缺陷氧化钨纳米材料的合成

缺陷氧化钨纳米材料因其独特的结构性质与优良性能，在钨制品产业受到了广泛关注。利用传统的溶剂热方法可以制备出具有缺陷氧化钨纳米材料。缺陷氧化钨纳米材料的合成方法如下：

首先，将 913 mg 的钨酸铵与183mg的柠檬酸溶解在15mL的蒸馏水中，对其搅拌 15 分钟后转移至 20mL的聚四氟乙烯反应釜中。之后加热至 180℃反应12h。然后让反应釜自然冷却至室温。取出反应液后，先用蒸馏水反复洗涤，直至溶液呈中性，再用乙醇洗涤三次后离心得到产物。最后，将蓝色固态产物在 60℃真空干燥箱中干燥 12 h，最终得到蓝色的缺陷纳米氧化钨材料样品。

对所得缺陷氧化钨纳米材料通过扫描电子显微镜对材料的表面形貌和尺寸等进行表征。可观察到氧化钨形貌是互相交织呈网状的纳米线，长度约 0.05-1.5 μm，直径约为 15-20 nm。对缺陷氧化钨经透射电子显微镜进行了表征，结果显示与电镜图一致，缺陷氧化钨形貌为长短不一的纳米线。为了更好地研究缺陷氧化钨的生长特性及其方向，使用高分辨透射电子显微镜对氧化钨纳米材料进行了进一步的研究。可以看出缺陷氧化钨纳米线的晶格间距为 0.367 nm，数据与氧化钨(110)晶面数据符合。同时，注意到氧化钨纳米线在(110)晶面形成 90°的夹角，对应的晶格间距分别为 0.367nm 和 0.320nm，这证明六方相氧化钨是沿着(110)方向生长的。

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