制备二硫化钨薄膜的化学方法
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- 分类:钨业知识
- 发布于 2022年9月14日 星期三 08:41
- 作者:Caodan
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用化学方法制备二硫化钨(WS2)薄膜的两种常见方法是化学气相沉积(CVD)和在高温高压条件下用水热法从水溶液中生长单晶WS2。CVD是用于制备WS2的最常用方法。CVD方法涉及一个反应过程,其中气态前体在固体表面发生化学反应,生成固体沉积物。
用化学方法制备二硫化钨(WS2)薄膜的两种常见方法是化学气相沉积(CVD)和在高温高压条件下用水热法从水溶液中生长单晶WS2。CVD是用于制备WS2的最常用方法。CVD方法涉及一个反应过程,其中气态前体在固体表面发生化学反应,生成固体沉积物。
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