氧化钨纳米材料XPS谱图
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2018年3月01日 星期四 11:04
- 作者:Lyn
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为了考察氧化钨纳米材料的非化学计量特性,能够采用XPS 谱图来测定获得的氧化钨纳米材料中的各元素的价态信息及其表面组成。XPS谱图能够清楚地显示氧化钨纳米粉体有钨和氧两种元素,并不含有其他杂质元素。
从氧化钨纳米材料的XPS谱图中可以清楚地看到,谱图被分为四个峰,其中两个强度较大的主峰,37.5 eV和35.4eV是六价钨离子的特征峰,而位于36.5eV和34.6eV是五价钨离子的特征峰。所得氧化钨中有低价态钨离子的存在,说明水热法所制得氧化钨中存在游离的氧空位,而氧缺陷的存在可能会对样品的催化性能有着一定的影响。数据的结果表明,在氧化钨纳米材料中钨元素的化合价主要是六价钨离子,五价钨离子的浓度占所有钨元素的百分比约为17%。
为进一步研究缺陷的形成,测试了所得缺陷氧化钨纳米材料样品在200-800nm的光吸收特性。同时与化学计量型氧化钨作对比。从而研究非化学计量氧化钨纳米材料禁带宽度的变化。可以看出,氧化钨由于其禁带宽度为 2.6 e V,所以氧化钨仅在可见光区有响应。与普通氧化钨相比,氧化钨纳米材料不仅在可见光区有吸收,在近红外区也有一个强烈的吸收,证明了所得的氧化钨纳米材料包含有大量氧缺陷。
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