜基底层,层厚度为0.005μm。
- 在TiN基底涂层上,以物理气相沉淀技术中的射频溅射方式,附上二硫化钨涂层,层厚度为0.5μm。
氮化钛(TiN),非化学计量化合物,其稳定的组成范围为TiN0.37-TiN1.16,氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化。TiN粉末一般呈黄褐色,超细TiN粉末呈黑色,而TiN晶体呈金黄色。TiN熔点为2950℃,密度为5.43-5.44g/cm3,莫氏硬度8-9,抗热冲击性好。 TiN膜是一种超硬涂层,具有高硬度、高耐磨性、低摩擦系数、高抗腐蚀能力特点,广泛应用于机械加工中的工模具涂层。
MEVVA离子注入技术是一种先进的强流、大面积视线加工处理新技术。设备配置了MEVVA离子源,它将工作介质(各种金属、碳、导电化合物)作为阴极,进行真空弧放电产生高密度等离子体,在高真空静电场下,引出并加速形成高能强流金属离子束。载能离子轰击注入被处理工件表面,引起材料表面成份和结构变化,提高耐磨、耐蚀、抗疲劳等性能,有利于延长材料使用寿命。
射频溅射是利用射频放电等离子体中的正离子轰击靶材、溅射出靶材原子,从而沉积在接地的基板表面的技术。该技术用交流电源代替直流电源就构成了交流溅射系统,可以用来沉积任何固体材料的薄膜。常用的交流电源的频率在射频段(5~30MHz)。获得的薄膜具备致密、纯度高、与基片附着牢固等特点。
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